「IMPRINT」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide coating film forming equipment wherein the sticking of particles to a substrate is prevented while restraining imprint generation in the substrate, the increase of footprint is restrained furthermore, and the smearing of the equipment from a cleaning unit which performs the cleaning of a nozzle which jets coating liquid is restrained.例文帳に追加

基板における転写発生を抑制するとともに基板へのパーティクルの付着を防止し、さらにフットプリントの増大を抑え、塗布液を吐出するノズルの洗浄を行う洗浄ユニットからの装置汚染を抑制した塗布膜形成装置を提供する。 - 特許庁

The seal on the mailed document and an imprint stored in advance are compared in S318-S322, and the input data stored in the input data DB 304 are used for application when they match in S324-S326.例文帳に追加

処理Ｓ３１８〜処理Ｓ３２２において、郵送された書類になされた捺印と予め格納してある印影を比較し、一致した場合は、処理Ｓ３２４〜処理Ｓ３２６において入力データＤＢ３０４に格納されている入力データを使用して申請処理を行なう。 - 特許庁

To solve the problem in a conventional method of a seal imprint extraction being unable to be performed precisely when a square seal larger than a sealing column frame is put on a document, because it has been difficult to discriminate the sealing column frame from the square seal frame by the characteristic of black pixels.例文帳に追加

捺印欄枠より大きな角印が帳票上に捺印されていた場合、捺印欄枠と角印印枠を連続する黒画素という特徴で区別することは困難であり、従来の方法では正しく印影抽出を行なうことはできない。 - 特許庁

The imprint apparatus has a suction holding means for sucking/holding the stampers 14 and 16 and an elastic deformation means for elastically deforming the stampers 14 and 16 held by the suction holding means to urge the separation of the molded material 12 and the stampers 14 and 16 from each other.例文帳に追加

本発明は、スタンパ１４、１６を吸着して保持する吸着保持手段と、被成形材１２とスタンパ１４、１６との分離を促すように、吸着保持手段により保持されたスタンパ１４、１６を弾性変形させる弾性変形手段とを備える。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an information display panel in which resin material is selectively and quantitatively coated in a short time period on an information display region on a substrate where a partition is to be formed, when the partition is formed with an imprint method.例文帳に追加

情報表示用パネルの製造方法において、インプリント法により隔壁を形成する際に、樹脂材料を選択的に、且つ定量的に短時間に基板表面の隔壁を形成すべき情報表示領域に塗布する製造方法を提供する。 - 特許庁

Disclosed is an imprint lithography apparatus including: a first support structure 21 for supporting a template 20; and a first actuator 22 mounted on the first support structure constituted in use such that it is disposed the first support structure and the template.例文帳に追加

テンプレート２０を支持する第１のサポート構造２１と、第１のサポート構造に取り付けられ、第１のサポート構造とテンプレートとの間に配置されるように使用に際して構成された第１のアクチュエータ２２とを有するインプリントリソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

In this case, the imprint mold is manufactured by a method wherein a resist is formed on the substrate and a plurality of recessed and projected patterns with different depths are formed on the resist to effect dry etching treatment from the surface of the resist with a plurality of recessed and projected patterns formed thereon toward the substrate.例文帳に追加

また、基板上にレジストを形成し、レジストに深さを異ならせた複数の凹凸パターンを形成し、複数の凹凸パターンを形成した前記レジストの表面から基板に向かってドライエッチング処理を行うことを特徴とするインプリントモールドの製造方法。 - 特許庁

The method of producing a curable composition for imprint includes a step for passing a curable composition containing (A) a polymerizable monomer and (B) a polymerization initiator through a first filter having an effective filtering area of 200 cm^2 or more.例文帳に追加

（Ａ）重合性単量体、および（Ｂ）重合開始剤を含有する硬化性組成物を、２００ｃｍ^2以上の有効濾過面積を有する第１のフィルターを通過させる工程を有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物の製造方法を用いる。 - 特許庁

The imprint method includes a process for applying a resist having a coefficient of viscosity of ≥2 poise and <40 poise onto a substrate and a process for pressurizing the stamper having ruggedness on the surface thereof to the resist to transfer the ruggedness to the resist.例文帳に追加

基板上に粘性係数が２ポアズ以上４０ポアズ未満のレジストを塗布する工程と、表面に凹凸を有するスタンパを前記レジストに押圧することによって、前記スタンパの凹凸を前記レジストに転写する工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In addition, the server is provided with a part for processing reading of the store information to form the seal imprint image of the prescribed store based on a request for reading the store information of the prescribed store from the client terminal and to store it in the client terminal together with the data of the prescribed store.例文帳に追加

