「POLISHED GLASS」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

CLEANING METHOD FOR POLISHED QUARTZ GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

研磨した石英ガラス基板の洗浄方法 - 特許庁

CHEMICAL POLISHING APPARATUS AND GLASS SUBSTRATE POLISHED THEREBY例文帳に追加

化学研磨装置及びそのガラス基板 - 特許庁

POLISHED BODY MOUNTING TOOL, POLISHED BODY POLISHING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC DISK GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

被研磨体装填治具及び被研磨体の研磨方法及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polished glass substrate by which the surface of a glass substrate is polished while restraining the growth of a dimple, and consequently the glass substrate having flat and smooth surfaces can be obtained and to provide the polished glass substrate manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

ディンプルの成長を抑制してガラス基板を表面研磨し、平滑なガラス表面を有するガラス基板得ることができる研磨ガラス基板の製造方法、ならびにこれにより製造された研磨ガラス基板を提供する。 - 特許庁

The end portion of the window glass 1 is polished (chamfered) into a generally semicircular shape.例文帳に追加

窓ガラス１の端部は、略半円状に研磨加工（面取り加工）される。 - 特許庁

METHOD FOR FINISHING SURFACE OF PRELIMINARY POLISHED GLASS SUBSTRATE例文帳に追加

予備研磨されたガラス基板表面を仕上げ加工する方法 - 特許庁

The glass substrate 14 is polished to expose the silicon substrate 11.例文帳に追加

ガラス基板１４を研磨処理して、シリコン基板１１を露出させる。 - 特許庁

The glass substrate 1 consists of a quartz glass material the principal surface and the side face of which are precisely polished.例文帳に追加

ガラス基板１は、主表面及び側面が精密研磨された石英ガラス材料からなる。 - 特許庁

POLISHED BODY SUCTION JIG, MANUFACTURING METHOD FOR GLASS SUBSTRATE, AND GLASS SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

被研磨体吸着治具及びガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板 - 特許庁

To provide a polishing material less producing scratches on a polished body when a hard disk, a glass pane, and a semiconductor are wet-polished.例文帳に追加

ハードディスク、ガラス、半導体の湿式研磨時に、被研磨体のスクラッチ傷の発生の少ない研磨材を提供する。 - 特許庁

To obtain an easy inspecting method for evaluating the surface unevenness of a polished surface of a one-surface polished glass substrate without contact.例文帳に追加

片面研磨ガラス基板の研磨面の表面凹凸を非接触で評価する簡便な検査方法を得る。 - 特許庁

Further a chemical tempered glass substrate is polished by setting a machining rate to 0.15 μm/min or less.例文帳に追加

さらには、加工レート０．１５μｍ/分以下に設定して化学強化ガラス基板を研磨する。 - 特許庁

The information recording disk is composed of this glass and has a polished surface having 0.1-0.5 nm surface roughness Ra (JIS B0601).例文帳に追加

このガラスからなり、表面粗さRa(JIS B0601)が0.1-0.5nmの範囲である研磨面を有する情報記録ディスク。 - 特許庁

FORMED BLANK PRODUCT OF SILICA GLASS, ITS POLISHED PRODUCT, AND METHOD OF MANUFACTURING THEM例文帳に追加

シリカガラス成形ブランク製品及びその研磨加工製品並びにそれらの製造方法 - 特許庁

The surface of the glass substrate is polished and its surface roughness Ra is no larger than 2 nm.例文帳に追加

ガラス基板の表面が研磨され、その表面粗さＲａが２ｎｍ以下とされた。 - 特許庁

The glass substrate is then chemically mechanically polished from above the buffer layer with the slurry produced.例文帳に追加

次に、生成したスラリーを用いて緩衝層の上からガラス基板の化学機械研磨を行う。 - 特許庁

The glass plate G is thus polished using the canvas 14 without using a film body.例文帳に追加

本発明では、膜体を使用せずキャンバス１４を使用してガラス板Ｇを研磨する。 - 特許庁

Then, the upper glass substrate is polished to such a level that the filling member is exposed.例文帳に追加

次に、上部ガラス基板を、充填部材が露出するレベルまで研磨する。 - 特許庁

At least one principal plane of the two mother glass sheets laminated is wholly polished (ST6).例文帳に追加

そして、貼り合せた２枚のマザーガラスのうちの少なくとも一方の主面全体を研磨する（ＳＴ６）。 - 特許庁

The substrate is polished and made extremely thin compared to the base glass.例文帳に追加

