「Multiple-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for scanning exposure by which multiple exposure can be performed even by means of a step-and-scan projection aligner and the coherence factor and exposure of a lighting system can be adjusted at every focal point needed for optimizing the multiple exposure and, in addition, the accuracy of pattern transfer can be improved.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式においても多重露光を行うことができ、且つ多重露光の最適化に必要な焦点位置毎の照明系のコヒーレンシーファクタや露光量の調整を行うことができ、パターン転写精度の向上をはかる。 - 特許庁

A position deviation and an image of a risk control pattern predicted after multiple exposure of masks used for the multiple exposure are obtained, and an image after overlay exposure by the masks is predicted based on the above image and position deviation information.例文帳に追加

多重露光に用いられる各マスクの多重露光後に予測される危険管理パターンの像、並びに位置偏差を取得し、前記像と位置偏差情報を元に各マスクによる重ね露光後の像を予測する。 - 特許庁

Such an arrangement enables field-by-field multiple exposure without throughput loss.例文帳に追加

このような方法により、スループットの損失のないフィールド毎の多重露光が可能となる。 - 特許庁

An exposure time setting part 113 sets the exposure time of the image pickup element 60 at a multiple of the period Tp corresponding to the frequency fp.例文帳に追加

露光時間設定部１１３は、周波数fpに対応する周期Tpの倍数に撮像素子６０の露光時間を設定する。 - 特許庁

Notification operation is started at least once during a multiple exposure period from the start of a first exposure period when the first exposure operation is performed until the end of the nth exposure period when the last exposure operation is performed.例文帳に追加

そして、最初の露光動作が行われる第１露光期間の開始時から、最後の露光動作が行われる第ｎ露光期間の終了時まで、の多重露光期間中に、少なくとも一回報知動作を開始することとする。 - 特許庁

In addition, in the case of performing multiple exposures of triple exposure or more, third exposure, fourth exposure, etc., can be performed similarly on the n pieces of wafers continuously from the second exposure without developing any wafer.例文帳に追加

また、三重露光以上の多重露光を行う場合、上記第２露光に続いて、いずれのウエハも現像されることなく、ｎ枚のウエハに対して第３露光、第４露光、…を同様に行う。 - 特許庁

In this manner, since a user can be notified that multiple exposure imaging is under execution, the imaging device can be prevented from being moved in a large way during the multiple exposure period.例文帳に追加

これにより、多重露光撮像が行われていることをユーザに報知することができるため、多重露光期間中に撮像装置が大きく動かされることが抑制される。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of embedding in a moving image a still image obtained by imaging with multiple exposure, in a case when imaging with multiple exposure is performed during imaging the moving image.例文帳に追加

動画像撮像中に多重露光撮像を行った場合に、多重露光撮像により得られた静止画を動画像に埋め込むことができる撮像装置を提供する。 - 特許庁

To provide a digital still camera with which multiple exposure photographing can be performed by changing the image quality of each picture by a simple method without requiring addition and extension of a special circuit for multiple exposure.例文帳に追加

多重露光のための特別な回路の追加増設を必要とせずに、簡易な方法で各画像の画質を変えて多重露光撮影することができるデジタルスチルカメラを提供する。 - 特許庁

To provide a hologram exposure device and a hologram exposure method capable of precisely forming holograms in a multiple patterning hologram optical element.例文帳に追加

多面付けホログラム光学素子に精度良くホログラムを形成することができるホログラム露光装置およびホログラム露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure method that suppress the change of exposure light intensity and uniformly perform pattern exposure while extending the lives of semiconductor light-emitting elements and also reducing power consumption when a substrate is exposed by exposure light generated from multiple semiconductor light-emitting elements.例文帳に追加

複数の半導体発光素子から発生した露光光により基板を露光する際、半導体発光素子の寿命を延ばし、また消費電力を抑えながら、露光光の強度の変化を抑制して、パターンの露光を均一に行う。 - 特許庁

To reduce the multiple exposure of the photoresist caused by the return light due to the back reflection of an original glass disk.例文帳に追加

ガラス原盤の裏面反射による戻り光によるフォトレジストの多重露光を減少する。 - 特許庁

To provide the photographing method of a montage using a camera and an instant camera which have multiple exposure function.例文帳に追加

多重露出可能なカメラやインスタントカメラを用いる合成写真の撮影方法を提供する。 - 特許庁

To realize positioning where a night view and a person are photographed by multiple exposure with a high success rate.例文帳に追加

夜景と人物とを多重露光で撮影する際の位置合わせを高い成功率で実現する。 - 特許庁

To prevent the lowering of image quality by the enlargement of the exposure diameter of a record image due to moire and multiple reflection.例文帳に追加

