「Reticle Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ALIGNMENT MARK, RETICLE, AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

アライメントマーク、レチクル及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁

The reticle 2 is formed with an alignment mark AM.例文帳に追加

レチクル２にはアライメントマークＡＭが形成されている。 - 特許庁

Then, the tool reticle is loaded onto a reticle stage RST via an exchange arm 120, and positional information of the reticle is detected by a reticle alignment system 22.例文帳に追加

そして、その工具レチクルを、交換アーム１２０を介してレチクルステージＲＳＴ上にロードして、レチクルアライメント系２２によりレチクルの位置情報を検出する。 - 特許庁

A processor determines an alignment position of the substrate or the reticle based on the alignment signal.例文帳に追加

プロセッサが、アラインメント信号に基づいて基板またはレチクルのアラインメント位置を決定する。 - 特許庁

A tool reticle is loaded onto a pre-alignment stage 110, and positional information of a mark on the tool reticle is detected by a pre-alignment system 45.例文帳に追加

工具レチクルをプリアライメントステージ１１０にロードし、プリアライメント系４５で工具レチクル上のマークの位置情報を検出する。 - 特許庁

A reticle mark formed on the reticle is measured by using a pre-alignment sensor 41 before and after the reticle is delivered from the whirling arm 40 to the reticle stage RST in the case of the first carrying of the reticle.例文帳に追加

レチクルの第１回目の搬送時には、旋回アーム４０からレチクルステージＲＳＴに受け渡される前後でプリアライメントセンサ４１を用いてレチクルに形成されたレチクルマークを計測する。 - 特許庁

By this method, fine alignment of the reticle can be carried out accurately.例文帳に追加

これにより、レチクルファインアライメントを高精度で行うことができる。 - 特許庁

To provide a reticle set for forming an alignment mark etc. by using a reticle even when the reticle is small in proper exposure quantity.例文帳に追加

適正露光量の低いレチクルであっても、当該レチクルを用いてアライメントマーク等を形成することが可能なレチクルセットを提供する。 - 特許庁

The side part of the reticle table is provided with a pair of reticle alignment optical systems 111 facing each other.例文帳に追加

また、レチクルテーブルの側部には、１対のレチクルアライメント光学系１１１が対向して設けられている。 - 特許庁

To improve a precision and throughput in alignment between a reticle and a wafer.例文帳に追加

レチクルとウエハとの位置合わせの精度及びスループットを向上させる。 - 特許庁

The mask conveying apparatus is equipped with a second alignment stage 6 for correcting the position of a reticle and with a rotary arm 7 which conveys the reticle between the second alignment stage 6 and a reticle stage RST.例文帳に追加

マスク搬送装置は、レチクルの位置補正を行う第２アライメントステージ６と、第２アライメントステージ６とレチクルステージＲＳＴとの間でレチクルを搬送する旋回アーム７とを備える。 - 特許庁

As a result, an alignment can be completed of the reticle alignment mark RM and the wafer fiducial mark.例文帳に追加

そしてその結果、レチクルアライメントマークＲＭとウエハフィデュシャルマークとを高精度に位置合わせすることができる。 - 特許庁

Positioning of a reticle R held to a reticle stage 2 is carried out by overlapping an alignment mark RM of the reticle R with a reticle reference mark SM of a reticle reference part 13 supported above a projection optical system 3.例文帳に追加

レチクルステージ２に保持されたレチクルＲの位置合わせは、レチクルＲのアライメントマークＲＭと、投影光学系３の上方に支持されたレチクル基準部１３のレチクル基準マークＳＭを重ね合わせることで行なわれる。 - 特許庁

A reference reticle having a 1st reference alignment mark is used to form a reticle 20 with a 2nd reference alignment 21 identical with the 1st reference alignment mark.例文帳に追加

アライメント方法において、まず第１の基準アライメントマークを有する基準レチクルから第１の基準アライメントマークと同一の第２の基準アライメントマーク２１を有するレチクル２０を形成する。 - 特許庁

To improve the alignment accuracy of patterns by correcting a pitch error of a reticle sucked and fixed on a reticle stage.例文帳に追加

レチクルステージに吸着固定した状態におけるレチクルのピッチ誤差を補正し、パターンの重ね合わせ精度を改善する。 - 特許庁

When the reticle R absorbs exposure light and increases its temperature due to its heat accumulation, radiation heat from the reticle R causes the reticle reference part 13 to be thermally deformed, thus reducing an alignment accuracy of the reticle R.例文帳に追加

レチクルＲが露光光を吸収し、熱蓄積によって昇温すると、レチクルＲからの輻射熱によってレチクル基準部１３が熱変形を起こしてレチクルＲのアライメント精度が低下する。 - 特許庁

The detection system is disposed above a reticle to observe the pattern and perform pre-alignment.例文帳に追加

この検出系はレチクル上方に配置し、パターンを観察しプリアライメントを実施する。 - 特許庁

ALIGNMENT MARK, RETICLE FOR CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSING METHOD例文帳に追加

アライメントマーク、荷電粒子線露光装置用レチクル及び荷電粒子線露光方法 - 特許庁

To enable accurate alignment of reticle and wafer, without having to use expensive components.例文帳に追加

