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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Process designの意味・解説 > Process designに関連した英語例文

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Process designの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 975



例文

In layout design of an analog circuit, a process S1 for extracting a circuit net list 1, a process S2 for inserting virtual parasitic resistance in the circuit net list, and a process S3 wherein simulation is executed and arrangement wiring restriction is derived, are included.例文帳に追加

アナログ回路のレイアウト設計において、回路ネットリスト1の抽出を行う工程S1と、この回路ネットリストに仮想寄生抵抗を挿入する工程S2と、シミュレーションを実行し、配置配線制約を導出する工程S3を備えている。 - 特許庁

To execute efficient and high quality WF system construction by checking whether any mistake is generated in the interface design contents of AP and WF, and then handing over the design contents to the detail design and development of the AP and WF in a downstream process.例文帳に追加

WFシステム構築において、APとWFのインターフェース設計内容にミスがないかどうかをチェックした上で、設計内容を下流工程であるAPとWFそれぞれの詳細設計及び開発に引き継ぎ、効率的で品質の良いWFシステム構築を行なえるようにする。 - 特許庁

In the design and the manufacturing technology of a thin film device in which a film is formed and a CMP is effected under conditions depending on design information to manufacture through an inspection, a wafer after the CMP is measured in a film thickness in detail, and the design and process are altered based on actually measured film thickness data to optimize.例文帳に追加

設計情報に基づいた条件で成膜およびCMPを実施し、検査を経て製造される薄膜デバイスの設計、製造技術において、CMP後のウェハに対して詳細に膜厚を計測し、実測した膜厚データに基づいて設計及びプロセスを変更して最適化する。 - 特許庁

A defective portion of a wafer process on a design layout can be extracted by specifying design restriction conditions according to the number of vertexes in a polygonal figure included in a given region of the design layout pattern, as well as the photomask data of the pattern is corrected.例文帳に追加

設計レイアウトパタンの任意の領域内に含まれるポリゴン図形の頂点数に応じた設計制約条件を規定し、該当パタンを抽出することで、設計レイアウト上のウェハプロセスの不具合箇所抽出を可能にするとともに、該当パタンのフォトマスクデータ補正を実施する。 - 特許庁

例文

To provide a duty correction circuit that corrects a duty ratio to a desired numeric value even if the characteristics of an N-type transistor and a P-type transistor deviate from the design stage due to variations in process and change in process.例文帳に追加

プロセスバラツキや、プロセス変更によりN型トランジスタ及びP型トランジスタ双方の特性が設計段階に対してずれても、デューティ比を所望の数値に補正するデューティ補正回路を提供する。 - 特許庁


例文

To automatize an operation, which correlates each process with necessary information so that an operator who conducts an actual operation in each process can obtain the necessary information without fail, in a design support system.例文帳に追加

設計支援システムにおいて、各工程の実際の作業を行う作業者が確実に必要な情報に接することができるよう各工程と必要な情報とを関連づける作業を自動化する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process capable of manufacturing an FRP molding which carries a variety of translucent patterns with e.g. granitic tone and marble tone and has an excellent design aesthetics in a few process steps without consuming a great deal of time and effort.例文帳に追加

少ない工程で手間がかかることなく、透明感のある御影石調や大理石調等種々の模様が付与され、意匠性に優れたFRP成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a slab design method and device, capable of enhancing the productivity in the whole process of manufacturing sheet products that takes into consideration the coil connection processing in a halfway process.例文帳に追加

途中プロセスにおけるコイル接続処理を考慮し、薄板製品製造プロセス全体での生産性を高くすることができるスラブ設計方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide photomask data correction techniques to extract a defective portion of a wafer process on a design layout and to compensate resolution failure of a resist pattern in a lithography process for manufacturing a semiconductor.例文帳に追加

設計レイアウト上のウェハプロセスの不具合箇所抽出を可能とするとともに、半導体製造リソグラフィ工程におけるレジストパタン解像不良を補うフォトマスクデータ補正技術を提供する。 - 特許庁

例文

The process system includes detailed simulation and characterization of the entire lithography process to verify that the design provides and/or achieves the desired results on a final wafer pattern.例文帳に追加

この処理装置は、デザインが最終ウェーハパターン上の望ましい結果を提供しおよび/または達成することを実証するため詳細なシミュレーションと完全なリソグラフィ過程の描写を含んでいる。 - 特許庁

