「IMPRINT」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a nano imprint method or the like which reduces defects by suppressing damage to resin when demolding.例文帳に追加

本発明は、離型時の樹脂の破損を抑え、欠陥の少ないナノインプリント方法等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for fabrication of isolated micro-and nano-structures using soft or imprint lithography.例文帳に追加

ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an imprint apparatus that determines the quality of the molding by a mold from a first shot with a certain standard.例文帳に追加

統一した基準でかつ1番目のショットからモールドによる成形の良否を判定できるインプリント装置を提供する。 - 特許庁

To improve yield and quality control of a magnetic recording medium having a discrete track manufactured by imprint lithography.例文帳に追加

インプリント法を用いて製造したディスクリートトラックを有する磁気記録媒体の歩留まり及び品質の管理を改善する。 - 特許庁

To provide a ferroelectric storage device in which imprint can be suppressed, its driving method, and a driving circuit.例文帳に追加

インプリントを抑制することができる強誘電体記憶装置、その駆動方法及び駆動回路を提供すること。 - 特許庁

To realize cooling for preventing imprint deterioration of a ferro- electric capacitor without reducing external power source voltage.例文帳に追加

強誘電体コンデンサのインプリント劣化を防止するためのクーリングを外部電源電圧を低下させることなく可能にする。 - 特許庁

The data control part 34 displays a confirmation key for ending the display on the display part 34 together with the imprint, the balance or the like.例文帳に追加

データ制御部は、表示部３４に印影や残高等と共に、表示を終了するための確認キーを表示する。 - 特許庁

Thereby, imprint relaxation operation can be performed as necessary, a ferroelectric memory device having a long lifetime can be realized.例文帳に追加

これにより、必要に応じたインプリント緩和動作が行え、寿命の長い強誘電体メモリデバイスを実現できる。 - 特許庁

To provide a method for transferring a patten from a template to an object in an imprint process, using a two-step process.例文帳に追加

インプリント製法でテンプレートから物体にパターンを転写するための、２工程製法を使用する方法を提供する。 - 特許庁

To form a favorable line pattern when microfabricating width dimensions of a line and a space using a sidewall imprint technology.例文帳に追加

側壁転写技術を用いてライン及びスペースの各幅寸法を微細化した場合に、良好なラインパターンを形成する。 - 特許庁

A charged particle beam is used for correcting black defects or white defects in the original plate used for nano imprint lithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィで荷電粒子ビームをナノインプリントリソグラフィ用の原版の黒欠陥修正や白欠陥修正に利用する。 - 特許庁

To detect a defect of the pattern of a nano order of a nano-imprint mold (NIM) smaller than the wavelength of illumination light with high accuracy.例文帳に追加

照明光の波長よりも小さい、ナノインプリントモールド（ＮＩＭ）のナノオーダーのパターンの欠陥を高精度で検出する。 - 特許庁

The acrylate/epoxide hydrid system shows improved replication properties in terms of high nano-imprint lithography process fidelity.例文帳に追加

アクリレート／エポキシドハイブリッド系はナノインプリントリソグラフィープロセスの高い忠実度という観点で、改良された複製性能を示した。 - 特許庁

To provide a technology advantageous in measurement accuracy of residual film thickness of a pattern formed on a substrate by an imprint device.例文帳に追加

インプリント装置により基板に形成されたパターンの残膜厚を計測する精度の点で有利な技術を提供する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRAWING ELECTRON BEAM, METHOD OF MANUFACTURING IMPRINT MOLD, AND METHOD OF MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、電子ビーム描画システム、インプリントモールドの製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

To provide imprint lithography device and method with little pattern defects according to an embodiment of the present invention.例文帳に追加

本発明の実施形態によれば、パターン不良の少ないインプリントリソグラフィ装置及び方法を提供することができる。 - 特許庁

To assure a desired amount of deformation by applying a desired amount of force to an imprint template.例文帳に追加

インプリントテンプレートに所望の量の力が加えられ、したがって所望の量の変形が達成されることを保証する。 - 特許庁

The imprint lithography method includes a step of bringing a patterned surface into contact with an imprintable liquid medium for a filling period.例文帳に追加

