「RZ」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The multilayer film for protecting the backside of the solar cell includes a flat surface layer whose ten point average roughness (Rz) is 0.1-0.5 μm, and a roughness surface layer whose ten point average roughness (Rz) is 0.6-3.0 μm.例文帳に追加

十点平均粗さＲｚが０．１〜０．５μｍの表面を備える平坦面層と、十点平均粗さＲｚが０．６〜３．０μｍの表面を備える粗面層とからなることを特徴とする、太陽電池裏面保護膜用積層フィルム。 - 特許庁

The surface of a sleeve roller 24 subjected to metal shot processing, to achieve a surface roughness (Rz) of 0.45 to 1.08 times the average particle size of the carrier, or more specifically, a roughness Rz of about 30 μm.例文帳に追加

現像装置２０の現像ローラ２４のスリーブローラ２４Ｂの表面は、メタルショット処理されることにより表面粗さ（Ｒｚ）がキャリアの体積平均粒径の０．４５倍以上１．０８倍以下とされ、具体的には、Ｒｚ＝３０μｍ程度である。 - 特許庁

Electrolytic copper foil of this invention is characterized by that roughening treatment is executed on a deposition surface of the copper foil in which surface roughness Rz of the deposition surface of untreated copper foil is the same as or is smaller than surface roughness Rz of a glossy surface of the untreated copper foil.例文帳に追加

本発明は、電解銅箔であって、未処理銅箔の析出面の表面粗度Ｒ__Zが該未処理銅箔の光沢面の表面粗度Ｒ_Zと同じか、それより小さい箔の析出面上に粗化処理を施したことを特徴とする。 - 特許庁

Alternatively, the charge generating agent is incorporated in the vicinity of the surface of the photoreceptive layer and ten-point average surface roughness Rz is ≥0.25 μm, and the absorbance per 1 μm film thickness of the layer including the charge generating agent to the exposure wavelength is set to be ≥0.3.例文帳に追加

または、感光層の表面付近に電荷発生剤を含有し、且つ十点平均表面粗さRzが0.25μm以上であり、前記電荷発生剤を含有する層の露光波長に対する膜厚1μm当たりの吸光度が0.3以上とする。 - 特許庁

An optical clock pulse generator 14 has basic a repetition frequency component of the RZ optical pulse signal inputted from the depultiplexer 12 and generates an optical clock synchronized to the RZ optical pulse signal, to be supplied to the gate device 16.例文帳に追加

光クロック発生装置１４は、光分波器１２から入力するＲＺ光パルス信号の基本繰り返し周波数成分を有し、且つ、ＲＺ光パルス信号に同期した光クロックを発生し、光−光ゲート装置１６に供給する。 - 特許庁

The openings are processed in plastically processed surfaces of 0.2 μm or less in surface roughness Rz by a press.例文帳に追加

オリフィス５４〜５９と開口部５４ａ〜５９ａ，５４ｂ〜５９ｂからなる燃料噴射部の表面あらさをＲｚ２μｍ以下にする。 - 特許庁

The length of the CNT 104 should be desirably approximately 1-4 times larger than surface roughness Rz of the electronic device 106 to be arranged oppositely.例文帳に追加

ＣＮＴ１０４の長さは、対向して配置させる電子素子１０６の表面粗さ（Ｒｚ）の１〜４倍程度が望ましい。 - 特許庁

The target has an average particle diameter of ≤15 μm, and the maximum height Rz of the major face 11a is not more than a half of the average particle diameter.例文帳に追加

平均粒径が１５μｍ以下であり、前記主面１１ａの最大高さＲｚが平均粒径の１／２以下である。 - 特許庁

The average particle size Rz of the zirconia 2 is not more than 2 μm, an average particle size Ra of the alumina 3 is not more than 1 μm.例文帳に追加

ジルコニア２は平均粒子径Ｒｚが２μｍ以下であり、アルミナ３は平均粒子径Ｒａが１μｍ以下である。 - 特許庁

Ten-points average roughness Rz of the lower surface (outer surface of the displacement transmission layer 6) 2a of the piezoelectric element 2 is 5 μm or less.例文帳に追加