例文

To provide a construction production supporting system capable simply developing design information to figure information, etc., by smoothly delivering/ receiving, examining and converting the design information generated at each process and section and sharing the information.例文帳に追加

各プロセス、セクションで発生する設計情報の授受、検証、変換や情報の共有をスム−ズに行え、その情報を元に図面情報等に簡単に展開できる建築生産支援システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a business system offering the supports to the enrichment of design documents in the construction and civil engineering works and also offering services such as the corrections or the like of drawings, hearing sheets or CAD data and design documents prepared in the process of the supports.例文帳に追加

建設、土木工事における設計図書充実化の支援を行い、又、該支援の過程で作成した図面、ヒアリングシート、又はCADデータ、並びに設計図書の訂正等のサービスを提供するビジネスシステムを提供する。 - 特許庁

If one of the SMPWs can meet all of a user's IC design requirements, or can serve an intermediate step in a user's IC design process, such as market/concept validation or IP validation, the SMPW is provided to the user.例文帳に追加

もし、SMPWの一つがユーザーのIC設計要求の全てを満足できるか、又は市場/コンセプトの確認やIPの確認のような、ユーザーのIC設計プロセスの中間ステップに役立つならば、SMPWは、上記ユーザーへ提供される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device including a ferroelectric capacitive element which has a compatibility with the design asset of a logic circuit formed by CMOS process and can be easily designed by the conventional manual design.例文帳に追加

CMOSプロセスで形成されるロジック回路の設計資産と親和性がよく、従来のマニュアル設計より簡便に設計することのできる、強誘電体容量素子を備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a layout design method and a layout design device that can finely adjust a delay time of wiring where timing violation occurs without performing a layout stage again to shorten the TAT of a layout process.例文帳に追加

レイアウト工程を再度行わずに、タイミング違反が発生した配線の遅延時間を微調整することができ、レイアウトプロセスのTATを短くすることができるレイアウト設計方法及びレイアウト設計装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electroconductive sheet which exhibits excellent electric conductivity even when produced by a molding method according to a melt forming process such as calender molding and extrusion molding and which has a design different from an inlaid design.例文帳に追加

カレンダー成形、押出成形のような溶融賦形法による成形方法から得られるシートでも良好な導電性を発揮し、かつインレイド調とは異なる意匠を有する導電性シートを提供する。 - 特許庁

The design supporting method at first simulates a deforming process of the work-piece during forging by giving the initial values to the cross sectional shape and the setting position of the work-piece.例文帳に追加

設計支援方法は、まず、ワーク断面形状とワークセット位置に初期値を与えて鍛造中のワーク変形過程をシミュレーションする。 - 特許庁

To provide a control panel simulator capable of optimal design production without considerably increasing the cost in the process of finally making into product.例文帳に追加

最終の製品化に到る過程で大幅なコストの増加を来すことなく最適な設計製造が可能となる操作パネルシミュレータを提供する。 - 特許庁

While the reference core design is performed a repeated improvement process, a subset of original unirradiated fuel bundles are selected for evaluation.例文帳に追加

基準炉心デザインが反復改善プロセスを実行されている間に、評価のために独自の未照射燃料バンドルのサブセットが選択される。 - 特許庁

To provide a method for producing clothes or the like having excellent design completely without sewing by omitting sewing and joining process.例文帳に追加

本発明は、縫製・接合工程を省略して完全無縫製で、且つデザイン性に優れた無縫製の衣類等の製造方法を目的とする。 - 特許庁

To provide an inspection jig capable of acquiring high dimension accuracy with the small number of components in a simple manufacturing process, and applicable to a versatile design article.例文帳に追加

少ない部品点数、簡単な製造工程で高い寸法精度が得られ、汎用の設計品に対応可能な検査用治具を提供する。 - 特許庁

To provide an efficient manufacturing process for a metal resin composite board having photocatalytic function excellent in stainproof property, durability and surface design.例文帳に追加

防汚性、耐久性、表面意匠性に優れた光触媒機能を有する金属樹脂複合板の効率的な製造方法を提供する。 - 特許庁

To create an improved exhaust valve preferable for reduction of formation of NOx and an improved process, and to design an improved large-sized two-cycle diesel engine.例文帳に追加

