「Process design」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

This speeds the GUI design process, enabling you to quickly create professional-lookingvisual interfaces that work. top例文帳に追加

その結果、GUI のデザインプロセスに要する期間を短縮でき、正常に機能するプロ級のビジュアルインタフェースを短時間で作成できます。 - NetBeans

If the BPEL Mapper does not contain the information for CopyCustomerInfo, in the Design view, select the LoanRequestor process box, then select the CopyCustomerInfo assign activity. 例文帳に追加

BPEL マッパーに CopyCustomerInfo 用の情報が含まれていない場合、デザインビューの LoanRequestor プロセスボックスを選択し、CopyCustomerInfo 代入アクティビティーを選択します。 - NetBeans

Control deficiencies identified during the control design understanding process must be addressed in a proper manner. 例文帳に追加

内部統制の整備状況の把握の過程で把握された内部統制の不備には適切な対応が図られなければならない。 - 金融庁

An optimizer then uses the measured coupling capacitances and the design coupling capacitances, to determine the interconnecting process parameters.例文帳に追加

そして、オプティマイザは、相互接続プロセスパラメータを決定するために、測定された結合容量と設計結合容量を用いる。 - 特許庁

Furthermore, it is not necessary to form a circuit by a special manufacturing process of high voltage resistance, so that a design time or costs can be suppressed.例文帳に追加

また、耐電圧の高い特殊な製造プロセスによって回路を形成する必要がなく、設計時間やコストを抑制できる。 - 特許庁

To provide a production process layout generating method to perform layout design of production processes in consideration of fluctuation of production states.例文帳に追加

生産状況の変動を考慮した生産工程のレイアウト設計を行なう生産工程レイアウト作成方法を提供する。 - 特許庁

To perform quality determination of an insulating film about RTN, quality determination of a manufacturing process, circuit design, and the like, more accurately.例文帳に追加

ＲＴＮに関する絶縁膜の品質判定、製造工程の良否判定、回路設計などをより高精度に実施すること。 - 特許庁

To provide a technology with which time required for design of a semiconductor device is shortened taking into consideration of process variation.例文帳に追加

プロセスばらつきを考慮しつつ、半導体装置の設計に掛かる時間を短縮することができる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a design support method and a system therefor whereby reliability of a product is secured without conducting a real test and a simulation in a design process of an electronic instrument, and which are linked to a component procurement system and a process facilities control system, and are capable of giving instructions to the component procurement and the process facilities.例文帳に追加

電子機器の設計工程において、実試験やシミュレーションを行わずとも製品の信頼性が確保される、設計支援方法及びそのためのシステムであって、部品調達システムや工程設備制御システムにもリンクされて、部品調達・工程設備への指示をも可能とするものを提案する。 - 特許庁

To provide a process design supporting system and method for presenting a plurality of working process plans, and for selecting the most satisfactory process design plan from the point of view of a working time or working costs without depending on any special machine tool, and for flexibly facilitating countermeasures to the fluctuation of a working operation or a production schedule.例文帳に追加

工程設計支援システム及び方法において、複数の加工工程案を提示でき、特定の工作機械に依存することなく加工時間や加工コストの観点で最良の工程設計案を選択し、加工作業や生産スケジュールの変動に柔軟に対応できる工程設計を可能とする。 - 特許庁

To provide a design business support system capable of preventing design know-how from belonging to an individual designer, rapidly examining and retrieving the design information as necessary, allowing a manager to rapidly and correctly determine a situation of a design business process from a terminal, and shortening the period of development.例文帳に追加

設計上のノウハウが設計者個人に属することがなくなり、設計情報を必要時に速やかに調査、検索することができることに加え、管理者が端末から設計業務工程の状況判断を迅速かつ的確に行え、開発期間の短縮に役立つ設計業務支援システムを提供する。 - 特許庁

Also, by providing a data structure for storing category data for standardizing design processes in stored similar design/development and a means for generating the design process by using it and recording the editing result, new design is easily registered as a new category and the plan is facilitated as a result.例文帳に追加

また、蓄積される類似の設計・開発において、設計プロセスを標準化するためのカテゴリデータを蓄積するデータ構造と、それを用いて設計プロセスを起こし、その編集実績を記録する手段をもつことにより、新規設計をまた新たなカテゴリとして容易に登録でき、結果として計画が容易になる。 - 特許庁

To optimize the production amount of each kind even when a plurality of process design are present in manufacturing the variety of products in a production process comprising many processes.例文帳に追加