モアレや多重反射による記録画像の露光径拡大などによる画質低下を防止する。 - 特許庁

Thus, it becomes possible to align each mask to be used for multiple exposure.例文帳に追加

これによって、多重露光に用いるマスクの夫々について位置合わせを行なうことが可能となる。 - 特許庁

METHOD, PROGRAM PRODUCT, AND APPARATUS FOR MODEL BASED GEOMETRY DECOMPOSITION FOR USE IN MULTIPLE EXPOSURE PROCESS例文帳に追加

多重露光プロセスに用いられるモデルベースのジオメトリ分解のための方法、プログラム製品及び装置 - 特許庁

To provide a camera capable of accurately position an object in multiple exposure photographing.例文帳に追加

多重露光撮影における被写体の位置ぎめを正確に行なうことのできるカメラを提供する。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing a semiconductor device capable of suppressing a difference in exposure amounts at a boundary between a circuit pattern area and a multiple exposure area when performing a step exposure.例文帳に追加

ステップ露光の際、回路パターン領域と多重露光領域との境界部の露光量の差を抑えることが可能なフォトマスク及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The first exposure and the second exposure are performed in parallel, by using a number of projection systems, thereby achieving multiple exposures which save time.例文帳に追加

多数の投影系を使用することにより、並行して行なわれるとともに、したがって時間が節約される多重露光が可能になる。 - 特許庁

To easily form optimum mask patterns for ordinary exposure at the time of forming circuit patterns of the smallest line width corresponding to the line width of fine line patterns by the multiple exposure of fine line pattern exposure and the ordinary exposure.例文帳に追加

微細線パターン露光と通常露光との多重露光によって微細線パターンの線幅に対応する最小線幅の回路パターンを形成する際の、前記通常露光用として最適なマスクパターンを容易に作成する。 - 特許庁

To set exposure so that an image is not saturated as far as possible in a multiple-lens photographing device.例文帳に追加

多眼撮影装置においてできるだけ画像が飽和しないように露出を設定できるようにする。 - 特許庁

To obtain a multiple exposure drawing apparatus which can draw a whole pattern with excellent continuity and unitedness.例文帳に追加

連続性および一体性の良好なパターンの全体を描画できる多重露光描画装置を得る。 - 特許庁

To provide a technique advantageous to generate data on patterns of a plurality of originals that are used in multiple exposure.例文帳に追加

多重露光に使用される複数の原版のパターンのデータの生成に有利な技術を提供する。 - 特許庁

The microlenses 56A to 56D used for multiple exposure at one position have different focal lengths from others.例文帳に追加

同一位置の多重露光に用いられるマイクロレンズ５６Ａ〜５６Ｄはそれぞれ焦点距離が異なる。 - 特許庁

To restrain an increase in the layout area of a multiple exposure photomask having minute patterns with different dimension widths.例文帳に追加

寸法幅の異なる微細パターンを有する多重露光フォトマスクのレイアウト面積の増加を抑制する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of expanding an accuracy allowable range at an exposure position in a multiple-production process.例文帳に追加

多面取りプロセスにおいて、露光位置の精度許容範囲を拡大できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent deterioration in the image quality of a composited image, when performing multiple-exposure photographings under natural light.例文帳に追加

自然光の下で多重露光撮影する場合に合成された画像の画質が劣化することを防ぐ。 - 特許庁

To provide a method for producing a multiple-exposure hologram by which a hologram with a great impact can be easily obtained.例文帳に追加

容易にインパクトのあるホログラムを得ることができる多重露光ホログラム作製方法を提供する。 - 特許庁

SHUTTER CALIBRATION METHOD AND APPARATUS FOR DIGITAL IMAGE PICKUP DEVICE USING MULTIPLE TIMES OF EXPOSURE TO ONE FIELD例文帳に追加

１つのフィールドの複数回の露光を用いるデジタル撮像装置のシャッター較正方法及び装置 - 特許庁

To provide a digital camera for storing an image photographed in a multiple exposure imaging mode together with an original image to a recording medium.例文帳に追加

デジタルカメラにおいて多重露出撮影画像とともに元画像を記録媒体へ保存すること。 - 特許庁

A compensation exposure pattern is formed by expanding or contracting the patterns in the multiple exposure area by using an AND pattern obtained by ANDing a pattern obtained by expanding or contracting along the boundaries of the divided areas of the multiple exposing area pattern having reticle patterns overlapping one another with the patterns adjoining the multiple exposure area.例文帳に追加

