「IMPRINT」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

An imprint material 11 has a resin 11, that receives energy in contact with a convexo-concave pattern of a template 20 and is hardened, from a liquid state and a plurality of fine particles 13 which are contained in the resin 11 in a solid state, and have a volume shrinkage ratio that differs from that of the resin 11 upon receiving the energy.例文帳に追加

インプリント材１１は、テンプレート２０の凹凸パターンと接触された状態でエネルギーを受けて、液体の状態から硬化される樹脂１１と、樹脂１１中に固体の状態で複数含有され、エネルギーを受けたときの体積収縮率が樹脂１１とは異なる微粒子１３と、を備えた。 - 特許庁

The method for manufacturing the imprint film includes: a process for bringing an aromatic polymer film into contact with an organic solvent by dipping, dripping, coating, printing, or the like to soften the aromatic polymer film; and a process bringing the aromatic polymer film into contact with a template by mechanical pressing using a pressing machine, a roll, or the like, pressing with gas, pressure reduction, pressing by own weight, or the like.例文帳に追加

芳香族ポリマーフィルムを浸漬、滴下、コーティング、印刷等により有機溶媒に接触させ、軟化せしめる工程と、プレス機、ロール等を用いる機械的な押圧、気体による加圧、減圧、自重による加圧等により芳香族ポリマーフィルムをテンプレートに接触せしめる工程とを有するインプリントフィルムの製造方法。 - 特許庁

To prevent an imprint, a signature and a password, etc., from being viewed by someone other than a proper authorized person and to enable the proper authorized person to easily confirm that they are viewed by an illegal means in the case that they are viewed by the illegal means.例文帳に追加

遮蔽シールに於いて、透明な基板シートに線表示を施し、この線表示を、異なる基板シート毎に異なる位置に表示し、透明な基板シートが２枚重ねられると、透明な基板シートには、その重ねられた数に対応する線表示が表れるものとなり、不正行為が行われたことを明確に判別することが可能となる。 - 特許庁

This nano imprint mold forms a convexo-concave pattern 11 on a substrate 10 with resist, embeds a shape memory composition material 12 (NiTi alloy) on the above convexo-concave pattern, covers it with a film, and then peels off the film from the above convexo-concave pattern to obtain a mold 13 with the above convexo-concave pattern transcribed.例文帳に追加

ナノインプリント用モールドであって、基板１０上にレジストで凹凸パターン１１を形成し、前記凹凸パターンに、形状記憶性を有する組成の材料１２（ＮｉＴｉ合金）を埋め込んで成膜した後、前記凹凸パターンから成膜部を剥離して前記凹凸パターンが転写されたモールド１３を得るようにする。 - 特許庁

Since this method allows the mask pattern 46 of high precision to be formed on the imprint resin layer 42 by impression of the nano-stamper 43, the monolithic semiconductor lens 23 having a desired shape is formed more easily than conventional methods which use wet etching or form resist patterns by baking.例文帳に追加

この方法では、ナノスタンパ４３の押印によってインプリント樹脂層４２に精度の高いマスクパターン４６を形成できるので、従来のようにウエットエッチングを用いる場合や、ベーキングによってレジストパターンを形成する場合と比較して、所望の形状を有するモノリシック半導体レンズ２３を簡易に形成できる。 - 特許庁

In the imprint method for imprinting a pattern formed on a mold onto a resin, a wavelength of light incident on an imaging device is controlled in accordance with a gap between the mold and the substrate when an alignment mark provided on the mold is imaged by the imaging device.例文帳に追加

本発明の第１の側面は、モールドに形成されたパターンを基板上の樹脂にインプリントするインプリント方法であって、該モールドに設けられているアライメントマークを撮像素子で撮像する場合に、該モールドと該基板との間のギャップに応じて、該撮像素子に入射する光の波長を制御する、インプリント方法である。 - 特許庁

The mold for imprint has a transfer surface which transfers a shape to the work piece, a bond layer having polysiloxane bonded to the transfer surface through a siloxane bond, and a mold release function layer having an organic functional group bonded to the bond layer through the siloxane bond.例文帳に追加

