IMPRINTを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1004件
To provide a stamper for imprint which can cope with mass production by promptly separating a base plate from a stamper after imprint using a uniform deflection of the stamper and recovering force of the same during the imprint and by hardly causing a defect on pattern surfaces of a base plate and the stamper, and to provide an imprinting device.例文帳に追加
インプリント時のスタンパの均一な撓みとその復元力を利用してインプリント後にスタンパから基板を速やかに分離できると同時に、基板およびスタンパのパターン面に欠陥が入りにくくすることで、量産化に対応できるインプリント用スタンパおよびインプリント装置を提供する。 - 特許庁
To provide: an imprint mold whose substrate need not have transmissivity to exposure light and which has an exposure light source inside, also has a superior peel properties with a resin pattern, and never decreases in peel properties even when an optical imprint method is repeatedly implemented; a method of producing the same; and the optical imprint method.例文帳に追加
基板が露光光に対する透過性を必要とせず、露光光源を内蔵し、インプリントモールドと樹脂パターンとの剥離性に優れ、繰り返し光インプリント法を行っても剥離性が低下することのないインプリントモールド及びその製造方法並びに光インプリント法を提供する。 - 特許庁
The method for checking the seal impression comprises the steps of deforming an imprint 102 of a customer's seal impression 101 based on a prescribed deformation rule, recording the imprint in a reported seal impression column of the bankbook, restoring the deformed imprint of the bankbook based on the rule at a seal impression checking time, and checking the seal impression.例文帳に追加
顧客の印鑑101の印影102を所定の変形規則に基づき変形処理して通帳の届出印鑑欄に記録し、印鑑照合時には、通帳の変形印影を上記変形規則に基づき復元処理して印鑑照合を行う。 - 特許庁
To test and remove the residue of a thermosetting resin or photocurable resin of a nano-imprint lithography mold.例文帳に追加
ナノインプリントリソグラフィーのモールドの熱硬化樹脂または光硬化樹脂残渣を検出し除去する。 - 特許庁
To provide a method for judging risk of imprint abnormality occurrence in a sperm of a male infertility patient.例文帳に追加
男性不妊症患者の精子におけるインプリント異常発生リスクの判定方法の提供。 - 特許庁
The electronic seal 130 has a storage part 132 storing imprint master data 160 of the electronic seal 130.例文帳に追加
また、電子印鑑130の印影マスタデータ160を格納する記憶部132を備える。 - 特許庁
To provide a curable composition for imprint excellent in mold releasability and resistance to repetitive patterning.例文帳に追加
離型性と繰り返しパターニング耐性に優れたインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern formation method that forms a desired pattern using imprint lithography.例文帳に追加
インプリントリソグラフィを用いて所望のパターン形成を行うパターン生成方法を提供すること。 - 特許庁
IMPRINT SYSTEM TRANSFER PRINTING METHOD, TRANSFER PRINTING FORM, TRANSFER PRINTER AND TRANSFER PRINTING PRODUCT例文帳に追加
インプリント方式の転写印刷方法、転写印刷版、転写印刷装置、および転写印刷製品 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a mold used for imprint superior in dimensional accuracy.例文帳に追加
寸法精度に優れたインプリントに用いられるモールドを製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁
To align patterns with enough accuracy to each other in an imprint lithography device.例文帳に追加
インプリントリソグラフィ装置で、パターンが互いに対して十分な精度で位置合わせすることを可能とする。 - 特許庁
To provide an imprint apparatus capable of efficiently performing process evaluation in imprinting.例文帳に追加
インプリントにおけるプロセス評価を効率良く行うことができるインプリント装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a droplet polymerization method for synthesizing a molecular imprint polymer(MIP) with good efficiency.例文帳に追加
効率の良い分子インプリントポリマー(MIP)を生成するための液滴重合法を提供する。 - 特許庁
An exposure device projects patterns of an original plate to a substrate through a projection optical system to imprint them.例文帳に追加
露光装置は、原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し転写する。 - 特許庁
To provide an imprint device in which measurement of the relative position between shot regions can be facilitated.例文帳に追加
ショット領域間の相対位置の計測を容易に行いうるインプリント装置を提供する。 - 特許庁
To provide a stamper for imprint processing capable of transferring a normal pattern by press processing.例文帳に追加
プレス加工による正常なパターンの転写が可能なインプリント加工用スタンパーを提供する。 - 特許庁
To provide an imprint method for appropriately coating a coating fluid, without causing generation of bubbles between a template and a substrate.例文帳に追加
テンプレートと基板との間において、気泡を発生させずに塗布液を適切に塗布する。 - 特許庁
