「IMPRINT」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

Therefore, this manufacturing method of the microstructure 1 is an imprint method which hardens the pattern formation layer 2a by the ionization radiation R which is completely different from a thermal imprint method and an optical imprint method, and can transfer the irregular pattern of the mold 5 by curing the pattern formation layer 2a by the novel technique which has not been employed hitherto.例文帳に追加

かくして、本発明の微細構造体１の製造方法では、熱インプリント方式や、光インプリント方式とは全く異なる電離放射線Rによりパターン形成層2aを硬化させるインプリント方式であり、従来にない新規な手法によりパターン形成層2aを硬化させ、モールド５の凹凸パターンを転写し得る。 - 特許庁

A photosetting resin 22 as processing materials is applied on a substrate 20, the imprint mold 30 is overlapped on the upper surface of the photosetting resin applied on the substrate, a pressure is applied onto the imprint mold while performing heating, UV-rays are irradiated to harden the photosetting resin and the releasing is performed.例文帳に追加

基板２０の上に加工材料である光硬化性樹脂２２を塗布し、その上面にインプリント用モールド３０を重ね、加熱しながら圧力を加え、紫外線を照射して硬化させた後、離型する。 - 特許庁

A 1st matching part 203 matches the both against each other after compressing its evaluation pattern and a registered pattern in a registered pattern storage part 200 and then correcting angle deviation of the former imprint from the latter imprint.例文帳に追加

第１照合部２０３では、この評価パターンと登録パターン記憶部２００内の登録パターンとを圧縮後、後者の印影に対する前者の印影の角度ずれを補正した上で両者の照合をおこなう。 - 特許庁

The glass substrate 30 for imprint has a glass substrate 10 having a pattern surface 11 where a fine pattern 15 for imprint is formed, and the pattern surface is coated with a transmissive conductive film 20.例文帳に追加

インプリント用の微細パターン１５が形成されたパターン面１１を有するガラス基板１０を備えたインプリント用ガラス基板３０であって、 該パターン面に、透明導電膜２０が被覆されていることを特徴とする。 - 特許庁

The imprint method forms a pattern in a region to be processed in a plurality of regions to be processed on a substrate by molding and curing an imprint material with a mold 7a on which a plurality of pattern regions P1 to P4 are formed.例文帳に追加

このインプリント方法は、基板上の複数の被処理領域にて、複数のパターン領域Ｐ１〜Ｐ４が形成された型７ａによりインプリント材を成形して硬化させ、被処理領域にパターンを形成する。 - 特許庁

Regarding an optical imprint mold for transferring a recording pattern to a disk substrate, the optical imprint mold having an alignment mark disposed in a position equivalent to an opening around the nontransferred rotary axis of a disk substrate center is provided.例文帳に追加

ディスク基板に記録パターンを転写するための光インプリントモールドであって、ディスク基板中央の転写されない回転軸周りの開口部に該当する位置にアライメントマークを設けた光インプリントモールドを提供する。 - 特許庁

To provide an imprinting stamper that performs accurate imprint on the entire surface of a resist substrate and is inexpensive, and to provide a manufacturing method of the imprinting stamper, an imprint method, and a decomposition method of the imprinting stamper.例文帳に追加

レジスト基板全面均一に高精度のインプリントを行うことが可能であり、且つ安価なインプリント用スタンパ、インプリント用スタンパの製造方法、インプリント方法及びインプリント用スタンパの分解方法を提供する。 - 特許庁

To neutralize an imprint phenomenon by automatically correcting and rewriting the data of a cell in which an imprint phenomenon occurs in a ferroelectric memory.例文帳に追加

本発明は、強誘電体メモリにおいて、インプリント現象が生じているセルのデータを自動的に訂正して再書き込みすることにより、インプリント現象を中和できるようにすることを最も主要な特徴としている。 - 特許庁

In a manufacturing method of the stamper for the nano imprint, the stamper for the nano imprint is manufactured after the process where a catalyst layer made of a metal is formed on a substrate and the process where the catalyst layer is etched to form an uneven pattern are carried out.例文帳に追加

ナノインプリント用スタンパの製造方法では，基板上への金属から成る触媒層の形成工程，及び触媒層をエッチングして凹凸パターンを形成する工程を経て，ナノインプリント用スタンパが製造される。 - 特許庁