NOxの形成の削減に好適な、改良された排気バルブ及び改良されたプロセスを作ることが本発明の目的である。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus allowing design man-hour of a neutralization device for a photoreceptor drum used in an electrophotographic process to be reduced.例文帳に追加

電子写真プロセスに用いられる感光体ドラムの除電装置の設計工数を低減することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pixel set with a design for compensating the variables of gate-drain parasitic capacitance that is produced due to displacement error in a manufacturing process.例文帳に追加

製造プロセスの変位誤差により生じるゲート・ドレイン寄生キャパシタンスの変量を補償するための設計を備える画素セットを提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system for generating information on integrated circuit (IC) simulation on an influence of the decision of a design and production process.例文帳に追加

本発明は、デザインと製作プロセスの決定の影響に関する集積回路(IC)シミュレーション情報の生成法と生成システムを含む。 - 特許庁

To design a DC-NW by simultaneously evaluating both an NW topology and DC arrangement by using an AHP(Analytic Hierarchy Process).例文帳に追加

AHPを用いてNWトポロジとDC配置の両方を同時に評価することで、DC−NWを設計することを目的とする。 - 特許庁

The designer edits the business process 226 being designed in a design part 222 according to the contents displayed in the special mode display part 223.例文帳に追加

設計者は特化形態表示部223に表示された内容に基づいて、設計部222で設計中の業務プロセス226を編集する。 - 特許庁

To provide a method and a system for generating integrated circuit (IC) simulation information with regard to the effect of design and fabrication process decisions.例文帳に追加

本発明は、デザインと製作プロセスの決定の影響に関する集積回路(IC)シミュレーション情報の生成法と生成システムを含む。 - 特許庁

To obtain a resin mold part capable of easily separating a built-in article and a resin without requiring the alteration of a design or the addition of a manufacturing process.例文帳に追加

設計の変更や製造プロセスの追加などの必要がなく、内蔵物と樹脂を容易に分離することができる樹脂モールド部品を得る。 - 特許庁

To provide a correcting method for a mask pattern which can bring a pattern formed on a wafer through a photolithography process close to a design pattern.例文帳に追加

フォトリソグラフィプロセスを経てウエハ上に形成されるパターンをより設計パターンに近づけることのできるマスクパターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

(2) Notwithstanding the provisions of the preceding paragraph, a part of inspection for design or manufacturing process may not be performed for aircrafts listed in the following: 例文帳に追加

2 前項の規定にかかわらず、次に掲げる航空機については、設計又は製造過程について検査の一部を行わないことができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The variation of shape is compensated using information of the edge in every direction and a smoothing method in the case a matching process between design data and a SEM image is carried out.例文帳に追加

また、設計データとSEM画像のマッチング処理を行う場合に方向別のエッジ情報とその平滑化により形状変化分を補う。 - 特許庁

During this design process, an environment terminal is provided every transmission line model representing critical interconnect lines affected by a crossing line.例文帳に追加

この設計プロセス中に、クロス・ラインの影響を受けるクリティカル相互接続ラインを表す各伝送ライン・モデルごとに環境ターミナルを提供する。 - 特許庁

The bonding design of the substrate and the metallic sheet structure overcomes the drawback of high cost which arises in prior art owing to the use of the semiconductor manufacturing process, and provides a simple fabrication process capable of increasing process yield and decreasing production cost.例文帳に追加

基材と金属片との接合設計は、従来技術では半導体製造工程を使用したことで発生していた高コストという問題が回避でき、製造の容易化、製造プロセス歩留まりの向上およびコストの低下を図ることが可能である。 - 特許庁

To provide an antenna design method for improving frequency dependence of directionality, by optimizing antenna shape parameters based on an evaluated value obtained by sequentially executing a directionality calculation process, a dispersion calculation process and an evaluated value calculation process.例文帳に追加

指向性算出工程、分散算出工程、評価値算出工程を順に実行することにより得られた評価値に基づいてアンテナ形状パラメータを最適化することにより、指向性の周波数依存性を改善するアンテナ設計手法を提供する。 - 特許庁

The bonding design of the substrate and the fixed resistor overcomes the drawback of high cost which arises in the prior art owing to the use of the semiconductor manufacturing process and provides a simple fabrication process capable of increasing process yield and decreasing production cost.例文帳に追加

