「Labile」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist material contains at least, as a base resin, a polymer compound whose hydrogen atom of a phenolic hydroxyl group is substituted by an acid labile group represented by general formula (1).例文帳に追加

ベース樹脂として、少なくともフェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物を含むものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。 - 特許庁

The photoresist compositions comprise: a resin with photoacid-labile groups; a photoacid generator compound; and a multi-amide component that can function to decrease undesired photogenrated-acid diffusion to unexposed regions of a photoresist coating layer.例文帳に追加

光酸不安定基を有する樹脂；光酸発生剤化合物；およびフォトレジストコーティング層の未露光領域への望まれない光発生酸拡散を低減させる様に機能しうるマルチアミド成分；を含むフォトレジスト組成物。 - 特許庁

The polyorganosiloxane compound having an Mw of 300-200,000 is prepared by substituting the hydrogen atoms of part of the silicon-bonded hydroxyl groups contained in a polyorganosiloxane of the following formula (1) with acid labile groups of formula (2) and/or forming crosslinks with a crosslinking group of formula (3).例文帳に追加

式（１）のポリオルガノシロキサンに含まれるケイ素原子結合水酸基の一部の水素原子が式（２）の酸不安定基で置換及び／又は式（３）の架橋基で架橋され、Ｍｗが３００〜２００，０００のポリオルガノシロキサン化合物。 - 特許庁

In one aspect, the coating composition can be crosslinked and comprise one or more components that contain one or more acid-labile groups and/or base-reactive groups following crosslinking.例文帳に追加

一つの態様において、この被覆組成物は、架橋させることができる被覆組成物であって、架橋後に反応性である１以上の酸不安定基及び／又は１以上の塩基反応性基を含有する１以上の成分を含んでいる。 - 特許庁

The photoresist compositions comprise (i) one or more resins comprising one or more substituents comprising one or more photoacid-labile acetal groups and one or more alicyclic groups and (ii) one or more photoacid generator compounds.例文帳に追加

本発明は、ｉ）１以上のフォト酸不安定性アセタール基および１以上の脂環式基を含む１以上の置換基を含む１以上の樹脂；およびｉｉ）１以上のフォト酸発生化合物を含むフォトレジスト組成物に関する。 - 特許庁

The resist underlayer film material of a multilayer resist film used in lithography includes (A) a fullerene derivative having a carboxyl group protected by a thermally labile group and (B) an organic solvent.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、（Ａ）熱不安定基で保護されたカルボキシル基を有するフラーレン誘導体と、（Ｂ）有機溶剤とを含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 - 特許庁

The positive photoresist composition comprises a polymer comprising (1) groups crosslinked or reactive to crosslinking and (2) non-aromatic photoacid-labile groups with at least a portion of the groups (1) being crosslinked to other polymer units, and a photoactive component.例文帳に追加

１）架橋された基または反応して架橋する基、および２）非芳香族フォト酸レイビル基を有し、１）の基の少なくとも一部は他のポリマー単位と架橋しているポリマー、および光活性成分を含む、ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A polysiloxane with photoacid-labile groups obtained by polymerizing a hydroxy-, alkoxy- or halo-substituted silane in the presence of a polymerization templating reagent with multiple reactive nitrogen groups, particularly a diamine reagent is mixed with a photoactive component.例文帳に追加

ヒドロキシ・アルコキシ又はハロで置換されたシランを多反応性窒素基を有する重合テンプレート試薬、特にジアミン試薬の存在下で重合させた，フォト酸レイビル基をもつポリシロキサンとこれにフォト活性成分を混合したフォトレジストの提供。 - 特許庁

Mucosal DTPa vaccines, especially intranasal vaccines, include (a) a diphtheria antigen, a tetanus antigen and an acellular pertussis antigen, and (b) either detoxified form of cholera toxin (CT) and E.coli heat labile toxin (LT).例文帳に追加

