| 意味 | 例文 |
base solutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1396件
This allows the coating solution to be coated on only the upper surface of the plate base material by removing the coating solution on the portions other than the portions on which coating is performed on the upper surface of the plate base material with the coating solution on the coating roll by the square rods.例文帳に追加
そうすることにより、塗工ロール上の塗液で、平板状基材上面に塗布される以外の部分の塗液を該角状棒により除去し、平板状基材上面のみに塗工液を塗布する。 - 特許庁
To form a uniform coating film on a base by allowing a coating solution discharging die head to approach the base even if the base has an undulated surface.例文帳に追加
基板の表面にうねりがある場合であっても,塗布液吐出用ダイヘッドを基板に十分に近接させて,基板上に均一な塗布膜を形成する。 - 特許庁
The drug solution treating apparatus for treating a base material in the form of a roll with a drug solution which has a drug solution treating means, a drug solution washing means, a washing solution draining means, and a drying means is provided with a temperature monitoring means between the washing solution draining means and the drying means.例文帳に追加
ロール状基材を薬液処理するための、薬液処理手段、薬液洗浄手段、洗浄液切り手段、乾燥手段を備えた薬液処理装置であって、洗浄液切り手段と乾燥手段の間に、温度監視手段を備えていることを特徴とする薬液処理装置とする。 - 特許庁
This system is provided with a web server, a communication server, a mail server, a customer data base server, a questionnaire data base server, a reply analysis server, a purchase barrier data base server, and a purchase barrier solution data base server and an information control processing part.例文帳に追加
ウェブ、通信、メール、顧客データベース、アンケートデータベース、回答分析、購入障壁データベース、購入障壁解決データベースの各サーバと情報制御処理部を備える。 - 特許庁
The chemical liquid in which the base paper sheets are immersed is an aqueous solution of zinc chloride.例文帳に追加
また原紙を浸漬する薬液が塩化亜鉛水溶液であることを特徴とする。 - 特許庁
POLYIMIDE RESIN SOLUTION FOR ELECTRODEPOSITION AND PRODUCTION OF COPPER-POLYIMIDE RESIN BASE PLATE USING THE SAME例文帳に追加
電着用ポリイミド樹脂溶液およびこれを用いた銅ポリイミド樹脂基板の製造方法 - 特許庁
The coated paper is obtained by applying the paper coating solution to the surface of the coated base paper.例文帳に追加
塗工紙は、前記紙塗工液を塗工用原紙表面に塗工させて得られる。 - 特許庁
To prevent a base material from being coated with large particles of a coating solution, which causes coating defects.例文帳に追加
基材に、欠陥となる大きな塗工溶液粒子を塗着させないようにすること。 - 特許庁
Next, it is pickled with a solution of a well-known inorganic acid, organic acid or inorganic base.例文帳に追加
次いで周知の無機酸、有機酸又は無機塩基の溶液で酸洗処理を行う。 - 特許庁
Further, in the above glassy film forming-treated solution, organic-base resin may be added and mixed.例文帳に追加
また、前記ガラス皮膜形成処理液には、有機系樹脂を添加混合しておくのがよい。 - 特許庁
NON-CYANOGEN BASE SILVER-PLATING SOLUTION AND SILVER-PLATING METHOD, AND METHOD FOR FORMING BUMP WITH THIS METHOD例文帳に追加
非シアン系銀めっき液及び銀めっき方法並びにそれによるバンプ形成方法 - 特許庁
CONVERSION COATING SOLUTION FOR MAGNESIUM ALLOY, SURFACE TREATMENT METHOD, AND MAGNESIUM-ALLOY BASE MATERIAL例文帳に追加
マグネシウム合金用化成処理液及び表面処理方法並びにマグネシウム合金基材 - 特許庁
To provide a superalloy weld composition for nickel base superalloy parts which is subjected to solid solution strengthening.例文帳に追加
ニッケル基超合金部品用の固溶体強化された超合金溶接組成物。 - 特許庁