多工程からなる生産プロセスにおいて、複数種類の品種の製品を製造する際に、複数の工程設計が存在する場合においても、各品種の生産量を最適化する。 - 特許庁

In this case, in process design of an automatic assembly and disassembly system, a complicated intertwisted assembly factor and disassembly factor are simultaneously taken into account, there is no unevenness by a worker and quantitative and efficient process design is carried out.例文帳に追加

すると、製品の組立と分解の両方に適用することが可能な自動組立・分解システムの工程設計では、複雑に絡み合う組立要件と分解要件を同時に踏まえ、作業者によるバラツキがなく、定量的かつ効率的に工程設計が行える。 - 特許庁

When the whole cycle time is more than the target cycle time, the process design support device divides the process group having the group cycle time longer than the target cycle time, and generates a new process group such that the whole cycle time is within the target cycle time (step 6).例文帳に追加

全サイクルタイムが目標サイクルタイム以下でない場合、群サイクルタイムが目標サイクルタイムよりも長い工程群を分割し、全サイクルタイムが目標サイクルタイム内となるように新たな工程群を生成する（ステップ６）。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing ceramics which enables to easily design and manufacture ceramics suppressed in variation of characteristics even in the manufacturing process by evaluating the characteristics and properties even in the manufacturing process as the same as in the developing process.例文帳に追加

セラミックスの製造工程においても開発段階と同じ特性や性状の評価を行い、製造工程中においても特性の変動を抑えたセラミックスを容易に設計し製造できるセラミックスの製法を提供する。 - 特許庁

In a next size correction quantity determining process (ST15), the size correction quantity of a design pattern of a photomask is determined according to the calculated mean value, so that the transfer pattern has specific design values.例文帳に追加

次の寸法補正量決定工程ＳＴ１５において、算出した平均値に基づいて、転写パターンが所定の設計値となるようにフォトマスクの設計パターンの寸法補正量を決定する。 - 特許庁

To provide an arrangement structure of the ballast water treatment device in the tanker that can safely process the ballast water and enables a simple design change without the need of a large design change work.例文帳に追加

安全にバラスト水の処理を行うことができ、また、大幅な設計変更作業が必要なく、簡易な設計変更を可能とするタンカーにおけるバラスト水処理装置の配置構造を提供する。 - 特許庁

(2) Notwithstanding the provisions of the preceding paragraph, a part of inspection for design or manufacturing process may not be performed for designs pertaining to supplemental type design or aircrafts pertaining to those designs listed in the following: 例文帳に追加

２　前項の規定にかかわらず、次に掲げる追加型式設計に係る設計及びその設計に係る航空機については、設計又は製造過程について検査の一部を行わないことができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

An in-circuit emulator 10 to verify the chip design divided into internal logic design and external interface design to communicate with the target system 12 by at least one interface protocol includes a processing engine 101 to process algorithm of the logic function by design of an internal logic and a pin signal generating part 102 to generate a plurality of pin signals by design of an external interface.例文帳に追加

内部ロジック設計と、少なくとも一つのインターフェースプロトコルによって目標システム１２と通信するための外部インターフェース設計とに分かれるチップ設計を検証する回路内エミュレータ１０は、内部ロジックの設計によってロジック関数のアルゴリズムを処理するプロセシングエンジン１０１と、外部インターフェースの設計によって複数のピン信号を生成するピン信号生成部１０２とを含む。 - 特許庁

As defined by Section 2, a design shall be accessible to the public if the design was by the registration or in other way publicly known, exhibited, used in market or revealed through other reason, unless this could not be disclosed for a person skilled in the art, who is active in the European economic area in the normal business process before the day of the filing for registration or, when priority is claimed, before the priority date of the design. 例文帳に追加

第2条に定義される意匠は，登録その他の方法によって公表され，展示され，市場において使用されていたか，又はそれ以外の方法で開示されていた場合は，公衆の利用に供されていたとみなす。 - 特許庁

To provide a method and a system to design hierarchically printed circuit patterns, which processes design data hierarchically with an object of using generalized common patterns, optimizes three dimension layouts and virtual terminals, and also realizes a short time design process for the printed circuit patterns.例文帳に追加

プリント基板パターン設計において、パターンの共通共用化を目的として、階層設計処理を行い、３次元配置および仮想端子の最適化により、設計期間短縮を実現する階層プリント基板パターン設計方法および装置を提供する。 - 特許庁

