| 意味 | 例文 |
anti patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 108件
MANUFACTURING METHOD OF ARTICLE HAVING PATTERN-LIKE ANTI-FOGGING EFFECT例文帳に追加
パターン状に防曇効果を有する物品の製造方法 - 特許庁
The anti-counterfeit thread 10 may have an optical diffraction grating or a hologram pattern.例文帳に追加
また、光回折格子またはホログラムパターンを有していても良い。 - 特許庁
Each anti-crime spray device 100 is assigned with different excitation pattern or absorption pattern.例文帳に追加
個々の防犯噴射装置100ごとに異なる励起パターンや吸収パターンが割り当てられている。 - 特許庁
After a resist pattern 14 is formed on the anti-reflection film 13, the patterned anti-reflection film 13 is dry-etched using the resist pattern 14 for the mask to form a patterned anti-reflection film 13A.例文帳に追加
反射防止膜13の上にレジストパターン14を形成した後、反射防止膜13に対して、レジストパターン14をマスクにドライエッチングしてパターン化された反射防止膜13Aを形成する。 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING ANTI-REFLECTION FILM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加
反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
ANTI-REFLECTIVE FILM FORMING MATERIAL AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
反射防止膜形成材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
To provide a method for pattern-etching an anti-reflective coating (ARC) layer of a substrate.例文帳に追加
基板の反射防止(ARC)層をパターンエッチングする方法を提供する。 - 特許庁
SUBJECT ACQUISITION METHOD FOR RESIST PATTERN EVALUATION, SUBJECT ACQUISITION METHOD FOR EVALUATION OF RESIST PATTERN AND ANTI-REFLECTION COATING, AND SUBJECT ACQUISITION SYSTEM FOR EVALUATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加
レジストパターン評価対象取得方法及び反射防止膜評価対象取得方法及びレジストパターン評価対象取得システム - 特許庁
ORGANIC ANTI-REFLECTIVE COATING POLYMER, ORGANIC ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
有機反射防止膜重合体、これを含む有機反射防止膜組成物及びこれを用いたフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING ANTI-REFLECTION COATING, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁
ORGANIC ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加
有機反射防止膜組成物及びこれを利用したフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁
To simplify terminal setting and reduce traffic at update of an anti-computer-virus pattern file.例文帳に追加
コンピュータウィルス対策パターンファイルの更新に際し、端末設定を簡易化し、トラヒックを低減する。 - 特許庁
TOP ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加
上部反射防止膜の組成物、およびこれを用いた半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁
To provide an anti-counterfeit medium consisting of a combination of a hologram with a birefringence pattern wherein an anti-counterfeit effect is high and a manufacturing load is low.例文帳に追加
ホログラムと複屈折パターンとが組合された偽造防止媒体であって、偽造防止効果が高く、かつ製造負荷が少ない偽造防止媒体の提供。 - 特許庁
To provide a composite for forming an anti-reflective film provided on a resist film, and to provide a resist pattern forming method using the composite for forming anti-reflective film.例文帳に追加
レジスト膜上に設けられる反射防止膜形成用組成物及び反射防止膜形成用組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To stably form a micro-protrusion pattern suitable for an anti-reflection structure.例文帳に追加
本発明は、反射防止構造に好適な微細突起パターンを安定的に形成することを可能にする。 - 特許庁
The manufacturing method of the article having the anti-fogging effect in the shape of a pattern comprises pasting in the shape of a pattern a film having an anti-fogging effect on a surface of the transparent article through which the light passes or the reflexive article on which the light reflects.例文帳に追加
光が透過する透視性物品或いは光が反射する反射性物品の表面に、防曇性を有するフィルムをパターン状に貼付するパターン状に防曇効果を有する物品の製造方法。 - 特許庁