STAMP WHICH IMPRINT FIGURES OF MUSCULOSKELETAL AND HUMAN-BODY APPEARANCE FOR A CHART OR A MEDICAL CERTIFICATE例文帳に追加
人体の筋骨図および外観図を刻印したカルテあるいは診断書押印用スタンプ装置 - 特許庁
Also, the control part summarizes and prints the original for which it is determined that there is no imprint column (S15).例文帳に追加
また、制御部は、捺印欄がないと判断した原稿を集約して印刷する(S15)。 - 特許庁
To provide a method for forming a pattern of a benzocyclobutene resin using a thermal imprint lithography technology.例文帳に追加
熱インプリントリソグラフィー技術を用いて、ベンゾシクロブテン樹脂のパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁
To imprint difference value data between set photographing data and a photometric value on film by manual operation.例文帳に追加
マニュアル操作で設定撮影データと測光値との差分値データのフィルムへの写し込みを行う。 - 特許庁
An imprint system 1 has a constitution in which a template carry-in/out station 2, a processing station 200, an interface station 201, an imprint unit 3, and a wafer carry-in/out station 4 are connected integrally with one another.例文帳に追加
インプリントシステム1は、テンプレート搬入出ステーション2、処理ステーション200、インターフェイスステーション201、インプリントユニット3、ウェハ搬入出ステーション4とを一体に接続した構成を有している。 - 特許庁
To provide a method for initializing a ferroelectric memory device, which resets imprint phenomenon of capacitors caused by past thermal history, and reduces effects of imprint phenomenon that may be caused by subsequent processing.例文帳に追加
過去の熱履歴等によるキャパシタのインプリント現象をリセットし、また、以降の処理によるインプリント現象の影響を低減することができる強誘電体記憶装置の初期化方法を提供する。 - 特許庁
To provide a mold for optical imprint which can be observed with an SEM (Scanning Electron Microscope), can be inspected with high throughput, and can form high-definition pattern, and to provide an optical imprint method using the same.例文帳に追加
SEM観察が可能であり高スループットで検査を行うことができ、かつ、高精細なパターン形成が可能な光インプリント用のモールドと、これを用いた光インプリント方法を提供する。 - 特許庁
A method of determining an offset between an imprint template 21 and a substrate 20 by using an alignment grating 24 on the imprint template 21 and an alignment grating 23 on the substrate 20 is disclosed.例文帳に追加
インプリントテンプレート21と基板20との間のオフセットを前記インプリントテンプレート21上のアライメント格子24および前記基板20上のアライメント格子23を使用して特定する方法を開示する。 - 特許庁
To provide an imprint transfer die capable of preventing a harmful influence to imprint results in advance by directly excluding bubbles mixed between a transfer die and a transfer object during actual imprinting.例文帳に追加
実際にインプリントする時に転写型と転写物との間に混入した気泡を直接排除して、インプリント結果に悪影響を与えるのを未然に防止可能なインプリント用転写型を提供する。 - 特許庁
To provide an imprint method by which a resin layer in an extruded area extruded from a pattern formation area can be easily removed, and to provide a method of processing a substrate using the imprint method.例文帳に追加
パターン形成領域からはみ出した、はみ出し領域の樹脂層を容易に除去することが可能となるインプリント方法およびインプリント方法を用いた基板の加工方法を提供する。 - 特許庁
At least any of acid and base is generated from the reaction initiator, and the acid or the base is introduced to the base film side of the imprint film so as to make an etching speed of the base film side of the imprint film faster than that of other portions.例文帳に追加
反応開始剤から酸及び塩基の少なくともいずれかを発生させ、それをインプリント膜の下地膜の側の部分に導入し、エッチング速度をそれ以外の部分よりも高くする。 - 特許庁
The moving means 6 can move the imprint region 15 to the inspection position of the foreign substance inspection means 8a, the coating position of the coating means 7a, and the imprint position of the holding means 4, respectively.例文帳に追加
移動手段6は、異物検査手段8aによる検査位置、塗布手段7aによる塗布位置、及び保持手段4による押印位置のそれぞれにインプリント領域15を移動可能である。 - 特許庁
Certain embodiments provide an imprint template which has a first member formed with patterns having concavities and convexities on one side thereof, and in the state in which the one side is contacted with a photocuring imprint material coated onto a substrate to be processed, cures the imprint material by light emitted from above the other side of the first member to transfer the patterns onto the imprint material.例文帳に追加
実施形態のインプリント用のテンプレートは、一方の面に凹凸を有するパターンが形成された第1部材を備え、被加工基板上に塗布された光硬化性のインプリント材料に前記一方の面を接触させた状態で、前記第1部材の他方の面の上から照射された光により前記インプリント材料を硬化して前記パターンを前記インプリント材料に転写するインプリント用のテンプレートである。 - 特許庁