The design coating method comprises a process for imparting energizing property by energizing the surface of the base material, a process for forming a coating film by applying an ultraviolet curing-type powder coating on a base material and heating to melt the powder coating after coating, a process for curing the coating film by irradiating the coating film with ultraviolet ray and a process for printing a design on the cured coating film.例文帳に追加

基材表面に通電処理を施し、通電性を付与する工程と、紫外線硬化型の粉体塗料を基材上に塗装し、塗装後粉体塗料を加熱溶融して塗膜を形成する工程と、塗膜に紫外線を照射して塗膜を硬化させる工程と、硬化塗膜上に意匠を印刷する工程とを備えることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a process design support device capable of automatically dividing a process to optimize the whole process on the basis of both the requirements for assembly and requirements for disassembly which are intricately entangled in an automatic assembly-disassembly process applicable to both the assembly and disassembly of a product.例文帳に追加

製品の組立と分解の両方に適用可能な自動組立・分解工程において、複雑に絡み合う組立要件と分解要件を同時に踏まえて工程全体を最適化する工程分割を自動的に行なうことができる工程設計支援装置を提供する。 - 特許庁

The business process design support apparatus 1 for designing a business process 226 by linked business process components 226a displays a special mode 227 including case structures matching case structures included in the business process 226 being designed, in a special mode display part 223.例文帳に追加

業務プロセス構成要素２２６ａのつながりで業務プロセス２２６を設計させる業務プロセス設計支援装置１において、設計中の業務プロセス２２６に含まれる格構造と一致する格構造を含む特化形態２２７を特化形態表示部２２３に表示する。 - 特許庁

To provide an LSI layout design device for compensating a deviation in capacitance after process migration and to guarantee operation timing for each node.例文帳に追加

プロセスマイグレーション後の容量関係のずれを補正し、各ノードの動作タイミングを保証するＬＳＩレイアウト設計装置を提供すること。 - 特許庁

If, for example, an LCD is used (route of yes), deviation information determined in a circuit design process is set in an image file (S2).例文帳に追加

例えば、ＬＣＤを使用する場合（ＹＥＳのルート）、回路設計段階にて決定されるズレ情報を画像ファイルに設定する（Ｓ２）。 - 特許庁

To provide a method and a system for generating integrated circuit (IC) simulation information regarding an effect of design and fabrication process decisions.例文帳に追加

本発明は、デザインと製作プロセスの決定の影響に関する集積回路(ＩＣ)シミュレーション情報の生成法と生成システムを含む。 - 特許庁

Since the capacity can be formed without changing any of the process device of a logic circuit sections, existing design parameters can be used.例文帳に追加

さらに、論理回路部のプロセス・デバイスを何ら変更することなく容量を形成できるため、既存の設計パラメータを使用できる。 - 特許庁

To provide an inter-board connection structure high in the degree of flexibility in circuit design, facilitating a soldering process, and capable of downsizing a board.例文帳に追加

回路設計の自由度が高く、ハンダ付け工程が簡易であり、基板の小型化が可能な基板間接続構造を提供する。 - 特許庁

To provide a temperature sensor capable of readily sensing a plurality of temperatures without having to change the design, and coping with process changes.例文帳に追加

設計変更せずに、複数個の温度を容易に感知し、工程の変化に対処できるようにした温度センサを提供すること。 - 特許庁

To provide a supporting device for deciding the warning set value of a process for objectively evaluating the validity of design.例文帳に追加

設計の妥当性を客観的に評価できるようにプロセスの警報設定値を決定する支援装置の提供を実現すること。 - 特許庁

When the involver describes about a relation between descriptions, the process design device accepts it and displays the relation between the descriptions.例文帳に追加

さらに、関与者が、記述間の関係について記述すると、プロセス設計装置は、この記述間の関係を受け入れて表示する。 - 特許庁

To provide a butterfly valve in which a sheet ring can be easily positioned, and which is not restricted in design and an assembly process.例文帳に追加

シートリングの位置決めを容易に行うことができると共に、設計及び組立工程が制限されないバタフライバルブを提供すること。 - 特許庁

To remarkably reduce cost, provide excellent mass productivity in association with simplification of a manufacturing device and manufacturing process, and besides provide high flexibility in design.例文帳に追加

大幅なコストダウンが図れ、製造装置及び製造工程の簡略化に伴い量産性に優れ、しかも、高い設計自由度を得る。 - 特許庁

To provide an engine control device materializing accurate irregularity determination process using a first threshold setting to be set at a time of engine design.例文帳に追加