圧電素子２の下面（変位伝達層６の外側の面）２ａの十点平均粗さＲｚは、５μｍ以下となっている。 - 特許庁

In either case, when the counter reaches an end decoding value corresponding to the communication speed, the RZ data are unconditionally turned to "0".例文帳に追加

何れの場合も、カウンタが通信速度に応じた終了デコード値に達した時には、無条件でＲＺデータを「０」にする。 - 特許庁

A region to be irradiated with light is divided into four zones: a ring zone RZ, an edge zone EZ, a middle zone MZ, and a center zone CZ.例文帳に追加

光を照射する領域をリングゾーンＲＺ、エッジゾーンＥＺ、ミドルゾーンＭＺ、センターゾーンＣＺの４つに分割する。 - 特許庁

(2) The cathode has a surface roughness adjusted to 10 to 20 μm in terms of a value expressed by five points standard roughness (Rz).例文帳に追加

（２）カソードの表面粗さは、５点標準粗さ（Ｒｚ）で表した値で１０〜２０μｍになるように粗さ調整する。 - 特許庁

(2) The cathode has a surface roughness adjusted to 10 to 20 μm in terms of a value expressed by five points standard roughness (Rz).例文帳に追加

（２）カソードの表面粗さが、５点標準粗さ（Ｒｚ）で表した値で１０〜２０μｍになるように粗さ調整する。 - 特許庁

To provide an optical transmission apparatus and an optical transmission system for enlarging the allowable wavelength diffusion quantity of an RZ signal whose modulation band is compressed by controlling an optical phase.例文帳に追加

光位相を制御して変調帯域を圧縮したＲＺ信号の許容波長分散量を拡大する。 - 特許庁

A data modulator 12 applies RZ pulse processing to a CW light from a laser light source 10 according to a data signal 14 to be sent.例文帳に追加

データ変調器１２は、送信すべきデータ信号１４に従い、レーザ光源１０からのＣＷ光をＲＺパルス化する。 - 特許庁

To reduce the effects of non-linear interaction between adjacent pulses in an optical fiber transmission system having non-soliton RZ signals.例文帳に追加

非ソリトンＲＺ信号を有する光ファイバー伝送システムにおいて、隣接パルス間の非線形相互作用の影響を低減する。 - 特許庁

To provide a device for limiting the noise at 'zero' of transmitted optical RZ signals in a soliton signal transmission system.例文帳に追加

ソリトン信号伝送システムにおいて、伝送される光ＲＺ信号の「ゼロ」におけるノイズを制限するための装置を提案する。 - 特許庁

The end face of the belt is set so that a level difference δ1 may be 0.05[mm] or under and ten-point average roughness Rz may be 5.0[μm].例文帳に追加

そして、前記ベルトの端面は、段差δ１が０．０５〔ｍｍ〕以下に、十点平均粗さＲｚが５．０〔μｍ〕にされる。 - 特許庁

To provide a technique for converting RZ optical data to NRZ optical data and reducing transmission jitter of the NRZ optical data.例文帳に追加

ＲＺ光データをＮＲＺ光データに変換して、ＮＲＺ光データの伝送ジッタを低減する技術を提供する。 - 特許庁

The negative current collector 11 is comprised of a conductive substrate 11A having a surface roughness (Rz) of 3-12 μm and a polymer layer 11B having a thickness of 2/3 or less to the surface roughness (Rz) formed on the conductive substrate 11A.例文帳に追加

負極集電体１１は、表面粗さ（Ｒｚ）が３μｍ以上１２μｍ以下の導電性基材１１Ａに、導電性基材１１Ａの表面粗さ（Ｒｚ）に対する厚みが３分の２以下である高分子層１１Ｂを設けた構成を有している。 - 特許庁

Surface roughness Rz on a recessed surface 11 to be a contact surface with a ball 5 of a holding piece 10 is made 5-50 μm, and a relative load length rate at height of 80% of the highest projected part on the surface roughness Rz is made more than 70%.例文帳に追加

保持ピース１０のボール５との接触面となる凹面１１における表面粗さＲｚを５〜５０μｍとするとともに、その表面粗さＲｚにおける最高突起部の８０％の高さにおける相対負荷長さ率を７０％以上とする。 - 特許庁

