「base solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

After bringing the base material into contact with a solution containing organoalkoxysilane SiR' _n(OR)_4-n and calcium ions, the base material is brought into contact with an aqueous solution containing calcium ions and phosphoric acid ions to form a bioactive apatite coating layer on the base material.例文帳に追加

基材を、オルガノアルコキシシランＳｉＲ´_ｎ（ＯＲ）_４−ｎとカルシウムイオンを含有する溶液と接触させた後、カルシウムイオンとリン酸イオンを含有する水溶液と接触させて該基材上に生体活性なアパタイト被覆層を形成することを特徴とする生体活性材料の製造方法。 - 特許庁

This composite material is obtained by soaking a calcium- containing compound-containing polyamide base in an aqueous solution containing phosphate ion and/or derivative thereof, or by soaking the base in an aqueous solution containing phosphate ion and/or derivative thereof and calcium ion, to form a calcium phosphate-based compound layer on the base.例文帳に追加

カルシウム含有化合物を含むポリアミド基材をリン酸イオンおよび／またはその誘導体を含む水溶液に浸漬する事、あるいはリン酸イオンおよび／またはその誘導体を含みかつカルシウムイオンを含む水溶液に浸漬する事でリン酸カルシウム系化合物層を形成させた複合材料。 - 特許庁

The apparatus comprises the base plate 2 and the liquid-flowing path base plate 6 and a solution including DNA is dropped on one side of the concave part 8 for the flowing path so that a liquid flow is allowed to start in the direction of the arrow 12 and the solution is allowed to flow down along the liquid-flowing path.例文帳に追加

基板２と流路基板６からなる装置で、流路となる凹部８の一端側にＤＮＡを含んだ溶液を滴下し、矢印１２の方向に液の流れを生じさせて流路に沿って液を流す。 - 特許庁

Since the fluorescent dyes carried by the illuminated base material are soluble to water, they can be prevented from dissolving into the light-emission solution, even if the fluorescent base material is made in contact with the light-emitting solution.例文帳に追加

被発光基材に担持された蛍光色素が水溶性であるので、被発光基材に発光溶液を接触させても、被発光基材に担持された蛍光色素が発光溶液中に溶け出すことを防止することができる。 - 特許庁

The mixture is prepared by using a zirconium solution and an amount of a base required to reach an equivalence point when the solution is subjected to acid/base titration satisfies a molar ratio condition of OH^-/Zr ≤ 1.65.例文帳に追加

前記混合物はジルコニウム溶液を用いることによって調製され、この溶液を酸／塩基滴定した際に当量点に達するのに必要な塩基の量がＯＨ^-／Ｚｒ≦１．６５のモル比条件を満たすようなものである。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing semiconductor device includes: a plating treatment tank 1; a wafer support 3; a plating solution jetting nozzle base piping 12; and multiple plating solution jetting nozzles 13 for jetting the plating solution toward a work surface of a wafer 2.例文帳に追加

半導体装置の製造装置は、めっき処理槽１と、ウェハー支持部３と、めっき液噴射ノズル土台配管１２と、ウェハー２の被処理面に向かってめっき液を噴射する複数のめっき液噴射ノズル１３とを備えている。 - 特許庁

When a contact angle to the raw material solution on the feeding face of the raw material solution of the base 3 is θ1, a contact angle θ2 to the raw material solution on at least top face of the frame body is θ2>θ1.例文帳に追加

前記基板の原料溶液供給面における原料溶液に対する接触角をθ１とするとき、前記枠体の少なくとも上面における原料溶液に対する接触角θ２がθ２＞θ１とされる。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing copolymer solution having excellent water and oil repellency, transparency, solution stability (preservation stability in a solution), environmental characteristics, safety (nonflammability), durability of a coating thereof, and adaptability to various base materials.例文帳に追加

撥水撥油性、透明性、溶液安定性（溶液での保存安定性）、環境特性、安全性（不燃性）に優れ、且つ塗膜の耐久性、及び各種基材への適合性に優れるフッ素系共重合体溶液を提供する。 - 特許庁