エンジン設計時に設定される第１の閾値設定を用いて、高精度の異常判定処理を実現したエンジン制御装置を得る。 - 特許庁

To reduce the amount of design data when a Fresnel lens type diffractive optical element manufactured through a semiconductor process is designed by CAD.例文帳に追加

半導体プロセスで製造されるフレネル・レンズ型回折光学素子をＣＡＤで設計する場合の設計データ量を低減化する。 - 特許庁

The present invention provides the novel design for the detection unit for the I-type electrolytic hygrometer provided with a thin membrane electrode, and the improved production process therefor.例文帳に追加

薄膜電極を備えるＩ型電解セルのための検出ユニットの新しい設計およびその改良された製造プロセスである。 - 特許庁

Allows for setting breakpoints dynamically, when the process is being executed, in the Navigator window and both the Source and Design views of the BPEL Designer. 例文帳に追加

「ナビゲータ」ウィンドウ内および BPEL デザイナーの「ソース」ビューと「デザイン」ビューの両方でプロセスが実行されるとき、ブレークポイントを動的に設定できます。 - NetBeans

To provide a method for enhancing the efficiency of the proximity correction of a pattern forming process in terms of given chip layout design, and constitution therefor.例文帳に追加

所与のチップ・レイアウト設計に関するパターン形成プロセスの近接補正の効率を高める方法および構成を提供すること。 - 特許庁

When a BPEL process instance reaches a breakpoint, it becomes suspended and you can step into the code, change the current process instance in the BPEL Process Instances window, track the execution of the process instance in the BPEL Process Execution window and in the Design view, examine the values of variables in the Local Variables window, view the process partner links in the Partner Links window and view the values of XPath expressions in the Watches window. 例文帳に追加

BPEL プロセスのインスタンスがブレークポイントに到達すると、プロセスは中断され、ユーザーはコードにステップインし、「BPEL プロセスのインスタンス」ウィンドウで現在のプロセスインスタンスを変更し、「BPEL プロセス実行」ウィンドウとデザインビューでプロセスインスタンスの実行を追跡し、「局所変数」ウィンドウで変数の値を確認し、「パートナーリンク」ウィンドウにプロセスのパートナーリンクを表示し、「ウォッチポイント」ウィンドウに XPath 式の値を表示できます。 - NetBeans

To make it possible to cope with process change certainly without affecting the upper level design such as the layout design of a standard cell, by enabling the adjustment corresponding to extensive delay values without changing cell size and metal wiring as much as possible, even when a process change arises.例文帳に追加

プロセス変動が生じた場合でも、できるだけセルサイズやメタル配線の変更を行なうことなく広範なディレイ値に対応した調整を可能にして、スタンダードセルのレイアウト設計等の上位設計に影響を与えずにプロセス変動に確実に対処できるようにする。 - 特許庁

In a machine processing production line, a production plan of the whole machine processing production line is created, and in a processing process, a process design and a production plan are created in processing process units by allotting processing processes for a product to a plurality of processing machines.例文帳に追加

本発明は、機械加工生産ラインにおいて、機械加工生産ライン全体の生産計画を作成するとともに、加工工程では、製品の加工工程を複数の加工機に分配し、工程単位の工程設計と生産計画を作成する。 - 特許庁

When patterns are formed on a wafer in the method for correcting the mask data through a plurality of process steps A1, A2, A3 to An, by using design patterns, the conversion differences ΔA1, ΔA2, ΔA3 to ΔAn that occur for each process step are corrected for each process step.例文帳に追加

マスクデータ補正方法において、設計パターンから複数のプロセスステップＡ１、Ａ２、Ａ３、…Ａｎをへてウェハ上にパターンを作成する際に、各プロセスステップ毎に生ずる変換差△Ａ１、△Ａ２、△Ａ３、…△Ａｎについて、各プロセスステップ毎に補正を行う。 - 特許庁

The method includes, for at least one process condition, obtaining values for at least one metric expressing a splitting correlated process quality as function of design parameters of the pattern and/or split parameters for the multiple patterning lithographic process.例文帳に追加

方法は、少なくとも１つのプロセス条件に関して、多重パターニングリソグラフプロセスに関するパターンの設計パラメータ及び／又は分割パラメータの関数として、分割に関連したプロセス品質を表す少なくとも１つの計量に関する値を得ることを含む。 - 特許庁