To provide an imprint apparatus, at the time of circuit pattern formation, which can imprint and easily release a substrate by aligning the substrate and the sequential pressurization, and which can be used for the large area substrate, and to provide a system and a method.例文帳に追加

回路パターン形成の時、基板を整列させて順次加圧によってインプリントを行って容易に基板と離形することができ、大面積基板で使用可能であるインプリント装置、システム及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a test method for ferroelectric memory by which normal/ defective conditions of an imprint characteristic and an imprint lifetime can be discriminated efficiently with non-destruction from a hysteresis characteristic of a capacitor in a ferroelectric memory.例文帳に追加

強誘電体メモリ内のキャパシタのヒステリシス特性からそのインプリント特性およびインプリント寿命の良否判定を効率的に、しかも非破壊で行うことができる強誘電体メモリの試験方法を提供する。 - 特許庁

The structure includes: a support structure arranged to support an imprint template structure; a first actuator structured to apply force to the imprint template structure; and a second actuator mounted to the support structure, arranged to extend between the support structure and the imprint template structure in use, structured to apply force to the imprint template structure, and having a movement range larger than that of the first actuator.例文帳に追加

この構成は、インプリントテンプレート構成を支持するように配置された支持構造と、インプリントテンプレート構成に力を印加するように構成された第１のアクチュエータと、支持構造に取り付けられ、使用時に支持構造とインプリントテンプレート構成との間に延在するように配置された第２のアクチュエータであって、インプリントテンプレート構成に力を印加するように構成され、その移動範囲が第１のアクチュエータの移動範囲より大きい第２のアクチュエータとを備える。 - 特許庁

A method of depositing the imprintable medium onto a target area of a substrate for the imprint lithography is disclosed.例文帳に追加

インプリントリソグラフィのために基板のターゲット領域にインプリント可能媒体を堆積させる方法が開示されている。 - 特許庁

To provide an imprint apparatus that is advantageous in terms of accuracy of measurement by a measuring instrument during mold release.例文帳に追加

モールドの離型中における計測器による計測の正確さの点で有利なインプリント装置を提供する。 - 特許庁

To raise mold-releasability of a metal mold and a resin layer in a nano-imprint, and to raise a durability of the metal mold.例文帳に追加

ナノインプリントにおける金型と樹脂層の離型性を向上させ、金型の耐久性を向上させる。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST LAYER, IMPRINT METHOD, PATTERN FORMING BODY, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

レジスト組成物、レジスト層、インプリント方法、パターン形成体、磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体 - 特許庁

The method can further include a step of forming recessed parts at positions forming the nano-holes with a nano imprint method.例文帳に追加

ナノインプリント法により、ナノホールを形成する位置に凹部を形成する工程をさらに備えることが好ましい。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, a mold for imprint, and a pattern formed body which are suitable for formation of a fine pattern.例文帳に追加

微細なパターンの形成に好適なパターン形成方法、インプリント用モールド、およびパターン形成体を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid dispensing system and method, applicable to an imprint lithography process.例文帳に追加

本発明は、転写リソグラフィ・プロセスに適用可能な液体ディスペンス・システム及びディスペンス方法を提案できるようにする。 - 特許庁

To provide a roller imprint device that allows easy replacement of a transfer roller, and a method of producing an imprinted sheet.例文帳に追加

転写ロールの交換が容易に行えるローラー型インプリント装置、及び、インプリントシートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint device such that a mold can be efficiently released from a resin while suppressing the collapse of a pattern.例文帳に追加

パターンの崩壊を抑制しつつ効率よくモールドを樹脂から離型し得るインプリント装置を提供する。 - 特許庁

To provide an application device which prevents a transfer imprint from occurring on an applied film and reduces the cost.例文帳に追加

塗布膜に転写跡が発生することを抑制するとともに低コスト化が図られた、塗布装置を提供する。 - 特許庁

To improve the throughput and/or the yield of imprinting while suppressing complication of the structure of an imprint apparatus.例文帳に追加

インプリント装置の構成の複雑化を抑えながらインプリント処理のスループットおよび／または収率を向上させる。 - 特許庁

To provide an imprint device that is advantageous in detecting moire fringes formed on a mark formed on a pattern and a substrate.例文帳に追加