This method for producing the aqueous solution of hydroxylamine nitrate comprises neutralizing the aqueous solution of hydroxylamine sulfate or hydroxylamine hydrochloride with a base, distilling the obtained neutralized solution, and then bringing the distilled hydroxylamine into contact with nitric acid.例文帳に追加

硫酸ヒドロキシルアミンもしくは塩酸ヒドロキシルアミンの水溶液を塩基で中和した後、得られた中和液を蒸留し、次いで留出したヒドロキシルアミンを硝酸と接触させることにより、硝酸ヒドロキシルアミン水溶液を製造する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a base material with a resin not causing the repellence of the resin and the occurrence of coating irregularity even if a coating solution containing an inorganic filler is laminated on the base material.例文帳に追加

無機充填材を含む塗布液を基材に積層しても、樹脂のはじきや、塗りむらの発生することのない樹脂付き基材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR DETECTING ELONGATION REACTION OF PRIMER, METHOD FOR DISCRIMINATING TYPE OF BASE, APPARATUS FOR DISCRIMINATING THE TYPE OF BASE, APPARATUS FOR DETECTING PYROPHOSPHORIC ACID, METHOD FOR DETECTING NUCLEIC ACID AND SAMPLE SOLUTION-INTRODUCING CHIP例文帳に追加

プライマーの伸長反応検出方法、塩基種判別方法、塩基種判別装置、ピロリン酸の検出装置、核酸の検出方法および試料溶液導入チップ - 特許庁

An insulating film (19a) of a metallizing film (19) wound around a winding core (13) is formed by being peeled off from a base material (21) after drying a film solution coated on the base material (21).例文帳に追加

巻芯（13）に巻回される金属化フィルム（19）の絶縁フィルム（19a）を、基材（21）上に塗布したフィルム溶液を乾燥させた後、該基材（21）から剥離させることにより形成する。 - 特許庁

The objective plantation base adjusting agent characteristically includes a pH-abnormal soil conditioner that contains a phosphate buffer solution and an enhancing agent including a salt of strong acid in addition to the plantation base conditioning agent.例文帳に追加

植栽基盤用調整剤に、リン酸緩衝液を含むｐＨ異常土壌改良剤と、強酸の塩を含む増強剤とを含有させたことを特徴とする。 - 特許庁

The electrode base body is divided into a plurality of portions to form a predetermined space between the adjacent divided electrode base bodies and effectively and stably ensure the distribution of the plating solution (the electrolyte).例文帳に追加

電極基体は、複数に分割して、隣接する分割電極基体間に所定間隙を形成し、めっき液（電解液）の流通を安定確保することが有効。 - 特許庁

This method comprises immersing the base material into a plating solution and irradiating the part with a laser beam, to plate only the irradiated part without damaging the characteristics of the base material.例文帳に追加

基材をめっき液に浸漬しレーザ光を集中照射する事で、基材の特性を損なわず照射した部分のみめっきを析出させることができる。 - 特許庁

To provide a processing method for a solution layer for, for example, forming a thin film on the base or processing the base surface in a liquid phase at normal temperature under normal pressure.例文帳に追加

液相中で、常温、常圧にて、例えば基体上に薄膜を成膜し、あるいは又、基体表面を処理するための溶液層の処理方法を提供する。 - 特許庁

To uniformly fix a solute on the surface of a base material when a thin film of a polymeric organic material is formed on the surface of the base material by introducing an atomized solution.例文帳に追加

霧化溶液を導入して基材の表面に高分子有機材料の薄膜を形成する場合に、溶質を基材の表面に均一に定着させる。 - 特許庁

Alternatively, the chemical conversion treatment method comprises: a stage of dipping the base material into a treatment solution heated at 50 to 75°C for 5 to 10 s; and a stage of subjecting the base material after the dipping to hot water washing at 60 to 65°C.例文帳に追加