BASE MATERIAL FOR CLAD STEEL SUPERIOR IN TOUGHNESS IN SOLUTION AND MANUFACTURE OF CLAD STEEL例文帳に追加
溶体化ままで靭性に優れるクラッド鋼用母材および該クラッド鋼の製造方法 - 特許庁
An aqueous NaOH solution is preferably used as the alkali water containing an inorganic base.例文帳に追加
また、無機塩基を含有するアルカリ水としてNaOH水溶液が好適に用いられる。 - 特許庁
Titanium aluminite ride being solid solution base of at least TiN and AlN is used for the electrodes.例文帳に追加
電極には少なくともTiNとAlNの固溶系であるチタンアルミナイトライドを用いる。 - 特許庁
The method includes a step of arranging a culture solution on a base, and a step of forming a feeder cell layer on the base by discharging a solution containing a feeder cell from a discharger to the base.例文帳に追加
基体上に培養液を配置する工程と、フィーダー細胞を含んだ溶液を吐出器から前記基体に向けて吐出し、前記基体上にフィーダー細胞層を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁
(c) If the solution holding part 13 is brought into contact with a water absorbing base 21, a spot 22 of a prescribed amount of the solution is formed.例文帳に追加
次に、溶液保持部13を吸水性支持体21に接触させると、一定量の溶液のスポット22が形成される(c)。 - 特許庁
The base-type PAn is dissolved in dimethyl sulfoxide(DMSO) and then mixed with a PVA/DMSO solution to create a composite solution.例文帳に追加
塩基型PAnをジメチルスルホキジド(DMSO)に溶解した後、PVA/DMSO溶液に混合して複合溶液が生成される。 - 特許庁
In the cleaning solution, chelating agent and surfactant are added to ammonia solution which uses demineralized water as a base.例文帳に追加
本発明に係る洗浄液は、脱イオン水をベースとするアンモニア溶液にキレート剤と界面活性剤とが添加されたことを特徴とする。 - 特許庁
Alternatively, ammonia in the PVP aqueous solution is removed by distilling the PVP aqueous solution, obtained by the polymerization, after adding thereto a nonvolatile base.例文帳に追加
または、重合後のPVP水溶液に不揮発性塩基を添加して蒸留し、PVP水溶液中のアンモニアを除去する。 - 特許庁
APPARATUS FOR IMPREGNATING SOLUTION, DRYING AND OXIDIZING TO PRODUCE OPTICAL FIBER BASE MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FIBER BASE MATERIAL USING IT例文帳に追加
光ファイバ母材製造用の溶液含浸・乾燥・酸化装置およびこの装置を用いた光ファイバ母材の製造方法 - 特許庁
When the cleaning solution is discharged from a cleaning solution outlet 30, the cleaning solution is supplied to the base member side space S1b to clean an upper surface 6a of the spin base 6 and a lower surface 32b of the partition plate 32.例文帳に追加
また、洗浄液吐出口30から洗浄液が吐出されることにより、ベース部材側の空間S1bに洗浄液が供給され、スピンベース6の上面6aおよび区画板32の下面32bが洗浄される。 - 特許庁
The developing solution contains at least one alkali agent selected from (A) phosphoric acid-base alkali agents, (B) silicic acid-base alkali agents, (C) carbonic acid-base alkali agents, (D) boric acid-base alkali agents, (E) amine-base alkali agents and (F) ammonium-base alkali agents and an alkylnaphthalene-base surfactant.例文帳に追加
(A)リン酸系アルカリ剤、(B)ケイ酸系アルカリ剤、(C)炭酸系アルカリ剤、(D)硼酸系アルカリ剤、(E)アミン系アルカリ剤、および(F)アンモニウム系アルカリ剤より選択される少なくとも一種のアルカリ剤と、アルキルナフタレン系界面活性剤とを含むことを特徴とする現像液である。 - 特許庁
The method for manufacturing the thin molding from a sol solution is characterized by flatly extending the sol solution on a base material giving a contact angle of >0° and <90° to the sol solution and then subjecting the sol solution to gelation and drying on the base material.例文帳に追加