Very minute recessed and projecting parts are formed on the surface of the charging layer 43B, and a distance RSm between the recessed and projecting parts on the surface thereof is set to 30μm≤RSm≤320μm, and the ten-point average surface roughness Rz of the surface thereof is set to 1.1μm≤Rz≤5μm.例文帳に追加

帯電層４３Ｂの表面は微小な凹凸が形成されており、凹凸間距離ＲＳｍは、３０μｍ≦ＲＳｍ≦３２０μｍに設定され、かつ、表面の十点平均表面粗さＲｚは、１．１μｍ≦Ｒｚ≦５μｍに設定されている。 - 特許庁

A wavy surface 8 comprising a polished surface having 5 μm or less surface roughness Rz is formed on the sealing end face 5 of the panel 1, and the average value of the height differences H1 in a filtered waviness curve of the wavy surface is set larger than the value of the surface roughness Rz.例文帳に追加

パネル１の封着端面５に、表面粗さＲｚが５μｍ未満の研磨面で構成されたうねり面８を形成し、該うねり面のろ波うねり曲線における高低差Ｈ１の平均値を前記表面粗さＲｚの値よりも大きくする。 - 特許庁

As for this developing roller, ruggedness is formed on its surface layer to carry the developer and the surface roughness Rz is formed within the range of average particle diameter of the developer D-4 (μm)≤Rz≤ the average particle diameter of the developer D+4 (μm).例文帳に追加

、現像剤を担持する表面層に凹凸が形成され、この表面粗さＲｚが、現像剤の平均粒子径Ｄ−４（μｍ）≦Ｒｚ≦現像剤の平均粒子径Ｄ＋４（μｍ）の範囲に形成されていることを特徴とする現像ローラを解決手段とする。 - 特許庁

A narrow band filter 105 suppresses the band of DPSK-RZ light signal 104 to generate narrow band light signal.例文帳に追加

そして、狭帯域光フィルタ１０５によりＤＰＳＫ−ＲＺ光信号１０４の帯域を抑圧して狭帯域光信号を生成する。 - 特許庁

A rough surface part 4 regulated in ten point average roughness Rz to 5 to 50 μm is formed in at least part of the amorphous clubface Fa.例文帳に追加

非晶質フェース面Ｆａの少なくとも一部に、十点平均粗さＲｚを５〜５０μｍとした粗面部４を形成する。 - 特許庁

By providing Ra and Rz×D within the ranges, a form and directivity of a crystal comprising the stimulable phosphor layer 3 can be optimized.例文帳に追加

Ｒａ、Ｒｚ・Ｄを上述の範囲とすることで、輝尽性蛍光体層３をなす結晶の形状、指向性を最適化できる。 - 特許庁

An inverter 52 restores the one light into the RZ form and a photo diode 64 outputs the data D1 by direct detection.例文帳に追加

一方の光は反転装置５２によりＲＺ形式に戻され、フォトダイオード６４が、直接検波によりデータＤ１を出力する。 - 特許庁

By a feedback arrangement responsive to the taps, the source channel wavelength λ is kept on the edge of the reflective bandwidth and RZ pulses are shaped.例文帳に追加

タップに応答するフィードバック構成により、ソースチャネル波長λを反射バンド幅のエッジ状に保持してＲＺパルスの成形を行う。 - 特許庁

In the release sheet for semiconductor mold, the surface roughness Rz of at least one face is not less than 3.0 μm.例文帳に追加

少なくとも、一方の面の表面粗さＲｚが３．０μｍ以上であることを特徴とする半導体モールド用離型シート。 - 特許庁

Irregularities having ten point mean roughness (Rz) in the range of 0.1 μm-10 μm are formed on the surface of the metal foil of the substrate 1.例文帳に追加

基板１は、金属箔表面に十点平均粗さ（Ｒｚ）０．１μｍ〜１０μｍ程度の凹凸形状が形成されている。 - 特許庁

The surface roughness is set as follows; Ra=0.08 to 0.10 μm, Rz=0.45 to 0.60 μm, and the pitch P of the linear groove is about 17 μm.例文帳に追加

その表面粗さは、Ｒａ＝０．０８〜０．１０μｍ、Ｒｚ＝０．４５〜０．６０μｍであり、線状溝のピッチＰは約１７μｍである。 - 特許庁

In the projection direction of the reflected light from the prism 1, an imaging lens body RZ, a reflecting mirror 9 and an image pickup means 10 are arranged.例文帳に追加