A anti-reflection film 41 is formed to be filled into the groove pattern 40 cut in the insulating film 38, and a resist film 42 with a hole pattern 43 is formed.例文帳に追加
絶縁膜38の溝パターン40を埋め込む反射防止膜41を形成し、さらに孔パターン43を有するレジスト膜42を形成する。 - 特許庁
At a second process termination point (c), the pattern widths of the mask layer and the anti-reflection coating are uniformly adjusted in the entire region of a wafer regardless of pattern densities.例文帳に追加
第2工程終了時点(c)では,マスク層および反射防止膜のパターン幅は,パターン密度に関わらず,ウェハ全域で均一に調整される。 - 特許庁
To add a tracing pattern highly resistant to tampering by adding a tracing pattern for anti-copying to each image data page at a different position.例文帳に追加
個々の画像データ頁に対して複写防止用の追跡用パターンを異なった位置に付加し、改竄に強い追跡用パターンを付加できるようにする。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR STRUCTURE COMPRISING BOTTOM ANTI-REFLECTIVE COATING, METHOD FOR FORMING PR PATTERN USING SAME STRUCTURE, AND METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR DEVICE PATTERN例文帳に追加
多重反射防止層を備えた半導体構造物及びその構造物を利用したPRパターンの形成方法及び半導体素子パターンの形成方法 - 特許庁
An anti-reflection film 12 is deposited on the SiOC film 11 deposited on a semiconductor substrate 10, and then the resist pattern 13 is formed on the anti-reflection film 12.例文帳に追加
半導体基板10の上に堆積されたSiOC膜11の上に反射防止膜12を堆積した後、該反射防止膜12の上にレジストパターン13を形成する。 - 特許庁
Furthermore, on the side of the incident surface of the transparent electrode 8, a structure is provided having an anti-glaring fine uneven pattern.例文帳に追加
さらに、透明電極8の入射面側にはアンチグレアー性の微細凹凸パターンを有する構造を設ける。 - 特許庁
To provide an organic anti-reflective coating polymer for use in ultrafine pattern formation during fabrication of a semiconductor device, an organic anti-reflective coating composition containing the same and a method for forming a photoresist pattern using the same.例文帳に追加
半導体素子の製造工程のうち、超微細パターン形成工程で使われる有機反射防止膜重合体、これを含む有機反射防止膜組成物及びこれを用いたフォトレジストのパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
This manufacturing method for the anti-copying printed pattern, which is formed in such a manner that a figured pattern and a camouflage pattern for camouflaging the figured pattern are superposed on a substrate, comprises a first printing step of printing and forming the camouflage pattern on the substrate, and a second printing step of printing and forming the figured pattern on the camouflage pattern.例文帳に追加
模様パターンと、模様パターンをカモフラージュするためのカモフラージュパターンと、を基材上に重ねて形成されてなる複写防止印刷物の製造方法であって、基材上にカモフラージュパターンを印刷形成する第1の印刷工程と、カモフラージュパターン上に模様パターンを印刷形成する第2の印刷工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
After removal of the resist 7, a groove pattern is formed on the inorganic anti-reflection film 6 by the photolithographical process with use of a resist 8.例文帳に追加
レジスト7除去後、無機反射防止膜6上に、フォトリソグラフィによりレジスト8を用いて溝パターンを形成する。 - 特許庁
The security information 430 for anti-virus program includes an anti-virus program name 431, a pattern file number 432, start/non-start 433, and a set state 434 for automatic update.例文帳に追加
ウイルス対策プログラムのセキュリティ情報430には、ウイルス対策プログラム名431、パターンファイル番号432、起動/非起動433および自動更新設定の状態434が含まれている。 - 特許庁
The conductive pattern 12 forms capacitance for anti-crosstalk as well as anti-reflection with the use of a parallel part within a single side of the board 11 and a polymerized part between both sides of the board 11.例文帳に追加
導体パターン12は、基板11の片面内の平行部分と、基板11の両面間の重合部分とを利用して漏話対策用、反射対策用の容量を形成する。 - 特許庁