高価な部品を用いることなく、高精度なレチクルとウエハのアライメントを可能にする。 - 特許庁

During the reticle alignment, firstly positions are measured of the reticle mark and the wafer fiducial mark at a field of view standard of an alignment sensor as a preliminary measurement, and then their biases are measured.例文帳に追加

レチクルアライメントの際に、まず、予備計測としてアライメントセンサの視野基準でのレチクルマーク及びウエハフィデュシャルマークの位置を計測し、そのずれ量を計測する。 - 特許庁

Reticle alignment marks 55 are arranged respectively at top and bottom ends of small field (SF) rows of a stripe 21 and the alignment of the reticle is carried out on the reference electron beam trajectory in a state in which RS is kept stationary.例文帳に追加

レチクルアライメントマーク５５をストライプ２１の上下端のＳＦ行に配列し、ＲＳを静止させた状態で基準電子ビーム軌道でレチクルのアライメントを行う。 - 特許庁

ALIGNMENT DEVICE, EXPOSURE APPARATUS, ALIGNMENT METHOD AND EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD AND (TOOL) RETICLE FOR CALIBRATION例文帳に追加

位置合わせ装置、露光装置、位置合わせ方法及び露光方法、並びにデバイス製造方法及び較正用（工具）レチクル - 特許庁

During scanning, the light from the alignment reticle image is reflected and scattered by the wafer and its alignment marks.例文帳に追加

走査の間に、アライメントレチクルイメージからの光線はウェファおよびそのアライメントマークによって反射され、そして散乱される。 - 特許庁

The alignment system includes a radiation source configured to illuminate an alignment mark on the substrate or on the reticle, the alignment mark comprising a maximum length sequence or a multi periodic coarse alignment mark.例文帳に追加

アラインメントシステムは、基板上またはレチクル上のアラインメントマークを照明する放射源を備え、アラインメントマークは、最大長シーケンスマークまたは多重周期的粗アラインメントマークを含む。 - 特許庁

The reticle 20 and the reference treated substrate 30 are alignment with each other, so as to have the 3rd reference alignment mark 31 aligned with the 2nd reference alignment mark 21, the offset of the alignment is measured, and alignment is corrected.例文帳に追加

第２の基準アライメントマーク２１に第３の基準アライメントマーク３１を一致させるようにレチクル２０と基準処理基板３０との間でアライメントを行い、そのアライメントオフセットを測定し、アライメントを修正する。 - 特許庁

To provide a reticle capable of increasing the number of chips per wafer and of enabling highly accurate alignment, and an exposure method using the reticle.例文帳に追加

ウェハからのチップ取れ個数を増加させるとともに、高精度のアライメントが可能なレチクルおよびそのレチクルを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

Each of X-shaped marks 2a, 2b 2c, 2d is disposed at the same position as each of cross-shaped alignment marks Ra, Rb, Rc, Rd of a reticle R2 as a base reticle.例文帳に追加

Ｘ字状の各アライメントマーク２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄは、元レチクルとしてのレチクルＲ２の十字状の各アライメントマークＲａ，Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄと同一な位置に設けた。 - 特許庁

When the reticle carried at the specified place is carried again; the place of the reticle is corrected by the whirling arm 40 on the basis of the result of a measurement when the reticle is carried precedently, and the measurement by the pre-alignment sensor 41 is omitted after the reticle is delivered from the whirling arm 40 to the reticle stage RST.例文帳に追加

所定位置に搬送されたレチクルを再度搬送する場合には、先にレチクルを搬送した時の計測結果に基づいて旋回アーム４０によりレチクルの位置補正を行い、旋回アーム４０からレチクルステージＲＳＴに受け渡した後のプリアライメントセンサ４１による計測を省略する。 - 特許庁

A certain lithographic apparatus includes at least one image alignment sensor for receiving radiation projected from an alignment mark on a reticle.例文帳に追加

あるリソグラフィ装置が、レチクル上のアライメントマークから投影された放射を受け取るための、少なくとも１つのイメージアライメントセンサを含む。 - 特許庁

Alignment marks PMOL, PMOR, FXYO1-FXYO4 for measuring the position of the wafer are formed on the wafer W by exposing alignment patterns PM, FM, provided on a reticle reference plate PL fixed onto a reticle stage RSTG for supporting a reticle.例文帳に追加

ウエハの位置を測定するためのアライメントマークＰＭＯＬ，ＰＭＯＲ，ＦＸＹ０１−ＦＸＹ０４を、レチクルを支持するレチクルステージＲＳＴＧ上に固定されたレチクル基準プレートＰＬに設けたアライメントマークパターンＰＭ，ＦＭを露光することによりウエハＷに形成する。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of performing projection exposure by positioning a reticle and a photosensitive substrate through alignment of a reverse-surface mark and a reticle mark.例文帳に追加

裏面マークとレチクルマークとのアライメントにより、レチクルと感光性基板との位置合わせを行い、投影露光することが可能な露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for moving and loading a reticle which is preliminarily aligned on a reticle exposure stage without impairing the preliminary alignment.例文帳に追加