粘膜ＤＴＰａワクチン、特に鼻内ワクチンであって、（ａ）ジフテリア抗原、破傷風抗原および無細胞百日咳抗原；ならびに（ｂ）コレラ毒素（ＣＴ）またはＥ．ｃｏｌｉ熱不安定性毒素（ＬＴ）のいずれかの無毒化形態、を含むワクチン。 - 特許庁

The chemically amplified photoresist composition contains an acid generator and a resin, wherein the resin contains a structural unit (b3-2) derived from a monomer that has an acid labile group and a lactone ring.例文帳に追加

酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸に不安定な基及びラクトン環を有するモノマーに由来する構造単位（ｂ３−２）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To prepare a vaccine made from a genetically detoxicated single antigen as a toxoid derived from CT(cholera toxin) or LT(heat-labile toxin) and affording entire prevention from cholera or toxinogenic Escherichia coli due to a secondary product.例文帳に追加

遺伝子的に無毒化された、ＣＴあるいはＬＴ由来のトキソイドである１つの抗原からなる、二次発生産物による、コレラあるいは毒素原性Ｅ．ｃｏｌｉに対する完全な予防を与えるワクチンを提供すること。 - 特許庁

Wherein X is a tetravalent group and at least a part of which is a tetravalent organic group represented by formula (2) (wherein R^1 is a monovalent hydrocarbon group, R^2 is a trivalent group, and n is 1 to 120 on average), and Y is a divalent group, a group containing the phenolic hydroxyl group which experienced substitution with the acid labile group.例文帳に追加

［Ｘは四価の基で、その少なくとも一部が式（２）（Ｒ^1は一価炭化水素基、Ｒ^2は三価の基、ｎはその平均が１〜１２０）の四価の有機基、Ｙは二価の基の酸不安定基で置換のフェノール性水酸基含有の基］ - 特許庁

The positive type resist material contains a high molecular compound including a repeating unit (a) having a group represented by a general formula (1) and a repeating unit (b) having a carboxyl group having hydrogen atom substituted for an acid labile group.例文帳に追加

少なくとも、下記一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位ａと、水素原子が酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位ｂとを含む高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト材料。 - 特許庁

An resist composition comprises: a resin which has an acid-labile group, and is soluble in an aqueous alkali solution by an action of an acid; an acid generator; and a compound represented by formula (I'), where the resin includes a structural unit derived from a compound represented by formula (a2-0).例文帳に追加

酸に不安定な基を有し、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ’）で表される化合物とを含有し、樹脂が式（ａ２−０）で表される化合物に由来する構造単位を有するレジスト組成物。 - 特許庁

A resist composition comprises: a polymer having a structural unit expressed by the formula(I); a resin which has an acid labile group, and which is insoluble or hardly soluble in an alkali aqueous solution and can become soluble in an alkali aqueous solution by an action of an acid; and an acid generator.例文帳に追加

式（Ｉ）で表される構造単位を有する重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物 - 特許庁

The cyclic olefin polymer contains a cyclic olefin unit having a polar functional group which promotes dissolution in an aqueous alkali solution and the cyclic olefin unit having an acid-labile group which inhibits the dissolution in the aqueous alkali solution.例文帳に追加

環状オレフィン重合体は、ｉ）アルカリ水溶液中における溶解を促進する、極性官能基を有する環状オレフィン単位と、ｉｉ）アルカリ水溶液中における溶解を阻止する、酸に不安定な基を有する環状オレフィン単位とを含有する。 - 特許庁

The resist film 102 is formed on a substrate 101, the film being formed from a resist material containing a perfluoroethyl acrylate that is a monomer containing a halogen atom (fluorine) and stable against an acid, a polyperfluoroethyl acrylate that is a polymer containing fluorine and stable against an acid, a polymer containing an acid-labile group, and a photo-acid generator.例文帳に追加

まず、基板１０１の上に、ハロゲン原子（フッ素）を含み且つ酸に安定なモノマーであるパーフルオロエチルアクリレートと、フッ素を含み且つ酸に安定なポリマーであるポリパーフルオロエチルアクリレートと、酸不安定基を含むポリマーと、光酸発生剤とを有するレジスト材料からレジスト膜１０２を形成する。 - 特許庁