本発明のインプリント用型は、ワークに対して形状を転写する転写面と、前記転写面にシロキサン結合を介して結合したポリシロキサンを有する結合層と、前記結合層にシロキサン結合を介して結合した有機官能基を有する離型機能層と、を備えていることを特徴とする。 - 特許庁

This molecule recognition polymer is preparation-formed according to a molecular imprint method, by polymerizing a monomer for polymer synthesis under the presence of at least the one kind of AGE or at least one kind of AGE structure analog serving as a template molecule, and by removing favorably the template molecule from the obtained polymer.例文帳に追加

ポリマー合成用のモノマーとともに鋳型分子となる少なくとも一種のＡＧＥまたは、少なくとも一種のＡＧＥ構造類似体の存在下で重合を行い、得られたポリマーから鋳型分子を有利除去することで調製することを特色とするモレキュラーインプリント法により分子認識ポリマーを形成する。 - 特許庁

To uniformly bring a pattern formed surface of a mold into pressure contact with the surface to be imprinted of a magnetic recording medium over the entire surfaces for forming a pattern shape which is uniform and has excellent reliability, in a process for performing patterning of a fine shape on a discrete track medium and a patterned medium using an imprint technique.例文帳に追加

インプリント技術を用いてディスクリートトラックメディアやパターンドメディアに微細な形状パターニングを行うプロセスにおいて、均一かつ信頼性に優れた形状パターンの形成を行うためには、モールドのパターン形成面と磁気記録媒体の被インプリント面とを全面に渡って均一に圧接することが必要である。 - 特許庁

To provide a data imprinting device for a camera which can clearly imprint data with compact constitution by providing a stop at the position where the space formed between an external wall surface of an arcuately cartridge chamber or film chamber and an external wall surface of a photographic optical path blocking cylinder is the narrowest.例文帳に追加

円弧状に形成されたパトローネ室又はフィルム室の外壁面と撮影光路遮光筒の外壁面との間に形成される空間の最も狭くなる位置に絞りを設けることにより、コンパクトな構成でデータをクリアに写し込むことができるカメラのデータ写し込み装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The protein recognizing structure is manufactured by a method wherein a prepolymer is polymerized in a state that the prepolymer is brought into contact with the surface of a protein crystal to molecularly imprint the surface shape of the protein crystal and the specifical functional base region of the protein disposed on the surface of the protein crystal on the polymer formed by polymerizing the prepolymer.例文帳に追加

タンパク質結晶の表面にプレポリマーを接触させた状態でプレポリマーを重合させることにより、タンパク質結晶の表面形状および前記結晶表面に配位したタンパク質の特異的官能基部位を、前記プレポリマーが重合してなるポリマーに分子インプリントしてタンパク質認識構造体を製造する。 - 特許庁

An imprint device, in which an uncured resin 56 on a substrate 5 is molded and cured with a mold 3 and a pattern of the cured resin 56 is formed on the substrate 5, includes a holding part 24 to attract and hold the mold 3, and pressure reduction means 52 to reduce a back pressure of the mold 3 held by the holding part 24 concurrently when the mold is released.例文帳に追加

基板５上の未硬化樹脂５６を型３により成形して硬化させ、基板５上に硬化した樹脂５６のパターンを形成するインプリント装置であって、型３を引きつけて保持する保持部２４と、保持部２４に保持された型３の背圧を離型と並行して減少させる減圧手段５２と、を備える。 - 特許庁

To provide a method for correcting defects of a photo mask for projection exposure or a nano imprint mold, in particular, that for correcting a white defect and a missing defect, to be put into practice as a production process for a photo mask with a configuration with commonly-used members without danger.例文帳に追加

本発明は投影露光用フォトマスクやナノインプリントモールドの欠陥修正方法、特に白欠陥、欠落欠陥の修正方法に関するもので、危険を伴わず、汎用的な部材の構成でフォトマスクの製造工程として実用出来るフォトマスク等の欠陥修正方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The alignment mark configured so that the imprintable medium is prevented from filling the alignment mark when the imprint template imprints the imprintable medium.例文帳に追加

ある実施形態では、テンプレートはインプリント可能な媒体の層をインプリントするパターン付領域と、インプリントテンプレートを整列させる際に使用するアライメントマークであって、インプリントテンプレートがインプリント可能な媒体をインプリントする時にインプリント可能な媒体がアライメントマークを充填することを防止するように構成されたアライメントマークとを含む。 - 特許庁

