「Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(195ページ目) - Weblio英語例文検索

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物 - 特許庁

The resist film is exposed and developed to form a resist pattern.例文帳に追加

レジスト膜を露光、現像して、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

MASKLESS PARTICLE BEAM DEVICE FOR EXPOSING PATTERN ON SUBSTRATE例文帳に追加

パターンを基板上に露光するマスクレス粒子ビーム装置 - 特許庁

A first mask pattern, having low wettability over a conductive layer is formed, a second mask pattern having high wettability over the conductive layer using the first mask pattern as a mask is formed, and a mask pattern for etching the conductive layer by removing the first mask pattern is formed.例文帳に追加

本発明は、導電層上に塗れ性の低い第１のマスクパターンを形成し、該第１のマスクパターンをマスクとして導電層上に塗れ性の高い第２のマスクパターンを形成した後、第１のマスクパターンを除去して、導電層をエッチングするためのマスクパターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, LAYERED PRODUCT, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、積層体、レジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a pattern forming material which has a nearly uniform sensitivity distribution to exposure light having a wavelength of 400-410 nm, excels in pattern reproducibility, suppresses variation in pattern profile, and can be handled in a daylight environment, and also to provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method.例文帳に追加

４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能なパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

TOOL FOR CORRECTING SENSOR PART POSITION OF CIRCUIT PATTERN INSPECTION DEVICE例文帳に追加

回路パターン検査装置のセンサ部位置校正用治具 - 特許庁

METHOD FOR FORMING METALLIC PATTERN USING SACRIFICE HARD MASK例文帳に追加

犠牲ハードマスクを用いて金属パターンを形成する方法 - 特許庁

OUTPUT CONTROL PATTERN FORMING DEVICE AND CO-GENERATION SYSTEM例文帳に追加

出力制御パターン作成装置及びコージェネレーションシステム - 特許庁

TEST PATTERN, TEST PATTERNING METHOD, RECORDER AND PROGRAM例文帳に追加

テストパターン、テストパターン作成方法、記録装置及びプログラム - 特許庁

Reflected light from an irregular circuit pattern edge such as a logic pattern is eliminated with a simple spatial filter, thus making it possible to detect a defect on the circuit pattern with high precision.例文帳に追加

ロジックパターンのように不規則な回路パターンエッジからの反射光を簡易な空間フィルタで除去し、回路パターン上の欠陥を高精度に検出することが可能になる。 - 特許庁

SUBSTRATE TREATMENT METHOD, HEATING TREATMENT APPARATUS, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

基板処理方法、加熱処理装置、パターン形成方法 - 特許庁

The hidden pattern displaying control means 120 successively eliminates each hidden pattern 230 after practicing result of the pattern fitting game is displayed on the first displaying layer 210.例文帳に追加

覆隠図柄表示制御手段１２０は、図柄合わせゲームの実行結果が第１表示層２１０に表示された後に各覆隠図柄２３０を順次消去する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性フィルム、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

パターン形成方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置 - 特許庁

FORMING METHOD OF FILM PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

膜パターンの形成方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING METALLIC FILM AND METAL PATTERN例文帳に追加

金属膜形成方法及び金属パターン形成方法 - 特許庁

DETERGENT FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

リソグラフィー用洗浄剤及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

When it is determined that the candidate dither pattern 6 cannot be used, another candidate dither pattern 6 is generated, and the number-of-line evaluation of the candidate dither pattern and availability determination are performed in similar procedures.例文帳に追加

使用不可と判定された場合、別の候補ディザパターン６が生成され、同様の手順で候補ディザパターンの線数評価と使用可否判定が行われる。 - 特許庁

The simulation method aims to simulate a pattern to be transferred onto a photoresist film upon exposing the film by using a photomask comprising a main pattern 10 and an auxiliary pattern 12, wherein data prepared by adding a bias to the design dimension of the auxiliary pattern are used as dimension data of the auxiliary pattern.例文帳に追加

主パターン１０と補助パターン１２とが形成されたフォトマスクを用いて露光した際にフォトレジスト膜上に転写されるパターンをシミュレートするシミュレーション方法であって、補助パターンの設計寸法にバイアス値が加えられたデータを補助パターンの寸法のデータとして用いてシミュレーションを行う。 - 特許庁

At the time, the pattern-under-fluctuation signals are outputted in an ON state through the timing of starting right pattern fluctuation upto the timing of turning the right pattern-under- fluctuation signal to the OFF state.例文帳に追加