そして、前記基板は研磨されており、前記ベースガラスに比べて非常に薄化されている。 - 特許庁

To prevent clogging in a rotary polishing disc and burning in a polished member both caused by generation of high temperature frictional heat in polishing a hard polished member such as metal, glass, stone, and wall member, the burning and clogging causing working alteration layer on a surface layer of the polished member.例文帳に追加

金属やガラス・石材及び壁材等の硬い被研磨物を研磨する際、高温の摩擦熱が発生し、回転研磨ディスクには「目詰り」、被研磨物には「焼け」が生じ、被研磨物の表層部には加工変質層を起こす。 - 特許庁

Thereafter, the surface of the glass plate may be polished at a polishing speed of 0.5-20 μm/min by immersing the glass plate in an aqueous solution containing the hydrofluoric acid.例文帳に追加

その後、ガラス板をフッ酸を含有する水溶液に浸漬して０．５〜２０μｍ／ｍｉｎの研磨速度でガラス板表面を研磨しても良い。 - 特許庁

The surface of the glass plate is polished by immersing the glass plate in an aqueous solution containing 10-30 wt.% hydrofluoric acid and 20-50 wt.% sulfuric acid.例文帳に追加

ガラス板をフッ酸１０〜３０重量％、硫酸２０〜５０重量％含有する水溶液に浸漬することでガラス板表面を研磨する。 - 特許庁

To flatten a glass film surface even when the glass film surface to be a cladding is not polished.例文帳に追加

クラッドとなるガラス膜の表面に対して研磨をしなくても、ガラス膜表面が平坦になるようにする。 - 特許庁

METHOD FOR POLISHING GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM AND GLASS SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM POLISHED BY THE METHOD例文帳に追加

情報記録媒体用ガラス基板の研磨方法、及び該方法により研磨された情報記録媒体用ガラス基板 - 特許庁

Both surfaces of the glass are polished and ground during a polishing process G to complete the perforated insulating substrate 20, having a plurality of through holes formed on a glass plate.例文帳に追加

これを研磨工程Ｇでガラス両面を磨滅研磨してガラス板に複数個の貫通孔を形成した孔明き絶縁基板２０を完成する。 - 特許庁

In the case of laminated glass, the glass plate is chemically polished to a depth of at least 200 μm by immersion in a polishing fluid.例文帳に追加

貼り合わせガラス板の場合は、当該ガラス板を研磨液に浸漬してガラス表面を２００μｍ以上化学研磨する。 - 特許庁

A sealing material 1 is made of a glass ribbon having a thickness of 1 to 100 μm, both surfaces 2 and 3 and a side surface 4 of the glass ribbon being fire polished.例文帳に追加

シール材１は、厚み１〜１００μｍのガラスリボンからなり、その両面２，３と、側面４は、火造り面となっている。 - 特許庁

In a first polishing stage 18, the glass substrate G is polished by adhering the glass substrate G to an attachable/detachable film frame 14 of a carrier 52.例文帳に追加

第１の研磨ステージ１８において、キャリア５２の着脱自在な膜枠１４にガラス基板Ｇを貼着してガラス基板Ｇを研磨する。 - 特許庁

In a method of manufacturing the glass substrate for the magnetic disc, an end face of a round glass is etched and subsequently polished.例文帳に追加

円形ガラスの端面を、エッチングした後に研磨することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 特許庁

When the glass substrate is polished by using a polishing plate having a pad, an amorphous or crystallized glass substrate is polished by setting a machining rate to 0.15 μm/min or less, and a pad groove width to 2 to 4 mm.例文帳に追加

パッドを有する研磨定盤を用いてガラス基板をポリッシングするに際して、加工レート０．１５μｍ/分以下、パッド溝幅２〜４ｍｍに設定してアモルファスもしくは結晶化ガラス基板を研磨する。 - 特許庁

To prevent contamination of an edge part of a non-polished surface of a glass substrate by a polishing liquid, and to suck and fix the non-polished surface of the glass substrate to a table well.例文帳に追加

研磨液によるガラス基板の非研磨面の縁部の汚染を防止でき、かつ、ガラス基板の非研磨面をテーブルに良好に吸着固定する。 - 特許庁

A plurality of recessed parts 2, 2A and 2B are not polished in a surface, and since a surface of the dry friction material 1 except for that is polished in the surface though the exposure ratio of the glass fiber is extremely small, the exposure ratio of the glass fiber is large.例文帳に追加

複数の凹部２，２Ａ，２Ｂは表面研摩されておらず、ガラス繊維の露出率が極めて小さいのに対して、それ以外の乾式摩擦材１の表面は表面研摩されているため、ガラス繊維の露出率が大きい。 - 特許庁

