「Colloidal Crystal」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A colloidal crystal structure is provided in which a colloidal crystal comprising a great number of self-assembled and periodically arrayed particles is fixed with a polymer of monomers, and the particles are embedded by the polymer, while there is no liquid medium in between the particles.例文帳に追加

本発明によるコロイド結晶構造体は、自己組織的に周期配列した多数の粒子からなるコロイド結晶がモノマーの重合体によって固定されてなるコロイド結晶構造体であって、粒子間に液体媒質が存在しない状態で重合体により埋められていることを特徴とする。 - 特許庁

The colloidal crystal having the large domain is formed by imparting a shearing flow to a dispersion in which monodispersive particles are dispersed disorderedly and leaving the shearing flow-imparted dispersion as it is.例文帳に追加

単分散粒が無秩序に分散した分散液にせん断流動を与えた後、これを静置させることで、大きなドメインを有するコロイド結晶を形成させる。 - 特許庁

By this method, fine particles piled up on the edge part of the liquid droplet at random are stirred and rearranged to form a two-dimensional colloidal crystal film having the closest packing structure.例文帳に追加

これにより、液滴の縁部でランダムに積み上げられた微粒子が攪拌されて再配置され、最密充填構造を有する２次元コロイド結晶膜が形成される。 - 特許庁

To obtain both a high-purity colloidal silica usable for polishing processing of an electronic material such as a silicon wafer, a compound semiconductor wafer, a semiconductor device wafer, a magnetic disk substrate or a rock crystal substrate, containing a trace amount of metal impurities and producible at a low cost, and to provide a method for producing the colloidal silica.例文帳に追加

シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ、半導体デバイスウエハ、磁気ディスク基板、水晶基板等の電子材料の研磨加工に用いることのできる，極めて少量の金属不純物量の，且つ低コストで製造できる高純度コロイダルシリカ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The colloidal crystal gel is the one in which fine particles self-organizingly arrange themselves in a periodic manner in a polymer gel and an ionic liquid is contained in the polymer gel.例文帳に追加

本発明によるコロイド結晶ゲルは、高分子ゲル中に微粒子が自己組織的に周期配列されており、上記高分子ゲルにイオン液体が含有されていることを特徴とする。 - 特許庁

The temperature-sensitive member 30 supplies moisture to the expansive-contractile material 24 according to temperature, and by swelling of the expansive-contractile material 24, the spacing of the colloidal crystal grains 23 is varied.例文帳に追加

感温性部材３０は温度により水分を膨張収縮材２４に供給し、膨張収縮材２４が膨潤することでコロイド結晶粒子２３の面間隔を変更する。 - 特許庁

To provide a colloidal crystal having a three dimensional periodic structure which does not require a special container nor controls under complicated conditions and is quickly and simply manufactured and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

特殊な容器や複雑な条件のコントロールを必要とせず、迅速、簡便に作製しうる三次元周期構造を有するコロイド結晶体、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the SiC crystal polishing method for polishing the (000-1) carbon plane of the SiC single crystal substrate, polishing is executed using a polishing agent in which an organic solvent having hydrophilic property is contained as a medium in grains consisting of colloidal silica, and an oxidizer.例文帳に追加

ＳｉＣ単結晶基板の（０００−１）カーボン面を研磨するＳｉＣ結晶研磨方法において、研磨加工する際に、コロイダルシリカから成る砥粒に親水性を持つ有機溶剤を溶媒とした研磨剤と酸化剤とを用いて研磨加工を行う。 - 特許庁

To provide monodispersed crosslinked polymer fine particles having sufficiently uniform particle diameters and sufficient durability, and suitably usable as a material of e.g. a colloidal crystal membrane.例文帳に追加

十分に均一な粒子径を有し、しかも十分な耐久性を有しており、例えばコロイド結晶膜の材料として好適に用いることが可能な単分散架橋ポリマー微粒子を提供すること。 - 特許庁

In the colloidal crystal, the three dimensional periodic structure is formed by core-shell type particulates having a core section which is not soluble to water nor a hydrophilic solvent and a shell layer which is solvated to water or the hydrophilic solvent.例文帳に追加

本発明は水又は親水性溶媒に不溶なコア部と、前記水又は親水性溶媒に溶媒和されるシェル層とを有するコア−シェル型微粒子が三次元周期構造を形成しているコロイド結晶体。 - 特許庁