充填期間にわたってパターン形成された表面をインプリント可能な液体媒体と接触させるステップを含む。 - 特許庁

The imprint forming device 10 is equipped with seals 11 and a seal heating device (a heating means) 12 as a heating means.例文帳に追加

印影形成装置１０は、印章１１と、加熱手段である印章加熱装置（加熱手段）１２とを備えている。 - 特許庁

To simultaneously perform imprint on front and back surfaces of a substrate while pressing stamp parts against the front and back surfaces with uniform force.例文帳に追加

基板の表面と裏面とに均一な力で型部を押し当てながら、表面と裏面とを同時にインプリントすること。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING IMPRINT MOLD AND METHOD OF MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、電子ビーム描画装置、インプリントモールドの製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

In the imprint mold, a region where an uneven pattern is formed is formed into a mesa structure higher than the surrounding surface.例文帳に追加

インプリントモールドは、凹凸パターンが形成されている領域が、その周囲の面よりも高いメサ構造に形成される。 - 特許庁

The mold for imprint processing is coated with perfluoropolyether having a functional group chemically reacting with a material of the mold.例文帳に追加

金型の材料と化学的に反応する官能基を有するパーフルオロポリエーテルで被覆してなるインプリント加工用金型。 - 特許庁

The imprint method uses an infrared ray light-hardened resin and uses an infrared ray as an exposure light.例文帳に追加

本発明のインプリント法は、赤外線光硬化性樹脂を用いて露光光に赤外線を用いることを特徴とする。 - 特許庁

To imprint photographing data on film at high probability in a camera where the film is wound by manual operation.例文帳に追加

フィルムを手操作により巻き上げるカメラにおいて、フィルムへの撮影データの写し込みをより高い確率で実現する。 - 特許庁

To provide an imprint device advantageous in restricting a bending amount of a mold or obtaining a specific bending state of the mold.例文帳に追加

型の撓み量を制限する、または、型の特定の撓み状態を得るのに有利なインプリント装置を提供する。 - 特許庁

CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINT, CURED PRODUCT USING THE COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING THE CURED PRODUCT, AND MEMBER FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

インプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材 - 特許庁

To provide a transfer object positioning method of a double-sided imprint device for positioning a transfer object and upper and lower stampers with high accuracy by use of one camera without providing an alignment mark on the transfer object and to provide the double-sided imprint device.例文帳に追加

被転写体にアライメントマークを設けることなく、カメラ一台で被転写体と上下のスタンパとを高精度に位置決めが可能な両面インプリント装置の被転写体位置決め方法および両面インプリント装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an imprint card issuing device and an imprint card collation device, capable of improving user's convenience and reducing risk of a seal loss, allowing accurate collation, allowing improvement of efficiency of business, and hardly allowing forgery.例文帳に追加

利用者の利便性の向上及び印章紛失のリスクの軽減ができ、また正確な照合を可能にし、加えて事務の効率化を図れ、さらに偽造のされにくい印影カード発行器及び印影カード照合器を提供せんとするものである。 - 特許庁

To provide a mold structure for imprint and an imprint method, which enhance an adhesion efficiency of a release layer, improve a durability of the release layer, and are good in pattern formability, and also to provide a magnetic recording medium and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

剥離層の付着効率が上がり、剥離層の耐久性が改善され、モールド耐久性が向上し、パターン成形性が良好なインプリント用モールド構造体、並びにインプリント方法、磁気記録媒体及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an imprint method and an imprint apparatus that achieve peeling with smaller peeling force according to the shape of a transferred material layer as a transferred body and avoid trouble such that resin as the transferred body sticks on a mold.例文帳に追加

被転写物である被転写材料層の形態に応じて、より小さな剥離力での剥離が可能となり、被転写物である樹脂がモールドに付着するという不都合の発生を回避できるインプリント方法とインプリント装置とを提供する。 - 特許庁

The organic thin-film solar cell is manufactured by forming fine grooves with a nano-scale width on a layer on which a bulk hetero junction by a donor and an acceptor is formed by applying nano-imprint processing by using an imprint frame, and forming electrodes in the fine grooves.例文帳に追加