又、サーバーはクライアント端末からの所定の店舗の店舗情報閲覧要求に基づいて所定の店舗の印影イメージを生成しこれを所定の店舗のデータと共にクライアント端末に表示する店舗情報閲覧処理部を備えている。 - 特許庁

To prevent formation of an imprint of a projection on sheetlike matter, to prevent a fault in loading or trans-gripping in delivery equipment and also to prevent a fall of a commodity value of the sheetlike matter itself.例文帳に追加

枚葉輪転印刷機における爪装置およびその製造方法において、シート状物に突起跡が形成されないようにし、排紙装置における積載不良やくわえ替え不良を防止し、シート状物自体の商品価値も低下させるようなことがないようにする。 - 特許庁

The pattern is formed by an imprint process including a press step in which a mold 5 and a photosensitive resin layer 2 are pressed by using a heating body set at 35-130°C, exposure step in which the photosensitive resin layer is cured by exposure, and disengagement step in which the mold is disengaged.例文帳に追加

温度３５〜１３０℃に設定された加熱体を用いて、モールド５と感光性樹脂層２とを押し付けるプレス工程、感光性樹脂層を露光により硬化させる露光工程、およびモールドを外す離脱工程を含むインプリントプロセスによりパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a nano-imprint method by which can fill resin in accordance with the shape of a fine uneven pattern formed on a mold without requiring high pressing force or obstructing the filling of resin.例文帳に追加

本発明は、高い押圧を要することなく、樹脂の充填を阻害することなく、モールドに形成された微小な凹凸パターンに、その形状に忠実に追従して樹脂を充填させることを可能とするナノインプリント方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a replicating mold that can transfer unevenness on a main surface 11 of an electroforming layer in a replicating mold 100 by uniform press pressure even when there is unevenness on the opposite surface 12 of the electroforming layer in imprint molding for transferring to a UV curable resin or a thermoplastic resin.例文帳に追加

複製金型１００における電鋳層主面１１上の凹凸を、ＵＶ硬化樹脂や熱可塑性樹脂に転写するインプリント成形において電鋳層反対面１２に凹凸があっても均一なプレス圧力で転写できる複製金型を提供する。 - 特許庁

To simply form a uniform rough surface having a low degree of roughness that is required for an insulation resin by using an imprint method in a formation method of the insulation resin rough surface of a multilayer printed wiring board formed by alternately laminating conductor layers and insulation resin layers.例文帳に追加

導体層及び絶縁樹脂層が交互に積層されてなる多層プリント配線板の絶縁樹脂粗化面形成方法において、絶縁樹脂に求められる低粗度且つ均一な粗化面をインプリント法により簡便に形成することを目的とする。 - 特許庁

A resin stamper for imprint has a fine uneven pattern on one surface, the uneven pattern is formed by cutting in a milling method or shaper method, and the resin is hydrocarbon resin, fluororesin or silicone resin.例文帳に追加

一方の表面に微細な凹凸パターンを有するインプリント用樹脂製スタンパであって、前記凹凸パターンがミーリング方式又はシェーパー方式で行われる切削加工により形成され、前記樹脂が、炭化水素系樹脂、フッ素系樹脂又はシリコーン系樹脂である。 - 特許庁

The upper layer of the thin film is etched by a dry etching process by using a chlorine-based gas that substantially does not contain oxygen, and subsequently the lower layer of the thin film and the substrate are etched together by a dry etching process using a fluorine-based gas to obtain a mold for imprint.例文帳に追加

薄膜の上層を、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工し、続いて薄膜の下層及び基板を、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理により一度にエッチング加工することによりインプリント用モールドを得る。 - 特許庁

This memory is provided with a memory cell array 11 having a ferroelectric storage element C and a transistor T for switch, and a low voltage write-in circuit 12 in which polarization quantity of a ferroelectric film of each memory cell is set to a lower value than a value at normal write-in and acceleration of imprint is reduced.例文帳に追加

強誘電体記憶素子Ｃとスイッチ用トランジスタＴとを有するメモリセルのアレイ11と、各メモリセルの強誘電体膜の分極量を通常書込み時より低く設定し、インプリントの加速を低減する低電圧書込み回路12を具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a pattern medium using an imprint method capable of preventing a resist pattern defect generated by gas taken between an interface of an imprinting mold and a resist layer and a resist pattern defect generated by a bubble probably generated in the resist film and on the resist surface.例文帳に追加