各レチクルパターン同士が重なる多重露光領域のパターンを分割領域間の境界線に沿って伸縮した伸縮パターンと多重露光領域に隣接するパターンとをＡＮＤ演算したＡＮＤパターンを用いて多重露光領域のパターンを伸縮させて補正露光パターンを作成する。 - 特許庁

A plurality of exposure units each having many modulating elements arrayed in matrix are used to draw specific patterns on a drawing surface through multiple exposure.例文帳に追加

マトリクス状に配列された多数の変調素子を持つ複数個の露光ユニットを用いて、多重露光により描画面上に所定パターンを描画する。 - 特許庁

In an exposure correcting part 26, multiple correction data (correction data A and B) are stored to control the unevenness in light quantity in an LED array 25 of the exposure device 13.例文帳に追加

露光補正部２６に、露光装置１３のＬＥＤアレイ２５における光量むらを抑制するための複数の補正データ（補正データＡ，Ｂ）を記憶させる。 - 特許庁

To prevent the deterioration of display quality caused by forming a multiple exposure part on a color filter substrate formed by a stepping proximity exposure system.例文帳に追加

ステッピングプロキシミティ露光方式により形成されるカラーフィルタ基板に対し、多重露光部が形成されることによる表示品位の低下を防止する。 - 特許庁

The prescribed patterns are formed on a forming surface by multiple exposure using an exposure unit 20_01 having a multiplicity of micromirrors M (m and n) arrayed in a matrix form.例文帳に追加

マトリクス状に配列された多数のマイクロミラーＭ（ｍ，ｎ）を持つ露光ユニット２０_01を用いて、多重露光により描画面上に所定パターンを描画する。 - 特許庁

To plot a predetermined pattern on a plotting surface through a multiple exposure by using exposure units having a large number of modulation elements arranged in a matrix shape.例文帳に追加

マトリックス状に配列された多数の変調素子を持つ露光ユニットを用いて描画面上に所定のパターンを多重露光により描画する。 - 特許庁

To provide a method of decomposing a target pattern including features to be imaged onto a substrate into a plurality of exposure patterns for use in a multiple exposure process.例文帳に追加

多重露光プロセスにおいて用いるための、基板上に結像されるフィーチャを含むターゲットパターンを複数の露光パターンに分解する方法を提供する。 - 特許庁

The multiple reflections of the exposure light at the boundary between the glass plate and the photoresist are prevented and the sharp and fine exposure patterns may be surely formed.例文帳に追加

露光時に、露光光のガラス板とフォトレジストとの界面での多重反射を防止し、シャープで微細な露光パターンを確実に形成することができる。 - 特許庁

When a shutter button is depressed thereafter, multiple exposure photographing is performed in which the exposures for the set number of times are performed at the calculated exposure intervals.例文帳に追加

その後、シャッタボタンが押下されると、該設定した露光回数分の露光を該設算出した露光間隔で露光させる多重露光撮影を行なう。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of performing a wider range of expression using multiple image capturing modes in multi-exposure image capturing, and also performing the effective multi-exposure image capturing.例文帳に追加

多重露出撮影において、複数の撮影モードを用いたより広い幅の表現が可能で、かつ効果的な多重露出撮影を行えるようにする。 - 特許庁

The multiple exposure apparatus 1 is equipped with an exposure data creating section 11 which creates the differential data based on the difference between the front and the rear exposure data out of a plurality of the exposure data which is the raster data created based on the drawing data being the vector data used for the exposure performed continuously a plurality of times.例文帳に追加

多重露光装置１は、連続して複数行われる露光のために使用されるベクタデータである描画データに基づいて作成されるラスタデータである複数の露光データのうち、前後の露光データとの差異に基づいて差異データを作成する露光データ生成部１１を備える。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a positive resist composition suitable for multiple exposures, ensuring that in the multiple exposure process of performing exposure a plurality of times on the same resist film, the pattern is reduced in the film loss.例文帳に追加

同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターンの膜減りを抑えられる、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a composition for use in multiple exposure photolithography for making high-density lithographic patterns in the manufacture of a semiconductor device, and a method of forming electronic devices using a multiple exposure lithographic process.例文帳に追加

半導体デバイス製造において、高密度リソグラフィーパターンを製造するために、多重露光フォトリソグラフィーに使用する組成物、および多重露光リソグラフィープロセスを用いて電子デバイスを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for relatively easily creating a pattern data of a photomask for multiple exposure techniques with high positional accuracy by controlling the pattern density of each photomask to be almost equal to others in a plurality of photomasks for multiple exposure.例文帳に追加

多重露光用の複数のフォトマスクにおいて、各々のフォトマスクのパタン密度をほぼ同じにし、位置精度の高い多重露光技術用フォトマスクのパタンデータを比較的容易に作成する方法を提供する。 - 特許庁