「Beam Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for deciding quickly and highly precisely a reference point in machining, from an alignment mark set on a workpiece for the purpose of indicating a reference point in design, and also to provide a laser beam machine.例文帳に追加

設計上の基準点を表示するためにワーク上に設けられたアライメントマークから、迅速かつ高精度に加工上の基準点を決定することができる、加工上の基準点の位置決定方法およびレーザ加工機を提供すること。 - 特許庁

To provide a multistage and multiplex magnetic pole lens system, used in an energy analyzer for an electron microscope and an electron energy analyzer using the same, for simplifying the alignment of the center axes of a plurality of axially symmetrical lens systems to the track of a beam, as much as possible.例文帳に追加

電子顕微鏡用のエネルギーアナライザーに用いる多段多重磁極子レンズ系及びそれを用いた電子エネルギー分析器において、複数の軸対称レンズ系の中心軸を、ビームの軌道に合わせる調整をできるだけ簡便にする。 - 特許庁

In the manufacturing method of a multilayer printed wiring board, a barrier layer 50 for preventing laser beam from proceeding is formed on a foundation layer 2, which is a work substrate W and a alignment mark 9 is formed thereon corresponding to the barrier layer 50.例文帳に追加

本発明の多層プリント配線基板の製造方法においては、ワーク基板Ｗをなす下地層２上にレーザビームの進行を阻止するためのバリア層５０を形成し、その上にバリア層５０に対応させてアライメントマーク９を形成する。 - 特許庁

With respect to at least one out of a TFT array substrate 1 and a counter substrate 4, no alignment layer made of an organic polymer is formed on the electrode composed of ITO and the electrode surface is directly irradiated with an energy beam 2 from an oblique direction.例文帳に追加

本発明では、ＴＦＴアレイ基板と対向基板の少なくとも一方において、ＩＴＯから成る電極上に有機高分子から成る配向膜を形成せず、電極表面に直接エネルギービームを斜め方向から照射する。 - 特許庁

A reflection-type pattern transfer apparatus, having a beam source for radiating charged particle beams, a first stage for mounting a mask 103 and a second stage for mounting a wafer provides a accurate alignment method for reflecting to the control of a wafer stage 105 and a mask stage 104.例文帳に追加

荷電粒子ビームを照射する線源と、マスクを載置する第１のステージと、ウェハを載置する第２のステージをもつ反射型のパターン転写装置で、ウェハステージ、マスクステージの制御に反映するための高精度なアライメント方法を提供する。 - 特許庁

When the laser beam machining is performed on the glass substrate conveyed from the film deposition apparatus, the glass substrate is subjected to an alignment treatment, and thereafter, the glass substrate is held at both sides along the conveying direction and moved while being air-lifted.例文帳に追加

これらの成膜装置から搬送されてくるガラス基板に対してレーザ加工を行なう場合、ガラス基板に対してアライメント処理を行い、その後にガラス基板を搬送方向に沿った両辺で保持してエア浮上させながら移動させている。 - 特許庁

To ensure accurate alignment of the lens cylinder 32 and the circuit board, one or more interferometers 34, 35 use a plurality of beams having respective paths, that is, a plurality of beam lengths which change depending on the movement of the optical axis.例文帳に追加

レンズ筒３２と回路基板との正確な位置合わせを確実にするため、一つあるいは二つ以上の干渉計３４、３５は、それぞれの通路を有する複数のビーム、すなわち光学軸の移動に応じて変化する複数のビーム長さを使用する。 - 特許庁

The elastic frame 41 has elasticity and beam parts 45 of the elastic frame 41 are disposed in the space 25 between LEDs 21, whereby the worker can easily perform alignment between them and mounting work without using screws, a double-sided tape, or the like.例文帳に追加