型および基板に形成されたマークにより生じるモアレ縞の検出に有利なインプリント装置を提供する - 特許庁

To provide an imprint apparatus which reduces the supply amount of gas for replacing air to a minimum required amount.例文帳に追加

空気と置換するためのガスの供給量を必要最小限に低減したインプリント装置を提供する。 - 特許庁

NANO IMPRINT MOLD AND METHODS FOR MANUFACTURING SAME, TRANSCRIBING METHOD OF CONVEXO-CONCAVE PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD OF MEMBER WITH CONCAVE例文帳に追加

ナノインプリント用モールドとその製造方法、凹凸パターンの転写方法、凹部を有する部材の製造方法 - 特許庁

The patterned body is formed by transferring the uneven pattern of the imprint mold to the transferred layer on a substrate.例文帳に追加

パターン形成体は、前記インプリントモールドの凹凸パターンを基材上の被転写層に転写して形成される。 - 特許庁

The nano-structure is utilized in a field emission type electronic source, a mold for nano imprint and a probe for a probe microscope.例文帳に追加

前記ナノ構造体を利用した電界放出型電子源、ナノインプリント用モールド、プローブ顕微鏡用探針。 - 特許庁

According to this embodiment, an imprint recipe creation device comprises first to fifth creation part 111 to 115.例文帳に追加

本実施形態によれば、インプリントレシピ作成装置は、第１作成部１１１〜第５作成部１１５を備える。 - 特許庁

An improved method for nano imprint, more concretely, of providing a nano scale pattern on the substrate is disclosed.例文帳に追加

ナノインプリントのための、より具体的には基板上にナノスケールのパターンを設ける改善された方法を開示する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of inexpensively manufacturing a template of nano imprint lithography.例文帳に追加

ナノインプリントリソグラフィーのテンプレートを安価に作製することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The lithographic device has an imprint template or a template holder configured to hold an imprint template, and a substrate table constituted to receive a substrate, the device further including walls which together with the substrate table and the imprint template or the template holder, are configured to form an enclosed space which is substantially sealed from a surrounding space.例文帳に追加

インプリント・テンプレート又はインプリント・テンプレートを保持するように構成されたテンプレート・ホルダと、基板を受けるように構成された基板テーブルとを有し、さらに、基板テーブル及びインプリント・テンプレート又はテンプレート・ホルダと共に、周囲の領域から実質的に密閉された密閉空間を形成するように構成された壁を備えたリソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

To provide a mold structure for imprint showing high peelability of an imprint resist layer, high transfer durability and high transferability, and to provide an imprinting method showing improved transfer precision by using the mold structure for imprint, a magnetic recording medium showing improved recording characteristic and regeneration, and its manufacturing method.例文帳に追加

インプリントレジスト層に対する剥離性及び転写耐久性が高いだけでなく、転写性も高いインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに、記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体、及びその製造方法の提供。 - 特許庁

The transparent electrode 60 and an orientation film 40 are formed on the first transparent substrate 50, the partition 35 and a Fresnel lens 100 are integrally formed in an imprint process as an imprint resin layer 30 on the second transparent substrate 51, and a transparent electrode 41 and an orientation film 61 are formed on the imprint resin layer 30.例文帳に追加

第１の透明基板５０上には透明電極６０と配向膜４０が形成されており、第２の透明基板５１上にはインプリント樹脂層３０として隔壁３５とフレネルレンズ１００がインプリント工程にて一体に形成されており、インプリント樹脂層３０の上に透明電極４１と配向膜６１が形成されている。 - 特許庁

To provide an imprint stamper for manufacturing a magnetic recording medium having a satisfactory machining shape with few defects in a data region, to provide a method of manufacturing the imprint stamper, to provide a magnetic recording medium manufactured by using the imprint stamper, to provide a method of manufacturing the magnetic recording medium, and to provide a magnetic disk device having the magnetic recording medium.例文帳に追加

データ領域につき欠陥の少ない良好な加工形状を有する磁気記録媒体を作成するためのインプリント用スタンパ，そのインプリント用スタンパの製造方法、そのインプリント用スタンパを用いて製造された磁気記録媒体、その磁気記録媒体の製造方法、及びその磁気記録媒体を有する磁気ディスク装置を提供することができる。 - 特許庁

To provide a mold member to become the mold directly used for imprint or the original of the mold directly used for imprint wherein the locations of desired step portions can be controlled and the heights of step portions are evened as to all steps of the mold.例文帳に追加