インプリント型を用いてナノインプリント加工することによりドナーとアクセプターによるバルクへテロ接合が形成された層にナノスケール幅の微細な溝を形成し、該微細な溝に電極を形成して有機薄膜太陽電池を製造する。 - 特許庁

The method for judging the risk of the imprint abnormality occurrence in the sperm of the human male infertility patient includes detecting methylation abnormality in at least one allele-specific methylation region in maternal imprint genes PEG1, LIT1, ZAC, PEG3 and SNRPN, and optionally at least one allele-specific methylation region in paternal imprint genes H19 and GTL2 as a DNA derived from the sperm of the patient.例文帳に追加

ヒト男性不妊症患者の精子由来DNAについて、母性インプリント遺伝子PEG1、LIT1、ZAC、PEG3、及びSNRPNのうち少なくとも１つのアレル特異的メチル化領域、及び必要によりさらに父性インプリント遺伝子H19及びGTL2のうち少なくとも１つのアレル特異的メチル化領域、においてメチル化異常を検出することを含む、該患者の精子におけるインプリント異常発生リスクを判定する方法。 - 特許庁

A fine pattern 2a is added by a nano-imprint method which presses a mold 8 to an HSQ film 2 on a substrate 1.例文帳に追加

まず基板１上のＨＳＱ膜２に、モールド８を押し当てるナノインプリント法によって微細パターン２ａの付与を行う。 - 特許庁

When the confirmation key is pressed, the data control part ends the display, and deletes the imprint data or the balance data from the memory part.例文帳に追加

確認キーが押されると、データ制御部は表示を終了するとともに印影データや残高データをメモリ部から消去する。 - 特許庁

The stamper may be used to imprint an embossable layer disposed on a substrate for the production of a magnetic recording disk.例文帳に追加

スタンパは、磁気記録ディスクの製造のために基板上に配置されるエンボス可能可能な層をインプリントするために使用できる。 - 特許庁

To prevent adhesion of a disk material to a stamper upon embossing in manufacturing a disk for discrete recording by an imprint lithography.例文帳に追加

インプリント・リソグラフィでディスクリート記録ディスクを作成するときに、エンボス時にディスクの材料がスタンパにくっつかないようにする。 - 特許庁

To provide a seal holder capable of giving an imprint of seal having a uniform density in the case of impression by uniformly adhering a vermilion ink to a seal surface.例文帳に追加

印面に朱肉が均一に付着し、捺印した場合、濃度が均一の印影が得られる印鑑ホルダーを提供する。 - 特許庁

The wafer carry-in/out station 5 can hold a plurality of the wafers W and carries the wafers W continuously to/from the imprint unit 4.例文帳に追加

ウェハ搬入出ステーション５は、複数のウェハＷを保有可能で、インプリントユニット４に連続的にウェハＷを搬入出する。 - 特許庁

To improve reliability of a ferroelectric memory by preventing generation of imprint of a ferroelectric capacitor and deterioration of the characteristic.例文帳に追加

強誘電体キャパシタのインプリントの発生および特性の劣化を防止し、強誘電体メモリの信頼性を向上する。 - 特許庁

A layer for a material for an embossing process is coated with a thin repelling film having a thickness of a molecular size prior to the imprint of the layer.例文帳に追加

エンボス加工用材料層を、その層のインプリントに先立ち、分子の大きさの程度に薄い離型膜でコーティングする。 - 特許庁

The buffer layer 20 allows pressure uniformization of a press in imprint molding by using the replicating mold 100.例文帳に追加

この複製金型１００を用いることで、インプリント成形において、緩衝層２０がプレスの圧力均一化を可能とする。 - 特許庁

To provide a technology for smoothly performing the alignment between a shot region and a die, and an etching process after imprint process as well.例文帳に追加

ショット領域と型との位置合わせとインプリント処理後のエッチング処理との双方を円滑に行う技術を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint lithography template with an alignment mark for preventing the alignment mark from being filled with an imprintable medium.例文帳に追加

インプリント可能な媒体がアライメントマークを充填することを防止するアライメントマークを備えたインプリントリソグラフィテンプレートを提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method in which alignment between layers is performed precisely when a pattern is formed using imprint lithography.例文帳に追加

インプリントリソグラフィを用いてパターン形成する際のレイヤ間の位置合わせを精度良く行なうパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