The surfaces of the smooth electrodes (412, 422) manufactured by the DC magnetron reactive sputtering process enables relatively strong polarization and less fatigue and less imprint with aging, in ferroelectric thin-film capacitors (400, 500) used for electronic memories (600, 700, 800).例文帳に追加

本発明のＤＣマグネトロン反応性スパッタリングプロセスによって製造された平滑電極（４１２、４２２）の表面は、電子メモリ（６００、７００、８００）に使用される強誘電体薄膜キャパシタ（４００、５００）において、エージングするにつれ、比較的強力な分極、より小さい疲労およびより小さいインプリントを、可能にする。 - 特許庁

At this point, the terminal 20 acquires time data with reference to an inner time function and also acquires the telephone number of the connected phone 10, then, generates to encrypt the imprint data in which time data, the phone number, identification data of the terminal 20 and correction information, if it exists, are gathered.例文帳に追加

その時に、打刻データ生成端末２０は、内部の時計機能を参照して時刻データを得るとともに、接続された携帯電話機１０の電話番号を得て、この時刻データおよび携帯電話番号と、打刻データ生成端末の識別データと、補正情報が存在する場合にはその補正情報とをまとめた打刻データを生成して暗号化する。 - 特許庁

The presently disclosed subject matter describes the use of fluorinated elastomer-based materials, in particular perfluoropolyether (PFPE)-based materials, in high-resolution soft or imprint lithographic applications, such as micro-and nanoscale replica molding, and a first nano-contact molding of organic materials to generate high fidelity features using an elastomeric mold.例文帳に追加

本開示の主題は、フッ化エラストマー系材料の使用、詳細には、マイクロスケール及びナノスケールの複製成形、及びエラストマー型を用いて再現性の高い形状生成するための有機材料の第１のナノ接触成形など、高解像度のソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー用途におけるパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）系材料の使用を記載する。 - 特許庁

To provide a method for producing a plastic lens or an optical waveguide which can provide a cured material high in transparency even when its thickness is at least 0.2 mm by an optical imprint method, maintain a high throughput without lowering the illuminance of an exposure machine, sufficiently carry out curing even when a polydimethylsiloxane resin having oxygen permeability is used for a mold material, and can reduce the deterioration of a mold.例文帳に追加

光インプリント法で0.2mm以上の厚みでも透明性の高い硬化物が得られ、露光機の照度を落とすことがなく高スループットを維持でき、酸素透過性のあるポリジメチルシロキサン樹脂をモールド材料に用いた場合でも、十分に硬化出来、モールドの劣化を少なくすることができるプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁

The fine pattern 27 is suitably formed on a base 21 by forming a pattern transferred body 20 having a wall-shaped projection 26 (fine projection) using the mold 16 for imprint having a microtrench 18 at a corner part of a pattern 17, and etching the base 21 using the pattern transferred body 20 having the wall-shaped projection 26 as an etching mask.例文帳に追加

パターン１７の角隅部にマイクロトレンチ１８を有するインプリントモールド１６を用いて、壁状の突起２６（微小突起）を有するパターン転写体２０を形成し、該壁状の突起２６を有するパターン転写体２０をエッチングマスクとして基材２１をエッチングすることによって、基材２１に微細なパターン２７を好適に形成することができる。 - 特許庁

To provide a rubber composition which is high in friction coefficient to paper due to excellent flexibility, and can form a roller body which hardly causes an image defect such as a roller imprint when printing onto photographing paper or the like is performed by embedding a roller into an inkjet printer, and to provide the paper feed roller including the roller body formed by using the rubber composition.例文帳に追加

柔軟性に優れるため紙に対する摩擦係数が高い上、インクジェットプリンタに組み込んで写真用紙等への印刷に使用した際にローラ跡残りの画像不良を生じにくいローラ本体を形成しうるゴム組成物と、前記ゴム組成物を用いて形成したローラ本体を備えた紙送りローラとを提供する。 - 特許庁

The imprint apparatus includes: an imaging part 40 that images resin molded by the mold 10; and a control part 100, being a determination part that determines the quality of the molding by the mold by comparing at least part of an area of an image captured by the imaging part with a standard image previously set prior to the imaging by the imaging part.例文帳に追加