To provide a sterilization method for a compound being labile in relation to a radiation which suppresses a malfunction by the degeneration, etc. of the compound by radiation sterilization, does not need a processing such as freezing because of few generation of deleterious secondary products, and causes little degeneration of the compound by drying.例文帳に追加

放射線に対して不安定な化合物において、放射線滅菌により該化合物の変性などによる機能低下を抑制し、かつ有害な副生成物の発生が少なく凍結などの処理を必要とせず、かつ乾燥による化合物の変性が少ない滅菌方法を提供する。 - 特許庁

In this honeycomb-shaped halogenated organic substance decomposing catalyst 10 having a catalytic component on a wall surface 11 and decomposing halogenated organic substances, a labile layer 12 is installed on the outer surface of the wall surface 11, which has a higher concentration of the catalytic component than the inside of the wall surface 11.例文帳に追加

触媒成分を壁面１１に有してガス中のハロゲン化有機化合物を分解処理するハニカム状のハロゲン化有機化合物分解触媒１０において、壁面１１の表面に内部側よりも前記触媒成分の濃度の高い反応活性層１２を設けた。 - 特許庁

A resist material is provided which contains at least a high molecular compound containing a repeating unit derived from a methacrylate and/or acrylate having a carboxyl group substituted by an acid-labile group, and a first solvent having a lactone ring in which a total carbon number is 5-9.例文帳に追加

少なくとも、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有するメタクリレート及び／又はアクリレート由来の繰り返し単位を含んでなる高分子化合物と、合計の炭素数が５〜９の範囲のラクトン環を有する第１溶媒とを含んでなるレジスト材料が提供する。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition contains [A] a polymer containing a structural unit (I) having a group expressed by formula (i); [B] a radiation-sensitive acid generator; and [C] a polymer having a lower content of fluorine atoms than that of the [A] polymer and having an acid-labile group.例文帳に追加

本発明は、［Ａ］下記式（ｉ）で表される基を有する構造単位（Ｉ）を含む重合体、［Ｂ］感放射線性酸発生体、及び［Ｃ］上記［Ａ］重合体よりもフッ素原子含有率が小さく、かつ酸解離性基を有する重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である - 特許庁

The resist composition comprises a resin, which has a structural unit derived from a compound expressed by formula (a) and a structural unit derived from a compound having an acid-labile group and which is insoluble or hardly soluble with an alkali aqueous solution but can be dissolved in an alkali aqueous solution by an action of an acid.例文帳に追加

式（ａ）で表される化合物に由来する構造単位と、酸に不安定な基を有する化合物に由来する構造単位とを有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂を含むレジスト組成物。 - 特許庁

The objective photoresist composition contains a resin binder, containing a polymer having repeating units of 1) a group containing a photo- acid labile moiety having an alicyclic group, 2) a group containing polymerized electron-deficient monomer and 3) a group containing polymerized cycloolefin moiety and photoactive component.例文帳に追加

１）脂環式基を有するフォト酸レイビル部位を含む基、２）重合された電子欠損モノマーを含む基、および３）重合された環状オレフィン部位を含む基、の繰り返し単位を有するポリマーを含む樹脂バインダー、ならびに光活性成分を含むフォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a sterilization method for a compound being labile in relation to radiation, which suppresses functional decline due to the degeneration or the like of the compound by radiation sterilization, does not need processing such as freezing because of few generation of deleterious by-products, and causes little degeneration of the compound by drying.例文帳に追加

放射線に対して不安定な化合物において、放射線滅菌により該化合物の変性などによる機能低下を抑制し、かつ有害な副生成物の発生が少なく凍結などの処理を必要とせず、かつ乾燥による化合物の変性が少ない滅菌方法を提供する。 - 特許庁