The glass substrate for a flat panel display is produced by holding a surface not to be polished of the glass plate G by a glass holding member 16 and polishing waviness with a height of 0.3 μm or less on the surface to be polished of the glass plate G by a polishing tool 26 to thereby reduce the waviness to 0.05 μm or less.例文帳に追加

このガラス板Ｇの非研磨面をガラス保持部材１６によって保持し、ガラス板Ｇの研磨面にある高さ０．３μｍ以下のうねりを研磨具２６によって研磨することにより０．０５μｍ以下に低減させてフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を製造する。 - 特許庁

The glass aspheric lens includes a one-surface aspherical surface having about ≥30 mm diameter and a one-surface spherical surface, wherein only the aspherical surface is formed by glass molding, the spherical surface is correctively polished within the design standard by spherical polishing after forming the glass molding, and the aspherical surface is not polished.例文帳に追加

直径略３０mm以上の片面非球面、片面球面のガラス非球面レンズであって、非球面のみガラスモールドにより成形され、球面は、前記ガラスモールド成形後、球面研磨により設計規格内に修正研磨されていて、前記非球面は研磨されていない。 - 特許庁

A curved tempered glass plate used for door glass of an automobile can be generally used as the first glass plate 11, and the edge part 11a of the first glass plate 11 is polished (chamfered) in an approximately semicircular shape.例文帳に追加

第１ガラス板１１として、一般的に、自動車のドアガラスに用いられる湾曲した強化ガラス板を使用することができ、第１ガラス板１１の縁部１１ａが略半円形に研磨加工（面取り加工）されている。 - 特許庁

To provide a polishing sheet not lowering strength by damaging surface to be polished by removing stains and cullets even though the thickness of the surface to be polished of a glass substrate for an liquid crystal becomes thin, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

液晶用のガラス基板などの被研磨面の厚さが薄くなっても、汚れやカレットを除去し、被研磨面を傷つけて強度を低下させることのない研磨シート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polished product of silica glass which is almost free from defects and has a long service life, and a blank product from which the polished product can be obtained by slightly polishing it.例文帳に追加

欠陥が少なく長寿命のシリカガラスの研磨加工製品、並びに当該研磨加工製品が僅かな研磨加工によって得られるブランク製品を提供する。 - 特許庁

To provide a lap tool, which has flexibility following the shape of a surface to be polished and precisely and efficiently flattens the surface to be polished even though irregularities caused by a pre-processing remain, when polishing optical parts such as large-diameter aspheric glass lenses.例文帳に追加

大口径非球面ガラスレンズなど光学部品を研磨加工する際、被研磨面の形状に倣う柔軟性を有し、前加工による凹凸部があっても、高精度かつ効率的に平滑化するラップ工具を提供する。 - 特許庁

A surface of the composite comprising the resin and the glass is polished using a boehmite or/and intermediate alumina abrasive powder.例文帳に追加

ベーマイト又は／及び中間アルミナ研磨剤を使用し、樹脂とガラスとからなる複合材の表面研磨を行なう。 - 特許庁

A glass substrate 11 whose surface is precisely polished is prepared, and coated with a photoresist after the substrate surface is cleaned and subjected to primer processing.例文帳に追加

表面が精密に研磨されたガラス基板１１を用意し、基板表面の洗浄、プライマー処理の後、フォトレジストを塗布する。 - 特許庁

Glass substrate surfaces 14a, 17a, 18a and 21a disposed between the red color reflecting liquid crystal layer 12 and the blue color reflecting liquid crystal layer 20 are polished.例文帳に追加

赤色反射液晶層１２と青色反射液晶層２０の間に配設されたガラス基板面１４ａ，１７ａ，１８ａ，２１ａが研磨されている。 - 特許庁

Before the cutting process of the glass molding 11, the upper surface 6a of the continuous side walls 6 of the pair of screen panels 3 is flatly polished.例文帳に追加

ガラス成型体１１の切断工程の前に、一対のスクリーンパネル３の連続した側壁６の上面６ａを平坦に研磨する。 - 特許庁

This substrate holding chuck 10 is formed by providing a rugged surface on the glass substrate which is polished in a highly precise manner.例文帳に追加

この基板保持チャック１０は、高精度に研磨されたガラス基板の表面の凹凸を形成したものである。 - 特許庁

The waving of a polished glass plate surface is measured by using a multi-function disc interferometer and expressed by a waving curve.例文帳に追加

研磨処理されたガラス基板の基板表面上に発生したうねりは多機能ディスク干渉計を用いて測定され、うねり曲線で示される。 - 特許庁