インプリント用モールドの界面とレジスト層との間に取り込まれた気体によるレジストパターン欠陥や、レジスト膜中、レジスト表面に発生する可能性のある気泡によるレジストパターン欠陥の発生を防止できるインプリント法を用いたパターン媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an imprint mold which is capable of forming a fine mold pattern with high pattern accuracy and is capable of finally removing a thin film pattern formed for etching processing on a substrate, without damaging the mold pattern.例文帳に追加

インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a master disk in which a data part and a servo part are formed on a substrate and which is used when a magnetic recording medium or a mold used to manufacture the magnetic recording medium is manufactured by imprint, a data pattern is arranged in the data part so as to satisfy the following conditions (1) and (2).例文帳に追加

データ部とサーボ部とが基板上に形成され、磁気記録媒体又はそれを製造するために用いられるモールドをインプリントにより製造する際に用いられる原盤において、データパターンは以下の条件（１）及び（２）を満たすようにデータ部内に配置されている。 - 特許庁

To provide an ink composition for imprint lithography and roll printing, wherein a polymer resin and additive both endurable even at a high temperature are used to raise pattern precision while constantly maintaining pattern linewidths and line intervals and a method for fabricating a liquid crystal display device (LCD) using the same.例文帳に追加

高温にも耐えられる高分子樹脂及び添加剤を使用することによりパターンの線幅及び線間隔を一定に維持する一方、パターンの精度を高めた、インプリントリソグラフィ及びロールプリント工程用インク組成物、並びにこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint apparatus and imprinting method efficiently and simply performing various tests for transferring of a fine irregular structure, and small amount production of various products, without damaging the fine irregular structure transferred to the surface of a base material film and the fine irregular structure on the surface of a mold.例文帳に追加

基材フィルムの表面に転写された微細凹凸構造やモールドの表面の微細凹凸構造を傷つけることなく、微細凹凸構造の転写に関する各種試験や多品種・少量生産を効率よく簡易に行うことができるインプリント装置およびインプリント方法を提供する。 - 特許庁

The mask blank is used in producing a sub-master mold 20 by imprint-transferring the fine pattern prepared on a surface of master mold 30, and has a hard mask layer on its substrate 1, wherein the hard mask layer contains a layer of chromium compound having a chemical formula CrO_xN_yC_z (where x>0).例文帳に追加

元型モールド３０の表面に設けられている微細パターンをインプリントにより転写してサブマスターモールド２０を製造する際に用いられるマスクブランクスであって、化学式ＣｒＯ_ｘＮ_ｙＣ_ｚ（ただしｘ＞０）であるクロム化合物層を含むハードマスク層を基板１上に有する。 - 特許庁

To provide a resist composition used for an imprint lithography process, by which fault in a resist pattern can be prevented to improve the durability of a mold for molding a UV curable resin, and to provide a method for forming resist pattern using the same and method for forming an array substrate using the same and an array substrate manufactured using the same.例文帳に追加

インプリントリソグラフィ工程でレジストパターンの不良を防止して、モールドの寿命を向上させることができるレジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板を提供する。 - 特許庁

The blank 10 for imprint includes: a base layer 11; and a plurality of diamond-like carbon layers 12, 13 which are laminated on the base layer 11 and have mixing ratios of the carbon forming sp^2 hybrid orbit to the carbon forming sp^3 hybrid orbit, different between layers adjacent to each other in the lamination direction.例文帳に追加

本発明のインプリント用ブランクス１０は、下地層１１と、下地層１１上に積層され、ｓｐ^２混成軌道を形成する炭素とｓｐ^３混成軌道を形成する炭素との混合比が、積層方向に隣接する層間で異なる複数のダイヤモンドライクカーボン層１２、１３と、を備えた。 - 特許庁

An imprint apparatus includes: a support supporting a mold; a substrate stage supporting a substrate; a detector detecting a force applied to the mold; a mechanism forming a space for removing the mold supported by the support, between the support and the substrate stage; and a control unit.例文帳に追加

インプリント装置は、型を支持する支持体と、基板を支持する基板ステージと、前記型に加えられた力を検出する検出器と、前記支持体と前記基板ステージとの間に前記支持体に支持された前記型を取り外すための空間を作り出す機構と、制御部と、を備える。 - 特許庁

The curable compound for imprint contains ≥30 wt.% of a (meth)acrylate compound based on the whole polymeric monomer, wherein the (meth)acrylate compound is composed of only a carbon atom, an oxygen atom and a hydrogen atom and has ≥310 of a molecular weight and ≤30 Pa s of viscosity at 25 °C.例文帳に追加