To provide a tread pattern of a pneumatic tire which improves wet performance and anti-hydroplaning performance while reducing pattern noise and securing land rigidity.例文帳に追加
パターンノイズの低減と、トレッド中央部の陸部剛性の確保とを図りつつ、ウェット性能、耐ハイドロプレーニング性能を向上させる、空気入りタイヤのトレッドパターンを提供する。 - 特許庁
Even when the data file in which the pseudo virus pattern is embedded flows out to the other terminal, the pseudo virus pattern is detected by the function of anti-virus software in the terminal.例文帳に追加
擬似ウィルスパターンの埋め込まれたデータファイルが他の端末に流出した場合でも、その端末において、アンチウィルスソフトの機能によって、擬似ウィルスパターンが検知される。 - 特許庁
A resist pattern PR1 having an inclination widening toward a side of the semiconductor substrate SUB at a pattern end portion is formed on the anti-reflective coating BK.例文帳に追加
その反射防止膜BK上に、パターン端部において半導体基板SUB側に向かって広がるような傾斜を有するレジストパターンPR1が形成される。 - 特許庁
To provide a semiconductor structure comprising a bottom anti-reflective coating, a method for forming a PR pattern using the structure, and a method for forming a semiconductor device pattern.例文帳に追加
多重反射防止層を備えた半導体構造物及びその構造物を利用したPRパターンの形成方法及び半導体素子パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an anti-counterfeit optical sheet in which estimations of three patterns of a pattern applying "an arbitrary color" to "an arbitrary position" in a manufacturing process of hologram and coloring an embossed layer, a pattern of a design of an embossed layer, and a reflective layer pattern remaining without being removed by a demetalizing process are completely accorded with one another, and anti-counterfeit paper using the anti-counterfeit optical sheet.例文帳に追加
ホログラムの製造工程内において「任意の位置」に「任意の色」を付与し、かつエンボス層を着色したパターン、エンボスされた層の図柄のパターン、そしてデメタライズ加工によって取り除かれず残った反射層パターンの3パターンの見当が完全に一致した偽造防止用光学シート、並びに偽造防止用光学シートを用いた偽造防止用紙を提供すること。 - 特許庁
By patterning the intermediate layer 10 and the anti-reflection film 11, with the resist pattern 12a as a mask, the lower layer resist film 9 is developed.例文帳に追加
レジストパターン12aをマスクとして中間層10と反射防止膜11をパターニングし、下層レジスト膜9を現像する。 - 特許庁
The method of manufacturing a semiconductor device includes a step of forming an organic bottom anti-reflective coating over an etch target layer, a step of forming a photoresist pattern over the organic bottom anti-reflective coating, and a step of etching the organic bottom anti-reflective coating using a sulfur-containing gas.例文帳に追加
被エッチング層上に有機反射防止膜を形成するステップと、該有機反射防止膜上に感光膜パターンを形成するステップと、硫黄が含有されたガスを用いて、前記有機反射防止膜をエッチングするステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a VCSEL module 1 can suppress light reflection on a surface of a glass substrate 20 by an anti-reflection film while evading a wiring pattern from being peeled off due to the anti-reflection film formed between the glass substrate 20 and the wiring pattern.例文帳に追加
ガラス基板20と配線パターンとの間に反射防止膜を介在させることによる配線パターンの剥がれ落ちを回避しつつ、反射防止膜によってガラス基板20表面での光反射を抑えることができるVCSELモジュール1を提供する。 - 特許庁
Then, the resist film 42 and the anti-reflection 41 are removed off, and the groove pattern 40 and the hole pattern 43 are each transferred onto the insulating films 37 and 35 using the insulating film 38 as a mask.例文帳に追加
その後、レジスト膜42,反射防止膜41を除去し、絶縁膜38をマスクとして溝パターン40を絶縁膜37に、孔パターン43を絶縁膜35に転写する。 - 特許庁
The brushes 55, 56, and 57 are respectively provided on their pattern board 40-side portions with plate members 61, 62, and 63 whose coefficient of thermal expansion is smaller than that of the anti-pattern board 40-side portions of the brushes 55, 56, and 57.例文帳に追加
ブラシ55,56,57のパターン基板40側部に、ブラシ55,56,57の反パターン基板40側部よりも熱膨張係数の小さい板部材61,62,63をそれぞれ設けた。 - 特許庁