The imprint lithography includes: a template holder constituted so as to hold an imprint template; a substrate table arranged and constituted so as to receive a substrate; a radiation output unit arranged and constituted so as to illuminate a part of the imprint plate; and a detector, constituted so as to detect radiation scattered from the boundary surface between the imprint template and an imprintable material provided on the substrate.例文帳に追加
インプリントテンプレートを保持するように構成されたテンプレートホルダ、基板を受けるように配置構成された基板テーブルと、インプリントテンプレートの一部を照明するように配置構成された放射線出力部と、インプリントテンプレートと基板上に設けたインプリント可能材料の間の境界面から散乱する放射線を検出するように構成された検出器とを有するリソグラフィ装置を開示する。 - 特許庁
The approval system 100 is provided with an approval indicator 2 having a paper surface, an imprint image output device for outputting imprint image data when depressing the approval indicator 2, and a document editor 4 for adding the imprint image data outputted from the imprint image output device 3 to a document file and allows a user to electronically approve the document by easy operation of depressing the approval indicator 2.例文帳に追加
承認システム100は、印面を有する承認指示器2と、承認指示器2が押圧操作された際に印影画像データを出力する印影画像出力装置3と、印影画像出力装置3から出力された印影画像データを文書ファイルに付加する文書編集装置4とを備え、承認指示器2を押圧する簡単な操作によって文書の承認を電子的に行う。 - 特許庁
To reduce poor charge failure of a pattern and suppress lowering of throughput in imprint lithography.例文帳に追加
インプリントリソグラフィにおいて、パターンの充填不良欠陥を減少させ、かつ、スループットの低下を抑制する。 - 特許庁
The polymer mold is suitable as a template with improved properties in a nano-imprint lithography process.例文帳に追加
このポリマー型はナノインプリントリソグラフィープロセスにおける改良された性質を有するテンプレートとして適する。 - 特許庁
To provide an imprint lithography accurately controlling the force of a wide dynamic range actuator.例文帳に追加
広い運動範囲を持つアクチュエータの力を正確に制御出来るインプリントリソグラフィ装置を提供する - 特許庁
To provide a resin imprint stamper capable of sufficiently transferring a pattern to a thin resist on a substrate.例文帳に追加
基板上の薄いレジストに対して良好にパターンを転写できる樹脂インプリントスタンパを提供する。 - 特許庁
To provide a curable composition for imprint which can effectively suppress defects in cure patterns.例文帳に追加
硬化パターンの欠けを効果的に抑制することのできるインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an imprinting device and a method for manufacturing an article capable of speeding up an imprint process.例文帳に追加
押印工程の迅速化を図ることができるインプリント装置及び物品の製造方法を提供する。 - 特許庁
The cinch may be located in one of several locations with respect to an imprint receiving area.例文帳に追加
シンチ部分は、印刷受容領域に関していくつかの場所のうちの1つの場所に配置される。 - 特許庁
To provide a pattern forming method capable of forming a fine pattern by nano-imprint lithography.例文帳に追加
本発明は、ナノインプリントリソグラフィにおいて、微細なパターンを形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
MOLD STRUCTURE AND IMPRINT METHOD USING THE SAME, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
モールド構造体及びそれを用いたインプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法 - 特許庁
The imprint apparatus applies resin onto a substrate and cures the resin in a state of pressing a mold to the resin.例文帳に追加
インプリント装置は、基板に樹脂を塗布し該樹脂に型を押し付けた状態で該樹脂を硬化させる。 - 特許庁
The template T is carried between the imprint unit 4 and processing station 3 by the carrying rollers.例文帳に追加
搬送ローラによりインプリントユニット4と処理ステーション3との間でテンプレートTの搬送が行われる。 - 特許庁
To inhibit deterioration of a mold life in an imprint apparatus equipped with an envelopment member for enveloping a substrate.例文帳に追加
基板を包囲する包囲部材を備えたインプリント装置における型の寿命の低下を抑制する。 - 特許庁
To provide a mask blank for imprint molding capable of forming a fine glass pattern with high pattern precision.例文帳に追加
微細ガラスパターンを高いパターン精度で形成することができるインプリントモールド用マスクブランクを提供する。 - 特許庁
INQUIRY METHOD FOR CUSTOMER INFORMATION IN FINANCIAL INSTITUTION, CUSTOMER INFORMATION INQUIRY SYSTEM AND IMPRINT INQUIRY SYSTEM例文帳に追加
金融機関における顧客情報の照会方法、顧客情報照会システム及び印影照会システム - 特許庁
To detect flaws in a nano-order patterns, which are smaller than the wavelength of the illumination light, formed on a nano imprint mold.例文帳に追加
照明光の波長よりも小さい、ナノインプリントモールドのナノオーダーのパターンの欠陥を検出する。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING IMPRINT, APPARATUS FOR MANUFACTURING THE SAME, METHOD OF MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
インプリント製造方法、その製造装置、磁気記録媒体の製造方法、及びその製造装置 - 特許庁
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