分子量３１０以上、２５℃における粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下で、炭素原子、酸素原子および水素原子のみから構成される（メタ）アクリレート化合物を全重合性単量体中３０重量％以上の割合で含むことを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 - 特許庁

In a previous step of the carding process, cool down processing, in which writing carried out while reversing data is repeated while a voltage is lowered at fixed intervals, is performed on data excepting minimum necessary program control information, and influence of imprint can be prevented in the ferroelectric memory.例文帳に追加

カード化工程の前段階にて、必要最低限のプログラム制御情報以外のデータに関しては、電圧を一定間隔で下げつつデータを反転させながら書き込むことを繰り返すクールダウン処理を行うことで、強誘電体メモリのインプリントの影響を防止することができる。 - 特許庁

To provide a device and a method for speedily heating only thermoplastic resin or thermosetting resin to necessary temperature when the thermoplastic or thermosetting resin is used as an imprintable medium for imprint lithography in which a pattern fitted to a template is imprinted on a printable medium to be transferred to a substrate.例文帳に追加

テンプレートに付けたパターンを印写可能媒体に印写することによってパターンを基板に転写する印写リソグラフィで、この印写可能媒体として熱可塑性または熱硬化性樹脂を使うとき、それだけを必要な温度に迅速に加熱する装置・方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel mold structure which enables any kind of a pattern of a variety of dimensions assuming various types of design to be accurately transferred by a one-time imprint process (embossing and UV exposure), and to provide a resist process which guarantees extremely precise and stable print performance.例文帳に追加

一度のインプリント工程（押型＆ＵＶ露光）により、様々なデザインを想定した多様な寸法を有するパターンを全て忠実に転写することができることを旨とした、新しいモールド構造と高精度かつ安定的なプリント性能を担保できるレジストプロセスを提案する。 - 特許庁

The template is connected to the actuator through a bearing section 38, constituted so as to be able to substantially freely displace the actuator with respect to the template along an axis substantially vertical to the imprint axis, while the template is separated from the imprintable medium 31.例文帳に追加

インプリント可能な媒体３１からテンプレートを剥離する間に、インプリント軸線に対して実質的に垂直である軸線に沿って、テンプレートに対してアクチュエータを実質的に自由に変位できるように構成された軸受部３８を介して、テンプレートをアクチュエータに接続する。 - 特許庁

To provide an imprint method capable of more strictly interpolating an application distribution of a non-cured resin material to be applied to a board in shot unit and capable of efficiently re-interpolating the application distribution of the non-cured resin material per shot while suppressing a workload in a generation process.例文帳に追加

基板に塗布する未硬化樹脂材料の塗布分布の補間をショット単位でより厳密に行うことができ、しかも、生成工程における作業負荷を抑制しつつ効率的にショット毎の未硬化樹脂材料の塗布分布を再補間することができるインプリント方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a mold for nano-imprints, which forms a metal mold by reproducing a pattern on a resin layer when the production of a resin reproduction plate by methods such as an imprint while utilizing a high degree of freedom of the shape of a fine pattern using a silicon etching master is difficult.例文帳に追加

シリコンエッチングマスタを用いることによる微細パターン形状の自由度の高さを活かしつつ、インプリント等の方法で樹脂複製版を作製するのが困難な場合に、樹脂層にパターンを複製して金属モールドを形成するナノインプリント用モールドの製造方法を提供すること。 - 特許庁

According to such a manufacturing method of the semiconductor device 100, an imprinted region, i.e., the top surface of the imprint film 21 is so covered with the protecting film 31 as to be able to reduce the damage of a semiconductor chip 11 which is caused by dust, heat generation, gas, stress or the like generated when performing the imprints.例文帳に追加

かかる半導体装置１００の製造方法によれば、被捺印領域すなわち捺印膜２１の上面が保護膜３１に覆われることによって捺印する際に発生する粉塵、発熱、ガスおよびストレスなどによる半導体チップ１１へのダメージが低減できる。 - 特許庁

This composition for nano imprint has a component comprising: a compound forming a ring composed of three catechol dielectrics; and a compound forming a ring composed of four resorcinol dielectrics, wherein these compounds are preferably blended in a range of 0.7 to 1.5 mole ratio and storing stability is improved, and the pattern forming method using the composition.例文帳に追加

カテコール誘導体３個からなる環を形成する化合物と、レゾルシノール誘導体４個からなる環を形成する化合物を成分とし、これらを好ましくはモル比で０．７〜１．５の範囲で混合した、保存安定性が改善されたナノインプリント用組成物およびそれを用いたパタン形成方法。 - 特許庁