After the nucleic acid and a silane coupling agent are bonded covalently beforehand by reactions of each labile group, a hydrolytic group of the silane coupling agent and the solid-phase substrate surface are bonded covalently by a dehydration condensation reaction, to thereby immobilize the nucleic acid on the solid-phase substrate surface.例文帳に追加

あらかじめ核酸とシランカップリング剤とを各反応活性基の反応により共有結合させた後に、前記シランカップリング剤の加水分解性基と固相基板表面とを脱水縮合反応により共有結合させて前記核酸を固相基板表面に固定する。 - 特許庁

The chemically amplified photoresist composition contains an acid generator and a resin, wherein the resin contains a structural unit (b2-2) derived from a monomer that has a ring having a hydroxyl group and a lactone ring, with no acid labile group.例文帳に追加

酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、水酸基を有する環とラクトン環とを有し、且つ酸に不安定な基を有さないモノマーに由来する構造単位（ｂ２−２）を含む化学増幅型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターンの形成方法。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a radiation sensitive acid generator and a polymer, wherein this polymer can contain a first repeating unit derived from a sulfonamide monomer containing a fluorosulfonamido functional group and a second repeating unit that can contain an acid-labile pendant moiety.例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物は、放射光感受性酸発生剤とポリマーとを含み、このポリマーは、フルオロスルホンアミド官能基を含むスルホンアミド単量体から誘導された第１の繰返し単位と、酸不安定ペンダント部分を含むことができる第２の繰返し単位とを含むことができる。 - 特許庁

The resist material contains a high molecular compound obtained by copolymerizing (meta-)acrylate having at least sulfonium salt having polymerized unsaturated bonding, lactone or hydroxy group as an adhesion group, and (meta-)acrylate having an ester substituted by an acid-labile group.例文帳に追加

少なくとも、重合性不飽和結合を有するスルホニウム塩、ラクトンまたはヒドロキシ基を密着性基として有する（メタ）アクリレート、酸不安定基で置換されたエステルを有する（メタ）アクリレートを共重合したものである高分子化合物を含むことを特徴とするレジスト材料。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition is characterized by containing: (A) a polyamide resin; (B) a compound which generates an acid by light; (C) a compound prepared by protecting the hydroxyl group in a specified phenolic compound with an acid-labile group which decomposes in the presence of an acid; and (D) a solvent.例文帳に追加

一般式（１）で示されるポリアミド樹脂（Ａ）、光により酸を発生する化合物（Ｂ）、特定のフェノール化合物の水酸基を、酸の存在下で分解する酸不安定基で保護された化合物（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The chemically amplified positive resist composition contains a resin (A) comprising a structural unit having an acid-labile group in a side chain and changing into alkali-soluble by an action of an acid, a resin (B) comprising a structural unit expressed by formula (I) and a fluorine-containing structural unit, and an acid generator.例文帳に追加

酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性に変化する樹脂（Ａ）、式（I）で表される構造単位及びフッ素含有構造単位を含有する樹脂（Ｂ）、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A resist composition includes: onium salt composed of sulfonium cations and organic anions having a group that is decomposed by action of acid and can give a compound showing basicity; a resin having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution, and becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of acid; and an acid generator.例文帳に追加

酸の作用により分解して塩基性を示す化合物を与え得る基を有するスルホニウムカチオンと有機アニオンとからなるオニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。 - 特許庁

The chemically amplified resist composition comprises: an acid generator comprising an onium salt represented by formula (I) and a sulfonium salt represented by formula (II); and a resin which contains a polymerized unit having an acid-labile group and which itself is insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becomes soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.例文帳に追加

式（Ｉ）で表されるオニウム塩と、式（ＩＩ）で表されるスルホニウム塩とを含有する酸発生剤、並びに、酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition consists of a polyamide resin (A), a compound (B) which generates an acid under light, a compound (C) protected by an acid-labile group which is decomposed in the presence of an acid to increase solubility in an aqueous alkali solution, a compound (D) which further generates an acid in the presence of an acid and a solvent (E).例文帳に追加