弾性フレーム４１が伸縮性を持つこと、また、弾性フレーム４１のビーム部４５がＬＥＤ２１間のスペース２５に配置されることにより、ネジや両面テープ等を用いることなく、作業者がそれらの位置合わせ及びその装着作業を容易に行うことができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus for an optical semiconductor module in which the highly precise optical axis alignment is enabled, even if infrared rays penetrate neither optical parts nor substrates and in addition, even if the laser beam is not oscillated by energizing LD(Laser Diode) in the state where the LD is not joined to the substrate.例文帳に追加

光部品や基板を赤外線が透過しなくても、しかも基板に接合しない状態でＬＤに通電してレーザ光を発振しなくても、高精度の光軸合わせが可能な光半導体モジュールの製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

When aligning the crystal direction of the sample to an optical axis of a scanning transmission electron microscope, accurate and quick crystal direction alignment can be performed since a direction for inclining the sample can be directly determined from the shape of the electron beam diffraction image.例文帳に追加

本発明によれば、ＳＴＥＭの光軸に対して試料の結晶方位を合わせる際、試料を傾斜させるべき方向を電子線回折像の形状から直接判断することができるため、正確かつ迅速な結晶方位合せが可能となる。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device which performs visual field alignment for measurement with a high precision regardless of frictional heat generated from a stage mechanism even in the case that a cumulative movement distance of a stage is long due to the existence of many measurement points.例文帳に追加

本発明は、測定点数が多数存在し、ステージの累積移動距離が大きくなるような場合であっても、ステージ機構から生じる摩擦熱に依らず、測定のための視野合わせを高精度に行う荷電粒子ビーム装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid crystal element having oblique vapor deposition films which function as horizontal alignment layers to obtain a suitable pretilt angle of a liquid crystal molecule and is formed with a simple constitution, as the liquid crystal element on which a blue laser beam having 390 to 500 nm wavelength is made incident.例文帳に追加

３９０ｎｍ〜５００ｎｍの青色レーザー光を入射させる液晶素子において、水平配向膜として機能し、液晶分子の適切なプレチルト角が得られ、かつ簡易的な構成で形成される斜方蒸着膜を有する液晶素子を提供する。 - 特許庁

Thus, since the part having the good uniformity of the period of the inversion layer is enlarged about twice around the axis C, a beam alignment is facilitated, and even when the position is slightly deviated, high conversion efficiency is obtained and hence its output can be increased.例文帳に追加

これにより、光軸Ｃの周りで分極反転層の周期の均一性が良好である部分は約２倍に拡大されるため、ビームの位置合わせが容易になり、その位置が多少ずれても高い変換効率が得られるので出力を大きくすることができる。 - 特許庁

The automatic alignment device is constructed of a sampling means 11b for extracting charged particle beam shape from a testpiece surface image, a calculating means 11c for calculating the axial deviation amount of the device from the position of the shape of the charged particle beam extracted, and a feedback means 11d which automatically applies feedback to an aberration corrector 6 or an objective lens based on the axial deviation amount calculated.例文帳に追加

試料表面像から荷電粒子ビーム形状を抽出する抽出手段１１ｂと、抽出された荷電粒子ビームの形状の位置から装置の軸ずれ量を算出する算出手段１１ｃと、算出された軸ずれ量に応じて収差補正器６又は対物レンズに対してフィードバックを自動でかけるフィードバック手段１１ｄとを有して構成される。 - 特許庁

At the point of time when the first machining process by a laser beam is finished, the image of places including both a shape changed portion formed by the machining process and the edge part of the substrate are obtained, and the image is utilized for the alignment process before the machining process in the next time or later.例文帳に追加

レーザ光による最初の加工処理が終了した時点で、その加工処理によって形成された形状変化部分と基板の縁部の両方を含む箇所の画像を取得し、その画像を次回以降の加工処理前のアライメント処理に利用するようにした。 - 特許庁