A plurality of cavities are formed on the first main face of a wafer 206, a pattern of an anti-etching layer is formed on a second main face of the wafer 206, the parts at which the pattern of the anti-etching layer is not formed are etched, and an opening part 510 is created between the first main face and the second main face of the wafer.例文帳に追加
ウェーハ206の第1の主面に複数のキャビティを形成し、前記ウェーハ206の第2の主面を耐エッチング層でパターン形成し、耐エッチング層でパターン形成されていないウェーハの部分をエッチングして、ウェーハの第1の主面と第2の主面との間に開口部510を作る。 - 特許庁
To provide a polymer for cross-linking an anti-reflective film, which can be applied to an immersion lithography process and a damascene process and to provide an anti-reflective composition containing the polymer and a method for forming a photoresist pattern by using the polymer.例文帳に追加
液浸リソグラフィ工程およびダマシン工程への適用できる反射防止膜用架橋重合体、これを含む反射防止膜用組成物、及びこれを利用したフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
At the same time, the server reads a mask pattern out of the mask data, calculates the inner product of the mask pattern and the data including the embedded additional information and sends this inner product to the anti-tamper device.例文帳に追加
この時、サーバは、マスクデータからマスクパターンを読み込み、このマスクパターンと付加情報の埋め込まれたデータとの内積を計算し、該内積の計算結果を耐タンパ性デバイスへ送信するようにする。 - 特許庁
In a first processing, a first semi-dense pattern of lines is printed in a first resist layer superimposed on a substrate with bottom anti-reflection coating applied.例文帳に追加
第1の処理では、ラインの第1の半密パターンが、下層反射防止コーティングを施された基板の上に重なる第1のレジスト層内に印刷される。 - 特許庁
The metal layer 3 with the conductive pattern anti-glaring layers 2, 4 comprising layers 2, 3 and 4 formed in areas between the dots remains on the film 1.例文帳に追加
ドット同士の間の領域に形成された層2,3,4よりなる導電性パターン防眩層2,4付きの金属層3がフィルム1上に残る。 - 特許庁
To provide an anti-static film forming composition used for an upper layer of an electron beam resist, a resist pattern using it, and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
電子線レジストの上層に用いられる帯電防止膜形成組成物とそれを用いたレジストパターン及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an uneven pattern-forming sheet showing excellent performance when used for an optical element such as an anti-reflective body, a phase retardation plate and the like.例文帳に追加
反射防止体や位相差板等の光学素子として利用した際に優れた性能を示す凹凸パターン形成シートの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pneumatic tire which can enhance the draining performance without changing the tread pattern within the tread of tire (without impairing the steering stability and anti-abrasiveness).例文帳に追加
踏面内のトレッドパターンを変えずに(操縦安定性や摩耗性を犠牲にすることなく)、排水性を高めた空気入りタイヤを提供することにある。 - 特許庁
In a second process, trimming treatment narrowing down the pattern width of the mask layer 212 is carried out in parallel, not only etching an anti-reflection coating 210 longitudinally.例文帳に追加
第2工程では,反射防止膜210を縦方向にエッチングするだけでなく,マスク層212のパターン幅を狭めるトリミング処理も並列実施する。 - 特許庁
A metal layer 3, having conductive pattern anti-glare layers 2 and 4 consisting of layers 2, 3 and 4 formed in the region between dots, is thereby left on the film 1.例文帳に追加
ドット同士の間の領域に形成された層2,3,4よりなる導電性パターン防眩層2,4付きの金属層3がフィルム1上に残る。 - 特許庁
By providing a contrast control region recognizable from a peripheral image, and/or an anti-aliasing region around a dot, a dot pattern is made machine-readable.例文帳に追加
ドットの周辺に周辺画像と識別可能なコントラスト制御領域および/またはアンチエリアシング領域を設けることによりドットパターンを機械可読とする。 - 特許庁
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