ポリアミド樹脂（Ａ）、光により酸を発生する化合物（Ｂ）、酸の存在化で分解し、アルカリ水溶液への溶解性が増大する酸不安定基で保護された化合物（Ｃ）、酸の存在化で更に酸を発生させる化合物（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）からなるポジ型感光性樹脂組成物である。 - 特許庁

Preferred photoresist compositions comprise one or more materials having a water contact angle that can be changed by treatment with base and/or one or more materials that comprise fluorinated photoacid-labile groups and/or one or more materials that comprise acidic groups spaced from a polymer backbone.例文帳に追加

本発明の好ましいフォトレジスト組成物は、塩基で処理することによって変化させることのできる水接触角度を有する１種以上の物質、および／またはフッ素化された光酸不安定基を含む１種以上の物質、および／またはポリマー主鎖から間隔を置く酸基を含む１種以上の物質を含む。 - 特許庁

The resins (B) are each a resin which contains (4) a unit having a fluorine-containing structure in a side chain in addition to at least one unit selected from the group consisting of (1)' a unit having an acid-labile group in a side chain, (2)' a unit having a hydroxyl group in a side chain and (3)' a unit having a lactone structure in a side chain.例文帳に追加

樹脂（Ｂ）：（ア）’酸に不安定な基を側鎖に有するユニット、（イ）’水酸基を側鎖に有するユニット、および（ウ）’ラクトン構造を側鎖に有するユニット、からなる群より選ばれる少なくとも１種を含有することに加え、（エ）フッ素を含む構造を側鎖に有するユニット、を含有する樹脂。 - 特許庁

The positive resist material contains (as a base resin) a high polymer with the weight-average molecular weight 1,000-500,000 which at least contains a repeating unit a having a group represented by the following general formula (1), and a repeating unit b which is a carboxyl group with the hydrogen atom substituted by an acid labile group.例文帳に追加

少なくとも、下記一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位ａと、カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位ｂとを含む、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の高分子化合物をベース樹脂として含有することを特徴とするポジ型レジスト材料。 - 特許庁

In the photothermographic imaging material obtained by disposing on a support a photosensitive layer containing at least photosensitive silver halide grains, an organic silver salt, a reducing agent and a binder, the photosensitive silver halide grains are chemically sensitized with a labile chalcogen compound enveloped in carbon nanotubes.例文帳に追加

支持体上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤及び結合剤を含有する感光層を設けた光熱写真画像形成材料に於いて、該感光性ハロゲン化銀粒子がカーボンナノチューブに内包化された不安定カルコーゲン化合物で化学増感されていることを特徴とする光熱写真画像形成材料。 - 特許庁

A positive resist composition comprises: (A) a polymer compound that includes a repeating unit (a1) producing an acid with a difluoromethyl sulfonate structure on a side chain in response to a high energy line and an acid-labile repeating unit (a2), and is changed in alkali solubility by an acid; and (B) a sulfonic acid onium salt represented by General Formula (2).例文帳に追加

（Ａ）高エネルギー線に感応した結果、側鎖にスルホン酸ジフロロメチル構造の酸を発生する繰り返し単位（ａ１）と、酸不安定繰り返し単位（ａ２）とを有し、酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物、及び（Ｂ）下記一般式（２）で示されるスルホン酸オニウム塩を共に含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a solid preparation as a chewable tablet comprising an acid-labile active ingredient like a PPI (proton pump inhibitor) such as benzimidazole compounds and imidazopyridine compounds, capable of rapidly neutralizing gastric acid and which is not enteric-coated, has quick exhibition of the pharmacological effect of the active ingredient and is easily administrable to children and aged.例文帳に追加

ベンツイミダゾール系化合物およびイミダソピリジン系化合物等のＰＰＩのような酸に不安定な活性成分を含有し、胃内の酸を速やかに中和させることのできる腸溶性被覆を施さない固形製剤であって、活性成分の速やかな薬理効果の発現と、小児、高齢者でも服用しやすいチュアブル錠を提供すること。 - 特許庁