Two neutral particle beams 14 generated by a neutral particle beam source 1 are radiated in the predetermined angle to a substrate 3 to generate a crystal core controlling the crystal alignment, and the substrate 3 is also heated with a heating apparatus 2 to realize solid-phase epitaxial growth of this crystal core.例文帳に追加

中性粒子ビーム源１により発生させた２つの中性粒子ビーム１４を、基板３に対し所定の角度から照射して結晶方位を制御しながら結晶核を発生させ、基板３を加熱装置２により加熱して、この結晶核を固相エピタキシャル成長させる。 - 特許庁

In a microlens array sheet 35 having a light shielding substrate 24 and a microlens array 27, the light shielding substrate 24 is irradiated with a laser beam 32 from the microlens array 27 side by utilizing the lens effect and an inverse-truncated conical self-alignment hole 33 is formed on the light shielding substrate 24.例文帳に追加

遮光性基材２４及びマイクロレンズアレイ２７を有するマイクロレンズアレイシート３５において、レンズ効果を利用してマイクロレンズアレイ２７側からレーザ光３２を遮光性基材２４に照射して、遮光性基材２４に逆円錐台形状のセルフアライメント孔３３を形成する。 - 特許庁

When the first machining treatment by laser beam is completed, an image of a part including a shape-changed part (a scribe line P1) formed by the machining treatment is acquired, and the image is used for the machining position alignment treatment before the treatment of the second and subsequent machining (scribe lines P2, P3).例文帳に追加

レーザ光による最初の加工処理が終了した時点で、その加工処理によって形成された形状変化部分（スクライブ線Ｐ１）を含む箇所の画像を取得し、その画像を次回以降の加工（スクライブ線Ｐ２，Ｐ３）の処理前の加工位置アライメント処理に利用するようにした。 - 特許庁

To obtain an X-ray measurement apparatus which attain improvement in the spatial intensity distribution of the flux, alignment of an energy distribution and radiation doses of flux of the intensities in peripheral sections, with those in the center section and the decrease in measurement errors caused by measurement positions, while restraining occurrence of beam hardening.例文帳に追加

ビームハードニングの発生を抑制しつつ、フラックスの空間的な強度分布を改善し、中央部と周辺強度のフラックスのエネルギー分布と線量を揃え、測定位置に起因する測定誤差を低減することを可能とするＸ線測定装置を実現する。 - 特許庁

As a more concrete example, by impressing a negative voltage on the sample, the electron beam is made to have a state that it is reflected without reaching the sample, and changes in detecting positions of the reflected electrons obtained, when prescribed signals are supplied to a deflector for alignment is monitored.例文帳に追加

より具体的な一例として、試料に負の電圧を印加することで、電子ビームを試料に到達させないで反射させる状態とすると共に、アライメント用の偏向器に所定の信号を供給したときに得られる上記反射した電子の検出位置の変化をモニタする。 - 特許庁

The electron beams B1, B2 emitted from the electron guns 3A, 3B are bent by a beam bending mechanism 8 so that their irradiation direction toward a substrate 2 coincide with each other, further, made to pass through an alignment coil 9 and an objective lens 10, scanned by a scanning coil 11, and irradiated on the same position of the substrate 2.例文帳に追加

電子銃３Ａ，３Ｂから放出された電子ビームＢ_１，Ｂ_２は、ビーム曲げ機構８によって基板２に対する照射方向が一致するように曲げられ、更にアライメントコイル９及び対物レンズ１０を通り、走査コイル１１により走査されて基板２の同じ位置に照射される。 - 特許庁

A photographer moves a fixation target by a laser beam source 8 projected on a ceiling S by operating operation switches 19a to 19d, and performs the observation alignment in a sense of moving and observing the animation image Ma in a wide eyeground image by moving an eyeball.例文帳に追加

撮影者は操作スイッチ１９ａ〜１９ｄを操作することにより、天井Ｓに投影したレーザー光源８による固視目標を移動して、眼球を動かすことにより、広い眼底像の中を動画像Ｍａを動かして観察している感覚で観察アライメントを行う。 - 特許庁