ゾル溶液を、そのゾル溶液に対して0°より高くて90°より低い接触角を与える基材の上に平坦に延ばし、次いでそのゾル溶液をその基材の上でゲル化と乾燥に供することを特徴とする、ゾル溶液から薄肉成形体を製造する方法である。 - 特許庁
The method of producing carboxylic acid includes: a solution preparing process of preparing a solution by dissolving the thiol group-containing carboxylic acid in a solvent; a radical scavenger addition process of adding a radical scavenger to the solution; and a base addition process of adding a base to the solution to which the radical scavenger is added.例文帳に追加
チオール基含有カルボン酸を溶媒に溶解させて溶液を調製する溶液調製工程と、該溶液にラジカル捕捉剤を添加するラジカル捕捉剤添加工程と、ラジカル捕捉剤を添加した該溶液に塩基を添加する塩基添加工程と、を含むカルボン酸の製造方法。 - 特許庁
Furthermore, the second sheath solution introducing flow channel 12 meeting with the sample solution introducing flow channel on the downstream side is set so that the upper surface thereof may be positioned on the same plane as the base of the sample solution inlet flow channel 10.例文帳に追加
また、下流側で合流する第2のシース液導入流路12は、その上面がサンプル液導入流路10の底面と同一平面上に位置するようにする。 - 特許庁
The etching solution for metal contains a base etching solution and a retardant, and is characterized in that the etching rate is independent of or reverse dependent on the stirring rate of the etching solution.例文帳に追加
ベースのエッチング液と抑制剤とを含む金属のエッチング液であり、エッチング速度がエッチング液の攪拌速度に非依存または逆依存することを特徴とした金属のエッチング液である。 - 特許庁
In this case, the solution of the error extracted from a solution management data base 23 and the name of a user who has experienced the same error retrieved from the status management data base 24 and the client management data base 22 are described in the mail.例文帳に追加
メールには、エラーの対処方法を対処方法管理データベース23から抽出して記載すると共に同一のエラーを経験したユーザ名をステータス管理データベース24とクライアント管理データベース22から検索して記載する。 - 特許庁
In a time elapse of 5 sec after the distance L between the nozzle 14 and the base 2 becomes 2 mm, the chemical solution nozzle 14 stops the discharge of the polyimide solution.例文帳に追加
ノズル基盤間距離Lが2mmになった時から5秒経過した時、薬液ノズル14は、ポリイミド溶液の吐出を停止する。 - 特許庁
An aqueous ammonium solution in an amount of more than 0.8 and less than 1.0 base equivalent to the indium ion is added to an aqueous solution containing indium chloride.例文帳に追加
塩化インジウムを含む水溶液に、インジウムイオンに対して塩基当量の0.8倍を越え、1.0倍未満のアンモニア水溶液を添加する。 - 特許庁
There are also provided the starch glue solution obtained by the production method, and the coated paper prepared by coating or impregnating the base material with the starch glue solution.例文帳に追加
また、該製造方法により製造して得た澱粉糊液、およびその澱粉糊液を基材に塗被または含浸した塗被紙である。 - 特許庁
The antimicrobial solution for the agriculture and horticulture can be neutralized by a base so that the pH may be 3-8.例文帳に追加
また、この農園芸用抗菌溶液は塩基によりpHを3〜8に中和してもよい。 - 特許庁
The anode for the nonaqueous electrolyte solution secondary battery is provided with an active material layer containing a silicon-base material.例文帳に追加
非水電解液二次電池用負極は、シリコン系材料を含む活物質層を備える。 - 特許庁
METAL COLLOID SOLUTION, CONDUCTIVE INK, CONDUCTIVE COATING AND CONDUCTIVE COATING FORMING BASE FILM例文帳に追加
金属コロイド液、導電性インク、導電性被膜及び導電性被膜形成用基底塗膜 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING TRIVALENT AND TETRAVALENT MIXTURE VANADIUM COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING VANADIUM- BASE ELECTROLYTIC SOLUTION例文帳に追加