インプリント装置は、モールド10によって成形された樹脂を撮像する撮像部40と、前記撮像部により撮像された画像の少なくとも一部の領域を、前記撮像部による撮像に先立って予め設定された基準状態の画像と比較して、前記モールドによる成形の良否を判定する判定部である制御部100と、を備える。 - 特許庁

To obtain a substrate in a relatively simple way which has a high form accuracy and is a mirror-finished in a whole area in manufacturing a synthetic quartz glass substrate for semiconductor having a hole, groove or level difference of a synthetic quartz glass substrate for a photomask substrate, mold substrate for nano-imprint and the like to be used in an important optical lithography method for manufacturing such as IC.例文帳に追加

ＩＣ等の製造に重要な光リソグラフィ法において使用されるフォトマスク基板用合成石英ガラス基板やナノインプリント用モールド基板等の非貫通の穴、溝又は段差を有する半導体用合成石英ガラス基板の製造において、比較的簡便な方法で、形状精度が高く、全面が鏡面化された基板を得る。 - 特許庁

In this imprint mold 100, a first mold pattern 40 and a second mold pattern 50 are formed on one surface of a substrate 11, and a first phase difference compensating pattern 45 and a second phase difference compensating pattern 55 are so formed on the other surface of the substrate as to face the first mold pattern 40 and the second mold pattern 50, respectively.例文帳に追加

本発明のインプリントモールド１００は、基板１１の一方の面に第一モールドパターン４０と第二モールドパターン５０が形成され、基板の他方の面に前記第一モールドパターン４０と相対するように第一位相差補正用パターン４５が、前記第二モールドパターン５０と相対するように第二位相差補正用パターン５５がそれぞれ形成されている。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いて石英製の基板１０をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板１０に凹凸パターンを有したエッチングマスク２０を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク２０の側壁への保護膜３０の形成と基板１０のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁

The resist pattern 1 of a rugged mold 21 is transferred onto a resist layer 12 formed on a board 11 through an imprint method, and then the side face of the protrudent pattern of the transferred resist pattern 1 is etched to form a resist pattern 2 equipped with projections 15 having a width w4 narrower than the width w6 of the corresponding recess 23 of the mold 21.例文帳に追加

基板１１上に形成されたレジスト層１２にインプリント法で凹凸形状を有するモールド２１のレジストパターン１を転写した後、転写されたレジストパターン１の凸形状のパターン側面をエッチングすることにより、対応するモールド２１の凹部２３の幅ｗ６よりも狭い幅ｗ４の凸形状１５を有するレジストパターン２を形成する。 - 特許庁

Using a translucent mold structure having a mold pattern corresponding to a portion wherein a pattern is formed by nanoimprint and a pattern composed of a conductive film which corresponds to a portion wherein a pattern is formed by diabatic near-field exposure, ultraviolet light is irradiated on the rear face of the mold structure simultaneously in an imprint process to perform diabatic optical near-field exposure.例文帳に追加

ナノインプリントによりパターンを形成する部位に対応するモールドパターンと、非断熱近接場露光によりパターンを形成する部位に対応する導電膜によるパターンを有する透光性のモールド構造を使用し、インプリント工程時に同時にモールド構造背面より紫外光を照射し、非断熱近接場光露光を行う工程を行う。 - 特許庁

The substrate for imprint of the present invention is a substrate used in photo nanoimprint lithography, and characterized in that a metal compound layer is formed on a substrate and on the metal compound layer, an intermediate layer having an adhesive force with a photo curing resin used in the photo nanoimprint lithography larger than that of the metal compound layer is formed.例文帳に追加

本発明のインプリント用基板は、光式ナノインプリントリソグラフィにおいて用いられる基板であって、基板上に金属化合物層を形成してなり、該金属化合物層上に、光式ナノインプリントリソグラフィに用いられる光硬化性樹脂との密着力が、金属化合物層より大きな中間層を形成してなることを特徴とする。 - 特許庁

The curable composition for an optical nano imprint lithography contains 35-99 mass% of a polymerizable unsaturated monomer, 0.1-15 mass% of a photopolymerization initiator, 0.001-5 mass% of at least one selected from the group consisting of a fluorine-based surfactant, a silicone-based surfactant and a fluorine-silicone-based surfactant, and 0.1-50 mass% of inorganic oxide fine particles.例文帳に追加