The aligner 100 has optical systems (an illumination optical system 130, a projection optical system 150 and an alignment system 170) projecting a light beam emitted from a light source 110 to a wafer 320 held on a stage device 160 through a reticle 310 and exposing the wafer 320.例文帳に追加

露光装置１００は、光源１１０から出射された光ビームをレチクル３１０を介してステージ装置１６０に保持されたウエハ３２０に投影して露光するための光学系（照明光学系１３０、投影光学系１５０及びアライメント系１７０）を有する。 - 特許庁

(a) A substrate to be worked is prepared in which a plurality of incident positions to be machined by irradiation with a laser beam are defined and in which, at least on some incident positions, an alignment mark is formed, wherein a relative positional relation is determined with each incident position.例文帳に追加

（ａ）レーザ入射により加工すべき複数の被入射位置が画定されており、少なくとも一部の被入射位置について、該被入射位置ごとに当該被入射位置との相対位置関係が決められたアライメントマークが形成されている加工対象基板を準備する。 - 特許庁

Furthermore, by having the liquid crystal composition 14 irradiated at the injection region 31a with a laser beam to randomize its direction of alignment, so that a light-shielding liquid crystal composition 40, which does not transmit liquid and displays black, is formed so as to prevent light leakage from the injection region 31a.例文帳に追加

又注入領域３１ａにおける液晶組成物１４にレーザ光を照射して配向方向をランダムにする事により、光透過をせず、黒表示する遮光性液晶組成物４０を形成し、注入領域３１ａからの光漏れを防止する。 - 特許庁

A correction similar to the correction of irradiated region with respect to the pattern matching processing from the usual secondary ion image or secondary electron image of the ion beam defect correcting device is performed and a defect region 3b which is extracted by the AFM and is subjected to fine adjustment by the conformation of the pattern for alignment is corrected by ion beams 8.例文帳に追加

イオンビーム欠陥修正装置の通常の二次イオン像もしくは二次電子像からのパターンマッチング加工に対する照射領域の補正と同様な補正を行い、AFMで抽出し、位置合わせ用のパターンの合わせ込みで微調整された欠陥領域3bをイオンビーム8で修正する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method, which enable self-alignment, facilitate manufacturing, and enable low-temperature bonding, since a bump arranged between semiconductor chips is fused by having four entire circumferences of a semiconductor chip irradiated with a laser beam at the same time as after the semiconductor chips are stacked, and electronic equipment.例文帳に追加

半導体チップを積層した後、半導体チップの４つの全周囲から同時にレーザ光を照射して半導体チップ間に配設したバンプを溶融するためにセルフアライメントができるとともに、製造が容易となり、かつ、低い温度で接合ができる半導体装置及びその製造方法、ならびに電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide an optical axis alignment method and laser device that brings the optical axes of laser beams or separates them one another, can freely adjust the optical axis interval of each laser beam, and can improve a yield in a semiconductor laser device that emits a plurality of laser beams.例文帳に追加

複数のレーザ光をする半導体レーザ装置において、各レーザ光の光軸を相互に接近または離間させて、各レーザ光の光軸間隔を自由に調整することができ、ひいては歩留まりを向上することができる光軸アラインメント方法およびレーザ装置を提供することをその課題とする。 - 特許庁

In the microlens array sheet 15 comprising a transparent substrate 4, a microlens array 7 and a light shielding layer 10, the light shielding layer 10 is irradiated with a laser beam 12 from the microlens array 7 side via a transparent substrate 4 by utilizing a lens effect and an inverse-truncated conical self-alignment hole 13 is formed on the light shielding layer 10.例文帳に追加

透明基材４，マイクロレンズアレイ７，及び遮光層１０を有するマイクロレンズアレイシート１５において、レンズ効果を利用して透明基材４を介してマイクロレンズアレイ７側からレーザ光１２を遮光層１０に照射して、遮光層１０に逆円錐台形状のセルフアライメント孔１３を形成する。 - 特許庁