レチクルの予めの整列を失うことなくレチクル露光ステージ上に予め整列されたレチクルを移動およびロードする方法および装置を提供すること。 - 特許庁

When the electron beam trajectory rises toward the right, the alignment is carried out with SF marks of SF no.1 to SF no.10 and parameters such as the position and rotation of the reticle required for the reticle alignment are calculated from these results.例文帳に追加

電子ビーム軌道が右上がりの場合、ＳＦナンバー#１〜#１０までのＳＦのマークでアライメントを行い、これらの結果からレチクル位置、回転などのレチクルアライメントに必要なパラメータを計算する。 - 特許庁

A reference treated substrate 30, onto which the 1st reference alignment mark of the reference reticle is transferred as a 3rd reference alignment mark 31, is formed.例文帳に追加

基準レチクルの第１の基準アライメントマークを第３の基準アライメントマーク３１として転写された基準処理基板３０を形成する。 - 特許庁

After the alignment is corrected, the reticle 20 and the treated substrate of a treated lot main part are aligned with each other.例文帳に追加

アライメントの修正後に、レチクル２０と処理ロット本体の処理基板との間でアライメントが行われる。 - 特許庁

To provide an alignment mark, or the like, ensuring a sufficient contrast when the position of a reticle is detected.例文帳に追加

レチクルの位置検出を行う際に、十分なコントラストを得ることのできるアライメントマーク等を提供する。 - 特許庁

Identification of the photomask A is performed, by irradiating the reticle alignment marks 1c or bar code 1d with a prescribed identifying light.例文帳に追加

フォトマスクＡの識別は、識別マーク１ｃやバーコードに所定の識別光を照射することで行う。 - 特許庁

A reticle is prepared based on the layout data and is exposed by shielding one of alignment marks from the light.例文帳に追加

このデ−タに基ずき、レチクルを作成し、露光時にいづれかのアライメントマ−クを遮光し露光する。 - 特許庁

A whirling arm 40 carries a reticle mechanically place-corrected on a second pre-alignment stage 39 up to the place LP of a loading, and a reticle stage RST carries the reticle delivered from the whirling arm 40 at a specified place.例文帳に追加

旋回アーム４０は、第２プリアライメントステージ３９上で機械的に位置補正されたレチクルをローディング位置ＬＰまで搬送し、レチクルステージＲＳＴは旋回アーム４０から受け渡されたレチクルを所定位置に搬送する。 - 特許庁

The lithographic equipment includes an alignment system for aligning a substrate or a reticle.例文帳に追加

本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置が、基板またはレチクルを位置合わせするためのアラインメントシステムを備える。 - 特許庁

Further, also on a reticle stage RST, the reticle R is matched mechanically with a predetermined reference in terms of an outer shape reference using a reference member 82, the reticle stage RST is moved so as to cancel the estimated drawing error of the pattern, and thereafter reticle alignment is implemented.例文帳に追加

また、レチクルステージＲＳＴ上においても、基準部材８２を用いてレチクルＲを外形基準で機械的に所定の基準に整合させるとともに、求めておいたパターンの描画誤差を相殺するようにレチクルステージＲＳＴを移動させた後に、レチクルアライメントを実施する。 - 特許庁

In a step 522, a reticle expansion/contraction variation amount during the exposure is calculated using results of before-exposure alignment measurement and after-exposure overlap measurement, and corrected, and a parameter of the reticle expansion/contraction correction model is modified so as to correct the reticle expansion/contraction variation amount.例文帳に追加

ステップ５２２で露光前アライメント計測と露光後重ね合わせ計測との結果を用いて露光中のレチクル伸縮変動量を算出し、これを補正するため、レチクル伸縮補正モデルのパラメータを修正する。 - 特許庁

The second alignment stage 6 is equipped with a measuring device 67 to optically image a mark of the mounted reticle to measure the position of the reticle, and drives a stage 60 to correct the position of the reticle R based on the measurement result.例文帳に追加

第２アライメントステージ６は、載置されたレチクルのマークを光学的に撮像してレチクルの位置計測を行う計測装置６７を備えており、この計測結果に基づいてステージ６０を駆動してレチクルＲの位置補正を行う。 - 特許庁

Before fine alignment, pre-alignment is carried out using the light having a wavelength different from that of exposure light to position the reticle stage with respect to three degree of freedom (XYθ), so that the fine alignment mark AM2 may be so positioned as to be easily detected at the time of fine alignment.例文帳に追加

ファインアライメントの前に露光光の波長と異なる波長の光を用いてプリアライメントを行って、ファインアライメントマークＡＭ２がファインアライメント時に検出しやすい位置となるように、レチクルステージをＸＹθの３自由度に対して位置決めする。 - 特許庁

To be able to correctly decide in a short period whether or not alignment has converged for the alignment convergence of several stages, such as a reticle stage or a substrate stage are proper.例文帳に追加

レチクルステージや基板ステージなどの各種のステージの位置決め収束性の良否にかかわらず、短時間で位置決めが収束したことを正しく判定する。 - 特許庁