所望の段部の位置を制御できる、更には、型部の全ての段について、その段部の高さを揃えた、インプリントに直接用いられる型部あるいはインプリントに直接用いられる型部の原版となる型部材を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint material by which the occurrence of defects can be reduced when a metal oxide film having a projecting and recessed pattern is formed on a doughnut type substrate such as a hard disk by spin coating and imprint and to provide a pattern formation method.例文帳に追加

スピンコーティングおよびインプリントによりハードディスクなどのドーナツ型基板上に凹凸パタンを有する金属酸化膜を形成する際に、欠陥の発生を低減できるインプリント材料およびパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

There are provided a method and a system to create and maintain a desired environment in the vicinity of a nano-imprint lithography template by creation of a partial vacuum using channels or holes in the template holding the nano-imprint mold.例文帳に追加

ナノインプリント・モールドを保持するテンププレートのチャネル又は孔を使用して部分真空を生成することによって、ナノインプリント・リソグラフィ・テンプレートの近傍に所望の環境を生成維持するための方法及びシステムを対象とする。 - 特許庁

In a manufacturing method of a semiconductor device 100, after forming a protecting film 31, energy rays are so irradiated on an imprint film 21 by transmitting the energy rays through the protecting film 31 as to reform the material of the imprint film 21 and as to form imprints.例文帳に追加

この半導体装置１００の製造方法においては、保護膜３１を形成した後に、保護膜３１を透過して捺印膜２１にエネルギー線を照射して捺印膜２１の材料を変質させて捺印している。 - 特許庁

Then, when the control part determines that there is an imprint column for placing a seal in one of the plurality of sheets of the originals (YES in S14), the control part prints the original for which it is determined that there is the imprint column without summarizing it.例文帳に追加

そして、制御部は、複数枚の原稿のうちのいずれかに、印を押すための捺印欄があると判断すると（Ｓ１４において、ＹＥＳ）、制御部は、捺印欄があると判断した原稿を集約することなく印刷する。 - 特許庁

Since the imprint mold has an array of a plurality of pins which move up and down, a shape of an uneven pattern formed on the imprint mold can be easily changed by changing a projection amount of each pin.例文帳に追加

本発明のインプリントモールドによれば、上下に可動する複数のピンを配列していることから、各ピンの突出量を変更することで、インプリントモールド上に形成される凹凸パターンの形状を容易に変更することができる。 - 特許庁

To provide an ultraviolet radiation-curable composition for imprint molding having excellent adhesion to metal oxide, easily demoldable, and used for imprint molding onto a substrate with surface at least partly comprising a metal oxide.例文帳に追加

金属酸化物に対する接着性に優れ、モールドから脱型し易く、表面の少なくとも一部が金属酸化物からなる基材上におけるインプリント成形に用いられる紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供する。 - 特許庁

The method for correcting a defect of a template includes a step S3 for making a second template for imprint using a first template for imprint including a white defect and a step S5 for correcting a black defect of the second template.例文帳に追加

テンプレートの欠陥修正方法は、白欠陥を含むインプリント用の第１のテンプレートを用いて、インプリント用の第２のテンプレートを作成する工程Ｓ３と、前記第２のテンプレートの黒欠陥を修正する工程Ｓ５とを含む。 - 特許庁

The organic thin-film solar cell is manufactured by forming fine grooves of nano-scale width on a donor or acceptor layer by applying nano-imprint processing using an imprint mold, and mating the other donor or acceptor layer with the fine grooves.例文帳に追加

インプリント型を用いてナノインプリント加工することによりドナーまたはアクセプターの層にナノスケール幅の微細な溝を形成し、該微細な溝にもう片方のドナーまたはアクセプターの層を充填して有機薄膜太陽電池を製造する。 - 特許庁

To provide an imprint embossing system capable of performing positioning that the center line of a disk and the center line of an imprint plane are aligned before actually performing imprinting on an embossable film with regard to the imprinting of the embossable film on a disk substrate.例文帳に追加

ディスク基板の上のエンボス可能フィルムのインプリンティングは、エンボス可能フィルムに実際にインプリントする前に、ディスクの中心線をインプリント面の中心線と合わせる位置合せすることが出来るインプリント・エンボッシング・システムを提供する。 - 特許庁