重合性不飽和単量体３５〜９９質量％、光重合開始剤０．１〜１５質量％、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびフッ素・シリコーン系界面活性剤の少なくとも１種０．００１〜５質量％、無機酸化物微粒子を０．１〜５０質量％を含む、光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物。 - 特許庁

The photo-curable resin composition for nano-imprint contains a curable monomer or a curable monomer and a binder resin, and further contains a compound having a reactive functional group and a hydrophobic functional group in the same molecular skeleton, by 0.001 to 5 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the total amount of the curable monomer and the binder resin.例文帳に追加

本発明のナノインプリント用光硬化性樹脂組成物は、硬化性モノマー、又は硬化性モノマーとバインダー樹脂とを含有し、該硬化性モノマーとバインダー樹脂との総量１００重量部に対して、同一分子骨格中に反応性官能基と疎水性官能基を有する化合物をさらに０．００１〜５重量部含有することを特徴とする。 - 特許庁

An ink jet, laser or other printer or output device may imprint a paper, plastic or other media with geometric symbols such as triangles in a defined array, to represent, for instance, name, address, or other identifying information, for instance such as digital facial photographs, iris or retinal scans, fingerprints, signatures, or other information.例文帳に追加

インクジェットプリンタ、レーザプリンタ、他のプリンタ、または出力デバイスは、例えば、名前、住所、または例えばデジタル顔写真、アイリススキャンもしくは網膜スキャン、フィンガプリント、署名、他の情報など他の識別情報を表現するための定義されたアレイ中の、三角形などの幾何学シンボルを有する紙媒体、プラスチック媒体、または他の媒体に印刷することができる。 - 特許庁

Especially in a liquid crystal dropping step (ODF) for vacuum bonding using a UV curing seal, a liquid crystal is protected by the imprint resin later 30, so that no shielding mask or alignment is required, UV light can be directly radiated and contamination from the seal to the liquid crystal layer can be suppressed by simplifying the step and shortening the time of contact between the seal and the liquid crystal.例文帳に追加

特に、紫外線硬化シールを用いる真空貼り合わせの液晶滴下工程（ＯＤＦ）では、インプリント樹脂層３０によって液晶が保護されていることによって、遮光マスクとアライメントが不要となり、直接紫外線を照射でき、工程の簡略化とともに、シールと液晶が触れている時間の短縮によりシールからの液晶層への汚染を抑えることができる。 - 特許庁

The imprint lithography method includes a step of providing a first amount 60 of an imprintable medium having a first etching rate when solidified on a first area of a substrate and a step of providing a second amount 62 of an imprintable medium having a second etching rate different from the first etching rate when solidified on a second area different from the first area on the substrate.例文帳に追加

ある実施形態では、固化すると第１のエッチング速度を有するインプリント可能な媒体の第１の分量６０を基板の第１の領域上に提供するステップと、固化すると第２の異なるエッチング速度を有するインプリント可能な媒体の第２の分量６２を基板の第２の異なる領域上に提供するステップとを含むインプリントリソグラフィ方法が提供される。 - 特許庁

The control section controls the resin feeding mechanism so that the resin is supplied to a shot region to be imprinted and at least part of a region on the envelopment member facing a pattern region, in case when the pattern region of the mold to conduct imprint treatment protrudes from periphery of the substrate resulting in protrusion of the pattern region from the shot region to be imprinted.例文帳に追加

制御部は、インプリント処理を行う型のパターン領域が基板の外周からはみ出すために、パターン領域がインプリント処理を行うべきショット領域からはみ出す場合に、インプリント処理を行うべきショット領域と、包囲部材の上の領域のうちパターン領域に対向する部分の少なくとも一部とに、樹脂が供給されるように樹脂供給機構を制御する。 - 特許庁

In a method for carrying out the nano-imprint by inkjet in which an ink droplet D made of resist material is applied, the ink droplet D is applied on a substrate 3 so that an ink droplet interval Wa along a direction A approximately parallel to the direction of a line-shaped uneven pattern P1 becomes longer than an ink droplet interval Wb along a direction B approximately vertical to the direction A.例文帳に追加

インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴Ｄを塗布しナノインプリントを行う方法において、ライン状凹凸パターンＰ１のライン方向に略平行な方向であるＡ方向に沿った液滴間隔Ｗａが、Ａ方向に略垂直な方向であるＢ方向に沿った液滴間隔Ｗｂより長くなるように、液滴Ｄを基板３上に塗布する。 - 特許庁

To provide a release force measuring method by which, in order to obtain information of a release property between a mold with which fine patterns formed and a transfer material, a release force of the transfer material at the time when the fine patterns are transferred to and formed in the transfer material applied on a surface of a substrate to be processed in accordance with a minute mold shape for nano imprint can be easily and quantitatively measured.例文帳に追加

微細パターンを形成したモールドと転写材料との間の離型性情報を得るために、ナノインプリント用の微細なモールド形状に対応して、被加工基板表面に塗布された転写材料に微細パターンを転写形成したときの転写材料の離型力を簡便に定量的に計測することができる離型力測定方法を提供する。 - 特許庁

The mold 1 for optical imprint includes a transparent base 2, a transparent conductive pattern layer 4 positioned on one surface 2a of the transparent base 2 and having a desired unevenness structure, a transparent conductive reverse-surface layer 7 positioned on the other surface 2b of the transparent base 2, and a top-reverse connection member 8 electrically connecting the transparent conductive pattern layer to the transparent conductive reverse-surface layer.例文帳に追加

光インプリント用のモールド１を、透明基材２と、この透明基材２の一方の面２ａに位置し所望の凹凸構造を有する透明導電パターン層４と、透明基材２の他方の面２ｂに位置する透明導電裏面層７と、透明導電パターン層と前記透明導電裏面層とを電気的に接続する表裏接続部材８と、を備えたものとする。 - 特許庁

The imprint lithography apparatus includes a substrate table that supports a lithographic substrate and a plurality of print heads each provided with nozzles configured to eject fluid onto the lithographic substrate, wherein the plurality of nozzles extend over a distance substantially equal to or greater than the diameter of the lithographic substrate and the plurality of nozzles and the lithographic substrate are moveable relative to each other.例文帳に追加

インプリントリソグラフィ装置は、リソグラフィ基板を支持する基板テーブルと、リソグラフィ基板に流体を放出するように構成されたノズルを設けた複数の印刷ヘッドを備え、複数のノズルはリソグラフィ基板の直径と実質的に等しいかまたはそれより大きい距離にわたって延在し、複数のノズルおよびリソグラフィ基板は相互に対して相対的に移動可能である。 - 特許庁

In the imprint mold structure and the like, a dummy pattern is formed radially extending from at least any of an inner circumferential edge and an outer circumferential edge of a pattern forming area on a magnetic recording medium substrate, at least at any of an inner circumferential edge and an outer circumferential edge of the concavo-convex patterns in a data area and a servo area based on the center.例文帳に追加

中心を基準としたデータ領域の凹凸部及びサーボ領域の凹凸部の内周端、及び外周端の少なくともいずれかには、前記磁気記録媒体の基板におけるパターン形成予定領域の内周端、及び外周端の少なくともいずれかに対して延長されたダミーパターンが形成されたことを特徴とするインプリント用モールド構造体等である。 - 特許庁

This method of manufacturing the sub master mold 20 from a master pattern mold 30 for imprint having grooves corresponding to the minute pattern includes a minute pattern dimension fluctuation process of performing dry etching using oxygen gas with respect to a resist layer 4 which is formed on a hard mask layer formed on a substrate 1 for the sub master mold and to which the minute pattern of the master pattern mold 30 is transferred.例文帳に追加

微細パターンに対応する溝が設けられたインプリント用の元型モールド３０からサブマスターモールド２０を製造する方法において、前記サブマスターモールド用の基板１上にはハードマスク層が形成され、前記ハードマスク層上に形成され且つ元型モールドの微細パターンが転写されたレジスト層４に対して、酸素ガスを用いたドライエッチングを行う微細パターン寸法変動工程を有する。 - 特許庁

The template 1 used for an imprint which is used to transfer a pattern to the curable material applied on a processed substrate has the substrate having a surface 2 in contact with the curable material comprises a recess 5 which is formed at the surface 2 and corresponds to the pattern transferred to the processed substrate, and a protrusion 6 which is arranged in the recess 5 to reduce the volume of the recess 5.例文帳に追加