To provide a colloidal solution suitably used to obtain colloidal crystal which is free of sedimentation and secondary cohesion etc. of even high-density particulates in use, has superior dispersion stability as the particulates keep specified intervals, maintains a crystal structure in which even high-density particulates are regularly and periodically arrayed in three dimensions at specified intervals, and also has superior optical characteristics as a photonic material.例文帳に追加

高密度の微粒子を用いた場合であっても、微粒子の沈降や二次凝集等が生じることがなく、微粒子同士が所定間隔を保ち、分散安定性に優れるとともに、高密度の微粒子であっても、微粒子同士が所定間隔を保って規則的かつ周期的に３次元配列した結晶構造を維持することができ、フォトニック材料としての光学特性に優れるコロイド結晶を得るに適したコロイド溶液を提供する。 - 特許庁

This polishing composition is mainly used for polishing a polishing object formed of silicon carbide single crystal, and the composition contains abrasive grain such as colloidal silica and iodine compound such as ortho periodic acid or meta sodium periodate.例文帳に追加

本発明の研磨用組成物は、炭化ケイ素単結晶からなる研磨対象物を研磨する用途で主に使用されるものであり、コロイダルシリカなどの砥粒と、オルト過ヨウ素酸やメタ過ヨウ素酸ナトリウムなどのヨウ素化合物とを含有する。 - 特許庁

The nanocrystal aggregate where the nanocrystals of single crystal particles having a particle diameter of 1-20 nm are aligned and gathered toward a specific crystal direction by irradiating a mixed solution containing one or more metal ions and a colloidal dispersion solution with ultrasonic waves and where the particle diameters of the aggregate are uniform in the range of 100 nm and 50 μm is produced.例文帳に追加

１種以上の金属イオンを含む混合溶液やコロイド分散溶液において超音波を照射することにより、粒径が１ナノメートルから２０ナノメートルの単結晶粒子の、ナノクリスタルが特定の結晶方位を向いて整列・集合し、集合体の粒径が１００ナノメートル〜５０マイクロメートルの範囲で揃っているナノクリスタルの集合体を製造する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an adhesive spacer for a liquid crystal display apparatus, by which high coating efficiency on surfaces of seed particles and excellent productivity of spacer particles can be obtained, preferable dispersion stability (colloidal stability) after coating is obtained, and the thickness and amount of a coating layer can be easily controlled.例文帳に追加

シード粒子表面への被覆効率が高く、スペーサー粒子の生産性にも優れるとともに、被覆後の分散安定性（コロイド的安定性）も良好で、被覆層の厚みや量を容易に制御できる、液晶表示装置用接着性スペーサーの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new colloidal silica which is produced easier at a lower cost, contaminated less with metal impurities than the conventional ones, and used for polishing electronic materials such as silicon wafers, compound semiconductor wafers, semiconductor device wafers, magnetic disc substrates and crystal substrates.例文帳に追加

従来のコロイダルシリカよりも製造が容易で、製造コストが低く、金属不純物による汚染が少なく、シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ、半導体デバイスウエハ、磁気ディスク基板、水晶基板等の電子材料の研磨加工に用いることのできる新規なコロイダルシリカを提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently producing, using a spay coating technique, a colloidal crystal film being fully smooth and having reflection peak of sufficiently high reflectivity in its reflection spectrum, and enabling a large-area film formation irrespective of the base material's form.例文帳に追加

スプレー塗装を採用し、十分に平滑で且つ反射スペクトルにおいて十分に高い反射率の反射ピークを有するコロイド結晶膜を効率よく製造することができ、基材の形状に拘わらず、大面積に成膜することが可能なコロイド結晶膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The photoresist composition for use in the production of a fine circuit such as a liquid crystal display circuit or a semiconductor integrated circuit includes: (a) an alkali-soluble resin; (b) a photosensitive compound; (c) a colloidal inorganic substance; and (d) an organic solvent.例文帳に追加

本発明は液晶表示装置回路、半導体集積回路などの微細回路製造に使用されるフォトレジスト組成物に関するものであって、より詳しくは、（ａ）アルカリ可溶性樹脂；（ｂ）感光性化合物；（ｃ）コロイド状無機物；及び（ｄ）有機溶媒を含むフォトレジスト組成物に関するものである。 - 特許庁

To provide photonic crystal which has superior optical characteristics in a cyclic structure (inverted opal type structure) obtained by removing the closest packing structure part from the closest packing structure (opal type structure) obtained by removing a solvent from a fine-sphere colloidal suspension.例文帳に追加