The electron beam transmitted through a subfield 3 in the position distant from an optical axis 2 on a reticle 1 is made to pass nearly along the orbit in alignment with the straight line, which connects the subfield 3 to a target image focus location 5 on the wafer 4 by means of a magnetic deflection device, and thus a projection optical system 6 is optimized under the conditions of passing along this orbit.例文帳に追加

レチクル１上の、光軸２から離れた位置にあるサブフィールド３を透過した電子ビームは、電磁偏向器により、概ねサブフィールド３と、そのウエハ４上での目標結像位置５を結ぶ直線に沿った軌道を通るようにされており、この軌道を通るという条件の下に投影光学系６が最適化されている。 - 特許庁

The positioning reference mark Q on the glass substrate A is detected through the glass substrate B by a CCD camera 12 installed inside a machining head 7, which is fed back to X axis stage and Y axis stage to carry out precise positioning for the necessary point, and then the alignment mark is machined by irradiation of the laser beam 5 at the position P overlapped with the position detection mark P.例文帳に追加

加工ヘッド７内部に設けたＣＣＤカメラ１２によりガラス基板Ｂを透過してガラス基板Ａの位置参照マークＱを検出し、これをＸ軸ステージおよびＹ軸ステージにフィードバックして必要な場所で精密な位置決め行ない、レーザビーム５の照射により位置検出マークＰと重なる位置Ｐにアライメントマークを加工する。 - 特許庁

The optical element is formed by aligning a refractive lens face 4 and a lens unit 10 having a nonaxisymmetric total reflection lens face 5 with a focus F in the vicinity of the lens surface center of the refractive lens face, wherein in the alignment, a plurality of kinds of lens units with mutually different main light beam directions 32 of the diffusion pencil of light beams 7 are mixed with one another.例文帳に追加

屈折型レンズ面４と該屈折型レンズ面のレンズ表面中心付近に焦点Ｆをもつ非軸全反射型レンズ面５を有するレンズユニット10を基板２の主面に配列してなる光学素子であって、前記配列を、拡散光線束７の主光線方向32の相異なる複数の種類のレンズユニットが混在する配列とした。 - 特許庁

The reflected light transmits the polarizing beam splitter PBS3 from the collimator lens CL4 via the objective lens OL, reaches a photodetector PD30 via a knife edge NE20 provided in a second focal position of reflected light transmitting the collimator lens CL4 when the optical disk DISC exists in a first focal position, and a circular image is formed on the surface in the same alignment as the central optical axis.例文帳に追加

反射光は、対物レンズＯＬを介してコリメータレンズＣＬ４から偏光ビームスプリッタＰＢＳ３を透過し、光ディスクＤＩＳＣがビームの第１の合焦位置にあるときコリメータレンズＣＬ４を透過する反射光の第２の合焦位置に設けられるナイフエッジＮＥ２０を経由してフォトディテクタＰＤ３０に到達し、中心の光軸を同一直線上にした面で円形像を結ぶ。 - 特許庁

This liquid crystal panel is provided with unevenness for distorting the alignment of liquid crystal molecules along a surface of a liquid crystal layer which comes into contact with an adjacent layer on the surface, and the liquid crystal layer contains liquid crystal with positive dielectric constant anisotropy and a polymer obtained by irradiating a polymerizable compound in the liquid crystal layer with an active energy beam in the absence or presence of an applied voltage.例文帳に追加

この液晶パネルでは、液晶層が隣接する層と接触する面に、液晶分子の配向を前記基板面に沿った方向に歪ませるための凹凸を設け、この液晶層が、正の誘電率異方性を有する液晶と、当該液晶層中で重合性化合物に電圧無印加状態または電圧印加状態で活性エネルギー線を照射して得られたポリマーとを含有する。 - 特許庁