プリズム１からの反射光の出射方向には、結象レンズ体ＲＺや、反射ミラー９、撮像手段１０が配設される。 - 特許庁

An optical phase modulator 38 modulates a phase of an inverted RZ signal outputted from the inverter 30 with data D2.例文帳に追加

光位相変調器３８は、反転装置３０から出力される反転ＲＺ信号光の光位相をデータＤ２で変調する。 - 特許庁

A diaphragm is connected to a collector of the radiation generator to enable the compensation of Rx, Ry and Rz besides the compensation of X, Y and Z.例文帳に追加

ダイアフラムは放射発生器のコレクタに接続され、Ｘ、Ｙ、及びＺ補正の他に、Ｒｘ、Ｒｙ、及びＲｚ補正が可能である。 - 特許庁

The surface luminance of the roller is set to the range of 30 to 220 and the surface roughness Rz of the roller is set to the range of 1 to 20 μm.例文帳に追加

そして、ローラの表面輝度値を３０〜２２０の範囲とするとともに、ローラの表面粗さＲｚを１〜２０μｍの範囲とする。 - 特許庁

To enable optical wavelength converters, having an identical arrange ment for RZ/NRZ codes, to be usable without causing duty deterioration to be in generated waveform.例文帳に追加

ＲＺ／ＮＲＺ符号に対して同じ構成の光波長変換器を波形にデューテイ劣化を生じさせないで使用可能とする。 - 特許庁

The modulator 8 for RZ and a bias control circuit 30 are interposed between a CW light source 1 and a DQPSK modulator 2.例文帳に追加

ＲＺ用変調器８およびバイアス制御回路３０は、ＣＷ光源１とＤＱＰＳＫ変調器２との間に介挿される。 - 特許庁

A maximum height Rz of surface roughness of an outer package can 2 at a joining part with an outer package cover 7, is set to be 0.2 μm or more.例文帳に追加

外装カバー７との接合箇所における外装缶２の表面粗さの最大高さＲｚを、０．２μｍ以上に設定する。 - 特許庁

Further, in the base material consisting of the base material mainly made of the thermoplastic resin and an ink accepting layer formed on one side of the base material, the ten-point means roughness (Rz) of the other side, on which the ink accepting layer is not laminated, of the base material is set to be 2 μm or more.例文帳に追加

また、熱可塑性樹脂を主成分として構成された基材と、該基材の一方の表面に形成されたインク受容層とからなるインクジェット印刷シートにおいて、前記基材の前記インク受容層が積層されていない側の表面の十点平均粗さ（Rz）を２μｍ以上とする。 - 特許庁

The fine protrusions on the film surface are predetermined by the ratio of the ten point average roughness Rz to the general surface roughness Ra, (Rz/Ra), being less than 20 at the surface, by the ratio of the density of carboxy group at the surface layer portion and the density of carboxy group at the inner portion, and by the number of fine protrusions.例文帳に追加

フィルム表面の微細突起は、その表面における十点平均粗さＲｚと中心線平均粗さＲａとの比（Ｒｚ／Ｒａ）が２０未満であること、表層部のカルボキシル基濃度と内部のカルボキシル基濃度との比、微細突起の個数により特定される。 - 特許庁

Hereby, the commutator 23 is made, with its difference in level between each segment and the next, its circularity, and its ten-point average surface roughness (RZ) within specified ranges.例文帳に追加

これにより、整流子２３は、各セグメント間の段差、真円度、及び１０点平均表面粗さ（Ｒ_Z）が所定の範囲で形成される。 - 特許庁

To convert the light modulation method from NRZ(non-return-to-zero) to RZ(return-to-zero) mode at a time of converting the wavelength of signal light by the O/O(optical/optical) conversion.例文帳に追加

信号光をＯ／Ｏ変換により波長変換する際に、同時に、光変調方式をＮＲＺからＲＺに変換する。 - 特許庁

The arcana acquisition time RZ and the arcana generation time SPZ are determined to be performance periods of respectively different performance mode.例文帳に追加

また、奥義獲得時期ＲＺと奥義発生時期ＳＰＺとしては、これらがそれぞれに異なる演出モードの実行期間となるように定めた。 - 特許庁