基材と定抵抗体との貼り合わせ設計は、従来技術では半導体製造工程を使用したことで発生していた高コストという問題が回避でき、製造の容易化、製造歩留まりの向上およびコストの低下を図ることが可能である。 - 特許庁

The bonding design of the substrate and the resistor overcomes the drawback of high cost which arises in the prior art owing to the use of the semiconductor manufacturing process and provides a simple fabrication process capable of increasing process yield and decreasing production cost.例文帳に追加

基材と抵抗体との接合設計は、従来技術のように半導体製造工程を使用したことで発生していた高コストという問題が回避でき、製造の容易化、製造プロセス歩留まりの向上およびコストの低下を図ることが可能である。 - 特許庁

To provide a molded resin part easily separable into an included part and the resin without necessitating the change of design and the addition of a production process.例文帳に追加

設計の変更や製造プロセスの追加などの必要がなく、内蔵物と樹脂を容易に分離することができる樹脂モールド部品を提供する。 - 特許庁

When the involver describes an opinion to an displayed image, the process design device accepts it and displays the displayed description to the discussion.例文帳に追加

関与者が、表示された画像に対して、意見などを記述すると、プロセス設計装置は、表示された議論に対する記述を受け入れて表示する。 - 特許庁

Next, process information at the time is obtained, and substrate design information of a substrate in the defective part concerned is acquired based on position information on the defective part.例文帳に追加

次に、その時点のプロセス情報を入手し、欠陥部位の位置情報に基づいて当該欠陥部位における基板の基板設計情報を取得する。 - 特許庁

To provide a laminated sheet for molding which has metallic tone design characteristics and a malleability required during molding and is almost free from a luster change after a malleating process.例文帳に追加

金属調の意匠性および、成型時に必要な展延性を有し、展延加工後に光沢の変化の少ない成型用積層シートを提供する。 - 特許庁

This device and method are arranged so that the operation condition of a processing system to process contents is changed over and also the design of the display screen is changed over in linking with the above changeover.例文帳に追加

本発明は、コンテンツを処理する処理系の動作の条件を切り換えると共に、該切り換えに連動して表示画面のデザインを切り換える。 - 特許庁

To improve the design versatility of a roll equipped on electrophotograhic process equipment, and to reduce the creep between an inner ring of a bearing and a heat insulation bush.例文帳に追加

電子写真プロセス機器に装備されるロール周辺の設計自由度の向上、軸受内輪と断熱ブッシュとの間のクリープの軽減等を目的とする。 - 特許庁

To provide a data control method capable of making efficient design and production work for software and hardware, in a production process of a monitoring controller.例文帳に追加

監視制御装置の製作工程における、ソフトウェアやハードウェアの設計製造作業を効率化することが可能なデータ管理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for transferring characters or a design such as pictures to the surface of food without taking time through simplifying a transfer process.例文帳に追加

食品の表面への文字あるいは絵などの模様を転写工程を簡単にして手間を要することなく転写することができるようにする。 - 特許庁

In case of a square, the length of one side is calculated based on the area of the block, the area of the circuit region, the application process, the design criterion, and the like.例文帳に追加

更に、この正方形の場合は一辺の長さは、ブロックの面積、回路領域の面積、適用プロセス及び設計基準等により算出される。 - 特許庁

To provide a highly sensitive corrosion device sensor having a high degree flexibility in design while adopting a conventional idea of detecting a cut thin wire, resolving the problems in the manufacturing process thereof.例文帳に追加

細線の切断を検出する考え方を踏襲しながらも、製造上の問題を解決し、感度を高く、設計自由度を大きくする。 - 特許庁

A. Evaluation of the status of the design of process-level controls 例文帳に追加

イ. 業務プロセスに係る内部統制の整備状況の検討監査人は、評価対象となった業務プロセスに係る内部統制の整備状況を理解しなければならない。 - 金融庁

例文

To provide a semiconductor integrated circuit device capable of decreasing the number of processes when manufacturing a cell library to conduct a circuit design process in a short period of time.例文帳に追加

セルライブラリ作成時における工数を削減し、回路設計処理を短時間で行うことのできる、半導体集積回路装置を提供する。 - 特許庁




  
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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
  
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