テンプレートは、被加工基板上に塗布された硬化性材料にパターンを転写するために使用されるインプリント用のテンプレート１であって、前記硬化性材料と接触する面２を有する基板と、面２上に設けられ、前記被加工基板に転写されるパターンに対応した凹部５と、凹部５の体積を小さくするために、凹部５内に配置された凸部６とを具備してなることを特徴する。 - 特許庁

A method includes forming an imprint on a medium to be imprinted, having a pattern feature and a decreased thickness area, making a template contact the medium to be imprinted on a substrate, separating the template from an imprinted medium, and after the template has been separated from the imprinted medium, providing a layer of an etching resistance material in a pattern feature.例文帳に追加

インプリント方法が開示され、一実施例において、パターン・フィーチャと低減された厚みのエリアとを備えるンプリント可能な媒体にインプリントを形成するために、基板上のインプリント可能な媒体にテンプレートを接触させることと、テンプレートをインプリントされた媒体から分離することと、テンプレートをインプリントされた媒体から分離した後に、パターン・フィーチャにエッチ抵抗材料の層を備えることとを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a printed wiring board wherein an interlayer insulating layer formed by dispersing scaly grains into a curing resin is formed on a board, and a wiring pattern and via holes can easily and accurately be transferred to the inter layer insulating layer by an imprint method, using a mold having bumps and dips corresponding to the wiring pattern and the via holes without using an optical transferring method and complicated etching treatment.例文帳に追加

硬化樹脂中に鱗片状粒子を分散させてなる層間絶縁層を基板上に形成し、光学的な転写方法や煩雑なエッチング処理を用いることなく、配線パターンやバイアホールに対応する凹凸を有するモールドを用いたインプリント法によって、配線パターンやバイアホールを層間絶縁層に容易かつ正確に転写できるプリント配線板の製造方法を提案する。 - 特許庁

In an imprint type transfer printer for transferring an irregular pattern formed on a transfer printing plate 1 directly onto the surface of a printed member 2 or onto a resin film formed on the printed member, the distance and inclination of the transfer printing plate 1 for the printed member 2 or the distance and inclination of the transfer printing plate 1 for the resin film formed on the printed member 2 are detected.例文帳に追加

転写印刷版１に形成した凹凸のパターンを、被印刷部材２の面上に直接に、または被印刷部材上に形成された樹脂膜上に転写するインプリント方式の転写印刷装置において、被印刷部材２に対する転写印刷版１の距離および傾き、または被印刷部材２上に形成された樹脂膜に対する転写印刷版１の距離および傾きを検出する。 - 特許庁

The imprint device comprises a support for holding a mold on which a reference mark is formed, a substrate stage which holds a substrate having a first mark and a second mark formed in each shot region, and a detector which measures the relative position between the shot regions by detecting the first and second marks formed in each shot region and the reference mark formed on the mold.例文帳に追加

インプリント装置は、基準マークが形成されたモールドを保持する支持体と、各ショット領域に第１マーク及び第２マークが形成された基板を保持する基板ステージと、前記各ショット領域に形成された前記第１マーク及び前記第２マークと前記モールドに形成された前記基準マークとを検出することによって前記各ショット領域間の相対位置を計測する検出器とを備える。 - 特許庁

The nano-imprint composition comprises a composition represented by general formula (I), wherein X_1 represents a substituent or halogen atom connected by a hetero atom, X_2 represents a hydrocarbon group substituted by fluorine atom, Ra and Rb each independently represent hydrogen atom, halogen atom, cyano group or organic residue, and Ra and Rb, or X_1 and Ra or Rb may be mutually bonded to form an annular structure.例文帳に追加

下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含むナノインプリント用組成物：（一般式（Ｉ）中、Ｘ_１はヘテロ原子で連結した置換基またはハロゲン原子を表す。Ｘ_２は、フッ素原子で置換されている炭化水素基を表す。Ｒａ、Ｒｂは各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は有機残基を表す。また、ＲａとＲｂ、Ｘ_１とＲａあるいはＲｂが互いに結合して環状構造を形成しても良い。）。 - 特許庁