To provide an immobilization method of nucleic acid dispensing with blocking of a labile group and a cleaning treatment, capable of immobilizing the nucleic acid such as DNA inexpensively, simple and quickly, acquiring a highly sensitive analytical result with a low background, and reusing a micro- array, and the micro-array and a gene analytical method using it.例文帳に追加

反応活性基のブロッキングおよび洗浄処理が不要となり、安価で簡便かつ迅速にＤＮＡ等の核酸を固定化できるとともに、バックグラウンドが低くて感度のよい解析結果が得られ、しかもマイクロアレイの再利用が可能となる核酸の固定方法およびマイクロアレイならびにこれを用いた遺伝子解析法を提供すること。 - 特許庁

The chemically amplified resist composition comprises a resin which comprises a structural unit, having an acid-labile group in a side chain and a structural unit represented by Formula (I) and having a lactone structure in a side chain, and which itself is insoluble or hardly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution due to the action of an acid; and an acid generator represented by Formula (II).例文帳に追加

酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位を含有し、さらに式（Ｉ）で表されるラクトン構造を側鎖に有する構造単位を含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに式（II）で表される酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide an immunogenic composition consisting of chimeric molecule having a structurally stable adhesin from E. coli fused with a bacterial toxin A subunit, such as a cholera toxin A subunit or heat-labile E. coli toxin A subunit; and an adhesin-enterotoxin chimera noncovalently associated with a toxin B subunit on the same sort as the A subunit or on a different sort therefrom.例文帳に追加

コレラ毒素Ａサブユニットまたは易熱性大腸菌毒素Ａサブユニットなどの細菌毒素Ａサブユニットに融合した大腸菌からの構造的に安定した付着因子を含むキメラ分子から構成される免疫原性組成物、及び前記Ａサブユニットと同じまたは異なる種の毒素Ｂサブユニットと非共有結合的に会合した付着因子−毒素キメラを提供する。 - 特許庁

In the sterilization method for the compound which irradiates the radiation in the state that the compound being labile in relation to the radiation is dissolved and/or dispersed in an organic solvent, it is desirable that the organic solvent contains at least one secondary or tertiary hydroxyl group and has 20% or less water content and that the compound contains an amino acid as a constituting element.例文帳に追加

放射線に対して不安定な化合物を有機溶媒に溶解および／または分散させた状態で放射線を照射することを特徴とする化合物の滅菌方法であり、有機溶媒は、少なくとも一つに２級または３級の水酸基を含有し水分率が２０％以下であること好ましく、化合物はアミノ酸を構成要素とするものであることが好ましい。 - 特許庁

The photo resist composition includes a light active component, and (1) a photo acid-labile ester group including a tertiary ester alicyclic group having a molecular volume of at least about 125 cube angstrom present by about 1 to 50 mol% based on the total polymer units, and (2) a resin binder including a polymer including a repeating unit of a phenol group present by about 20 to 95 mol% based on the total polymer unit.例文帳に追加

光活性な成分、ならびに１）少なくとも約１２５立方オングストロームの分子容を有する第三エステル脂環式基を含み、全ポリマー単位に基づいて約１から５０モル％の量で存在するフォト酸レイビルエステル基；および２）全ポリマー単位に基づいて約２０から９５モル％の量で存在するフェノール基の繰り返し単位を含むポリマーを含む樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains: a polymer comprising a polymer (IA) or a polymer (IB); a resin which includes an acid labile group and which is insoluble or hardly soluble with an alkali aqueous solution and is changed into soluble with an alkali aqueous solution by an action of an acid; and an acid generator.例文帳に追加

重合体（ＩＡ）又は重合体（ＩＢ）の重合体と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物であって、重合体（ＩＡ）は式（Ｉ）のモノマーに由来する構造単位からなり、重合体（ＩＢ）は、式（Ｉ）のモノマーに由来する構造単位と、式（ＩＩ）又は式（ＩＩＩ）のモノマーに由来する構造単位からなる。 - 特許庁