微小球のコロイド懸濁液から溶媒を除去して得られる最密充填構造体（オパール型構造体）より、最密充填構造部分を除去することにより得られる周期構造体（逆オパール型構造体）において光学特性の優れたフォトニック結晶を提供する。 - 特許庁

The polishing method finish polishes (polishes) the surface of the silicon carbide single crystal roughly polished (lapped) by a diamond mechanical polishing with a colloidal silica slurry having a high oxidizing property or including a large amount of dissolved oxygen to remove the work-affected layer occurred during the diamond mechanical polishing, efficiently creating the high quality surface.例文帳に追加

ダイヤモンド機械研磨で荒研磨(ラップ)した炭化珪素単結晶ウェハ表面を、酸化性が高い或いは溶存酸素を豊富に含むコロイダルシリカスラリーで仕上げ研磨(ポリッシュ)することで、ダイヤモンド機械研磨で発生した加工変質層を除去して高品質な表面を効率的に創成する研磨方法である。 - 特許庁

This polishing composition is mainly used for the purpose of polishing a polishing object formed of silicon carbide single crystal, and the composition contains abrasive grains such as colloidal silica and iodine compound such as ortho periodic acid or meta-sodium periodate, and further contains alkali such as lithium hydroxide and ammonia at need.例文帳に追加

本発明の研磨用組成物は、炭化ケイ素単結晶からなる研磨対象物を研磨する用途で主に使用されるものであり、コロイダルシリカなどの砥粒と、オルト過ヨウ素酸やメタ過ヨウ素酸ナトリウムなどのヨウ素化合物とを含有し、水酸化リチウムやアンモニアなどのアルカリを必要に応じてさらに含有する。 - 特許庁

Moreover, in the manufacturing method of the colloidal crystal, the core-shell type particulates having the core section which is not soluble to water nor the hydrophilic solvent and the shell layer which is solvated to water or the hydrophilic solvent are dispersed to water or the hydrophilic solvent to produce dispersion liquid and the water or the hydrophilic solvent is removed from the dispersion liquid.例文帳に追加

また、本発明は水又は親水性溶媒に不溶のコア部と、前記水又は親水性溶媒に溶媒和されるシェル層とを有するコア−シェル型微粒子を前記水又は親水性溶媒に分散させた分散液から、前記水又は親水性溶媒を除去する三次元周期構造を有するコロイド結晶体の製造方法。 - 特許庁

The surface of the sapphire wafer is specular-polished which is acquired from crystal reared under the Czochralski method with no pit since the colloidal silica the content of the silica of which is adjusted to be 35 to 50 wt.% is applied as the polishing liquid under this polishing method, and consequently, a favorable epitaxial film is provided by using the sapphire wafer as a substrate.例文帳に追加

この研磨方法によれば、シリカの含有量が３５〜５０重量％に調整されたコロイダルシリカを研磨液として適用するため、チョクラルスキー法で育成された結晶から得られたサファイアウェハー表面にピットのない鏡面研磨が可能となり、この結果、上記サファイアウェハーを基板として用いることにより良好なエピタキシャル膜が得られる。 - 特許庁

To solve the problem that although depression of a plurality of pressing members is independently controlled while sufficient force is applied thereto in order to cause a colloidal crystal sheet with a relatively large area to be pressed with a pressing member from its surface direction, to generate sufficient and uniform color change and to vary display forms, it is not realistic to use a complicated mechanism.例文帳に追加

比較的大きな面積のコロイド結晶シートをその面方向から押圧部材で押圧し、当該シートに充分かつ均等な色変化を生じさせ、かつ表示形態に変化をもたせるには、複数の押圧部材へ充分な力を与えつつそれらの押圧を独立して制御することとなるが、複雑な機構を採用することは現実的でない。 - 特許庁

The formation and controlled growth of colloidal nanoparticle of barium hexaferrite occurs under a supercritical water (SCW) condition by (1) firstly, mixing supercritical water and a precursor liquid at a mixing point to form a single nanocrystal, (2) next, mixing an organic molecule with high temperature water, and (3) lastly, reacting selectively the organic molecule and the surface of a specific inorganic crystal.例文帳に追加

バリウムヘキサフェライトのコロイド状ナノ粒子の形成は、超臨界水(SCW)条件下に、(1)最初に、混合点で超臨界水と前駆体液が混ぜられ、単一のナノ結晶が形成され、(2)次に、有機分子が高温の水と混和せしめられ、(3)最後に、有機分子と特定の無機結晶の表面とが選択的に反応することによって、ナノ粒子の制御された成長が起こる。 - 特許庁