3価と4価の混合バナジウム化合物の製造方法およびバナジウム系電解液の製造方法 - 特許庁
SOLUTION FOR FORMING COLORED FILM AND METHOD FOR PRODUCING GLASS BASE HAVING COLORED FILM FORMED BY USING THE SAME例文帳に追加
着色膜形成用溶液、およびこれを用いた着色膜付きガラス基体の製造方法 - 特許庁
To provide an infrastructure solution for delivering of a high-speed message stream to a contents base.例文帳に追加
高速メッセージストリームをコンテンツベースに送出することに対するインフラの解決策を提供する。 - 特許庁
PHOTOCATALYTIC PARTICLE, PHOTOCATALYTIC SOLUTION, ATOMIZER, AIR CLEANER AND PHOTOCATALYTIC BASE MATERIAL例文帳に追加
光触媒性粒子、光触媒性溶液、噴霧器、空気清浄器及び光触媒性基体 - 特許庁
A detergent 10 is prepared, by holding a cleaning solution component at a base material consisting of water-soluble plastic.例文帳に追加
洗浄剤10は、水溶性プラスチックから成る基材に、洗浄液成分を保持して成る。 - 特許庁
The pretreatment method including a step of immersing the base material in a bone morphogenetic protein solution to be applied to the base material before the implantation is provided.例文帳に追加
骨形成因子溶液中に基材を浸漬する工程を包含する、埋植前の基材に施す前処理方法を提供する。 - 特許庁
A production method has a base metal powder precipitation step 11 wherein an aqueous reducing agent solution containing a first reducing agent is mixed with an aqueous metal salt solution containing a base metal ion to induce oxidation-reduction reaction whereby the base metal ion is reduced and a base metal powder is precipitated.例文帳に追加
卑金属粉末析出工程11では、第1の還元剤を含有した還元剤s水溶液と卑金属イオンを含有した金属塩水溶液とを混合して酸化還元反応を生じさせ、前記卑金属イオンを還元して卑金属粉末を析出させる。 - 特許庁
The pH of the mixture solution has become acidity index (pKa) of the base included in the buffer solution ±1 and is detected by a conductivity detector 5.例文帳に追加
混合液のpHは、緩衝液に含有する塩基の酸性度指数(pKa)±1になっており、それは電気伝導度検出器5で検出される。 - 特許庁
A base sequence set calculation device 100 is provided with: an initial operation part 21; a table storage part 33; a neighborhood solution generation part 22; and a neighborhood solution operation part 23.例文帳に追加
塩基配列集合算出装置100は、初期演算部21、テーブル記憶部33、近傍解生成部22、近傍解演算部23を備える。 - 特許庁
The coating solution 20a is applied directly on one side of the base paper 8 by the head 16, and the excess portion of the coating solution is scraped off by the blade 21.例文帳に追加
塗工液噴射ヘッド16により原紙8の片面に塗工液20aを直接塗布し、余剰分をメータリング用ブレード21で掻き落す。 - 特許庁
The manufacturing method for the material for the restoration is characterized by making a zirconia sol solution crystallized after the application of the solution to the base material.例文帳に追加
この発明の硬組織修復材料を製造する方法は、定形の基材にジルコニアゾル溶液をコーティングした後、結晶化させることを特徴とする。 - 特許庁
Preferably the base material is a fluidized body which has higher specific gravity than that of the sol solution, is insoluble in the sol solution and gives the contact angle of 5 to 30°.例文帳に追加
好ましくは、基材は、そのゾル溶液より比重が高く、かつそのゾル溶液に対して非溶解性の流動体であり、接触角は5〜30°である。 - 特許庁
The supply of the atomized solution B to the base material housing closed space 3 and the recovery of the atomized solution B to the atomizing means 1 are performed by a pump 6.例文帳に追加
基材収容閉空間3への霧化溶液Bの供給および霧化手段1への霧化溶液Bの回収はポンプ6により行う。 - 特許庁
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