To imprint a natural picture on the surface of an object to be displayed even in the case of use of picture data corresponding to corner parts of an environment map with respect to a three-dimensional picture generation device suitable for representation of imprinting of an environment to the object surface.例文帳に追加

本発明は物体表面への環境の映り込みを表現するうえで好適な３次元画像生成装置に関し、環境マップの角部に対応する画像データが用いられる場合にも、被表示物体の表面に自然な画像を映し込むことを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition, a resist layer, an imprint method, a pattern forming body, and their associated technique in which there is not a peel-off defect or a pattern defect over the whole pattern forming body, a pattern shape and a remained film are uniform, and productivity is improved for short peel-off time.例文帳に追加

パターン形成体の全面にわたって、剥離不良やパターン不良がなく、パターン形状及び残膜を均一なものとし、短い剥離時間で生産性を向上させるレジスト組成物、レジスト層、インプリント方法、パターン形成体、及びこれらに関連する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

Also provided are the optical resolution film, a molecule imprint film for optical resolution, a nanofiber film for optical resolution, and a filler for an optical resolution column, using the polymer.例文帳に追加

（但し、Ａは光学活性なジカルボン酸であるＮ−置換アミノ酸からカルボキシ基を除いた残基で、Ｂはジアミンからアミノ基を除いた残基）また、このポリマーを用いた光学分割膜、光学分割用分子インプリント膜、光学分割用ナノファイバー膜、光学分割カラムの充填剤を提供する。 - 特許庁

To provide a ferroelectric memory in which imprint deterioration is suppressed when a polarity state of a ferroelectric capacitor is in a downward direction, reversing operation of the ferroelectric capacitor from a downward direction to an upper direction can be performed smoothly, while normal read- out operation can be performed.例文帳に追加

強誘電体キャパシタの分極状態が↓方向の時、インプリント劣化を抑制し、強誘電体キャパシタの分極の↓方向から↑方向への反転動作をスムーズに行うことができるとともに、正常な読出し動作を行うことが可能な強誘電体メモリを提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which prevents occurrence of defects in a resist pattern in an imprint lithography process and can improve the durability of a mold, a method for forming a resist pattern using the same, a method of fabricating an array substrate using the same, and an array substrate fabricated using the same.例文帳に追加

インプリントリソグラフィ工程でレジストパターンの不良を防止して、モールドの寿命を向上させることができるレジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板を提供する。 - 特許庁

When the number of times when the decision result of the operator becomes OK is equal to or more than X times (S22, YES), and the different places are the same place by Y times or more and Z% or more (S23, YES), a message for promoting the re-registration of the registration imprint is displayed at a display device in a step S25.例文帳に追加

オペレータの判定結果がＯＫとなった回数がＸ回以上で（Ｓ２２、ＹＥＳ）、相違箇所がＹ回以上かつＺ％以上同一箇所であったときには（Ｓ２３、ＹＥＳ）、ステップ２５で登録印の再登録を促すメッセージを表示装置に表示させる。 - 特許庁

The method of manufacturing the magnetic recording medium includes a metal containing layer forming step of forming the metal containing layer containing metal having the valence of any of bivalence to pentavalence on the supporting body by nano imprint transfer.例文帳に追加

上記磁気記録媒体の製造方法であって、支持体上に、２〜５価のいずれかの原子価を有する金属を含む金属含有層をナノインプリントにより転写して形成する金属含有層形成工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。 - 特許庁

In an ashing gas atmosphere for removing resin adhering to an original pattern used for imprint, the original pattern is irradiated with ultraviolet light and near-field light is generated in the local region of protrusions and recesses on the original pattern.例文帳に追加

実施形態の樹脂除去方法では、インプリントに用いられるパターン原版に付着した樹脂を除去するアッシングガス雰囲気中で、前記パターン原版に紫外線を照射することにより、前記パターン原版上のパターン凹凸部の局所領域に近接場光を発生させる。 - 特許庁

To provide a mold structure capable of reducing a residual film, excellent in uniformity of a residual film over the entire surface of a substrate, having improved durability and allowing a high-quality pattern to be transferred and formed in a discrete track media and a patterned media, and to provide an imprint method using the mold structure.例文帳に追加

残膜を低減でき、基板全面での残膜の均一性に優れると共に、耐久性が向上し、ディスクリートトラックメディア、及びパターンドメディアに高品質なパターンを転写し形成することができるモールド構造体及び該モールド構造体を用いたインプリント方法の提供。 - 特許庁