このとき、図柄変動中信号が、右図柄変動開始のタイミングから右図柄変動中信号がオフ状態とするタイミングまでオン状態で出力される。 - 特許庁

To precisely inspect the pattern shape of a reticle, etc.例文帳に追加

レチクル等のパターン形状を精度良く検査すること。 - 特許庁

To provide a method and device for testing semiconductor capable of reducing the test pattern storage media cost and the communication cost in the transmission of a test pattern and shortening the time of a test pattern.例文帳に追加

テストパターン記憶メディアコストおよびテストパターン伝送時の通信コストの軽減、テストパターンの時間短縮を図ることができる半導体試験方法および装置を得る。 - 特許庁

MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND METHOD OF FORMING MAGNETIC SERVO PATTERN例文帳に追加

磁気記録媒体及び磁気サーボパターンの形成方法 - 特許庁

INKJET RECORDING APPARATUS AND METHOD FOR RECORDING ITS DOT PATTERN例文帳に追加

インクジェット記録装置及びそのドットパターン記録方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF ARRANGING DUMMY PATTERN例文帳に追加

半導体集積回路およびダミーパターンの配置方法 - 特許庁

When a series of the operations of the pattern image end, the operation pattern is randomly drawn by the counter of the CPU similarly and change-over to the drawn operation pattern is performed.例文帳に追加

絵柄画像の一連の動作が終了すると、同様にＣＰＵのカウンタによって動作パターンをランダムに抽選して、抽選された動作パターンに切り換える。 - 特許庁

At this time, the reference pattern and the comparison pattern are formed in mutually different structures so that the direction of the exposure beam passing through each pattern is changed.例文帳に追加

この際、基準パターン及び比較パターンはこれらを各々通過する露光ビームの方向が変わるように互いに異なる構造で形成されることを特徴とする。 - 特許庁

A performance pattern storage means plurally storing performance pattern tables storing information of respectively specifying a plurality of performance patterns are provided at a pattern control means.例文帳に追加

複数の演出パターンを夫々特定する情報を記憶した演出パターンテーブルを複数記憶した演出パターン記憶手段が図柄制御手段に設けられている。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁

Thus, the highly accurate pattern can be formed.例文帳に追加

その結果、精度の高いパターンを形成することができる。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

By either one of the address of the first special pattern change timer area and the address of the second special pattern change timer area and the address shift amount, the timing of updating display pattern data is specified by a common algorithm and the display pattern data of the special pattern during variation are updated.例文帳に追加

第１特別図柄変更タイマエリアのアドレスと第２特別図柄変更タイマエリアのアドレスとの何れか１つとアドレスずれ量とにより、共通のアルゴリズムにて、表示図柄データを更新するタイミングを特定し、変動中の特別図柄の表示図柄データを更新する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which exhibits good sensitivity and enables formation of a fine pattern of good pattern shape, and a pattern forming method using the negative resist composition.例文帳に追加

感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能なネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。 - 特許庁

FINGER FEATURE PATTERN DETECTOR AND INDIVIDUAL IDENTIFICATION DEVICE例文帳に追加

指の特徴パターン検出装置及び個人識別装置 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR GRAY TONE MASK例文帳に追加

パターン形成方法及びグレートーンマスクの製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FORMING IMAGE PATTERN, AND FOOD例文帳に追加

画像パターン形成方法及びその装置、並びに食品 - 特許庁

RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The server records the received power supply state of the television as a user's behavior pattern in a hard disk (S5), judges whether the pattern is different from a normal pattern (S6), and notifies the user's family or the like of this abnormal state by mail and telephone (S8) when the pattern is different from the normal pattern (NO in S7).例文帳に追加

サーバは、受信したテレビの電源状態をユーザの行動パターンとしてハードディスクに記録し（Ｓ５）、このパターンが通常のパターンと異なるか否かを判定して（Ｓ６）、通常のパターンと異なる場合（Ｓ７でＮＯ）、メールや電話により、このことをユーザの家族などに知らせる（Ｓ８）。 - 特許庁

PATTERN REPRODUCTION PLATE, ITS MANUFACTURING METHOD AND PHOTODIFFRACTION OBJECT例文帳に追加

パターン複製版とその製造方法及び光回折体 - 特許庁

When there is no pattern shape of the coincidence probability equal to or higher than the reference value, the pattern shape having an alignment mark is extracted from the photographed image and additionally registered in the candidate pattern group.例文帳に追加

基準値以上の一致確率のパターン形状が無かった場合、撮影画像からアラインメントマークのパターン形状を抽出し、候補パターン群に追加登録する。 - 特許庁