５０〜７５℃の処理溶液に基材を５〜１０秒間浸漬する工程と、浸漬後の基材を６０〜６５℃で湯洗する工程とを含む化成処理方法。 - 特許庁

To uniformly fix a solute on a base material in the case of forming a thin film of a high molecular organic material on the surface of the base material by introducing an atomized solution.例文帳に追加

霧化溶液を導入して基材の表面に高分子有機材料の薄膜を形成する場合に、溶質を基材の表面に均一に定着させる。 - 特許庁

The step (II): The step of applying an aqueous water soluble polymer solution having a tanδ of ≤2 at an angular velocity of 1 rad/s (25°C) on the base paper obtained in the step (I) to obtain surface-treated base paper.例文帳に追加

工程（II）：工程（Ｉ）で得られた原紙に、角速度１rad/s（２５℃）でのｔａｎδが２以下である水溶性高分子水溶液を塗布し、表面処理原紙を得る工程。 - 特許庁

Electrolysis plating is applied to a base metal in a plating solution containing at least harmless tervalent chromium and iron, and the base metal is plated with chromium as an iron-chromium alloy.例文帳に追加

無害な３価のクロムと鉄分を少なくとも含むメッキ液中で、下地金属を電気分解メッキして、クロムを鉄−クロム合金として下地金属上にメッキする。 - 特許庁

The glass base material containing calcium element is dipped into a phosphate aqueous solution having ≤pH6 to form rod like apatite crystals on the surface of the base material.例文帳に追加

カルシウム元素を含有するガラス基材をｐＨ６以下のリン酸塩水溶液に浸漬することによって、前記基材の表面に棒状のアパタイト結晶を形成させる。 - 特許庁

The protein support can be achieved by a simple method of immersing a base material in a protein solution.例文帳に追加

また、本発明の蛋白質担持体は、蛋白質溶液に基材を含浸するという簡便な方法で実現できる。 - 特許庁

The uppermost surface coating solution is put on the gravure roll 12 and metered by a doctor blade 20 to be applied to a base material 10.例文帳に追加

最表面の塗液をグラビアロール１２にのせ、ドクター刃２０で計量された後、塗液は基材１０に塗工される。 - 特許庁

The polymer may have an acid labile group which significantly lowers the solubility of the polymer in an aqueous base solution.例文帳に追加

所望により、ポリマーは塩基水溶液へのポリマーの溶解度を大幅に低下させる酸不安定性基を有する。 - 特許庁

The method for producing the ink composition uses the black ink base solution.例文帳に追加

上記ブラックインク原液を用いることにより上記インク組成物を得ることを特徴とするインク組成物の製造方法。 - 特許庁

Further, alkaline treatment is applied to a predetermined part of the base material formed with the film by applying the coating mixed solution.例文帳に追加

また、被覆用混合溶液を塗布して被膜が形成された基材における所定部分に、アルカリ処理を施した。 - 特許庁

This method comprises washing collected hair follicle tissues with a base solution and separating the hair follicle tissues singly or with each a specified unit.例文帳に追加

採取した毛包組織を基礎溶液で洗浄し、この毛包組織を単一ないし所定単位に分離する。 - 特許庁

A cellulose triacetate base material is used for the web 12 and a solution of a liquid crystal compound in methyl ethyl ketone is used for the coating liquid.例文帳に追加

ウエブ１２にはセルローストリアセテート基材を用い、塗布液には液晶性化合物のメチルエチルケトン溶液を使用した。 - 特許庁

The composition is prepared by mixing an organic ammonium salt into an aqueous solution containing an organic base having no metal ion.例文帳に追加

金属イオンを含まない有機塩基を含有する水溶液に、有機アンモニウム塩を配合したことを特徴とする。 - 特許庁

The ruthenium-carried alumina is produced by suspending alumina in a solution containing trivalent ruthenium and then adding a base.例文帳に追加

三価のルテニウムを含む溶液にアルミナを懸濁させた後、塩基を加えることにより、ルテニウム担持アルミナを製造する。 - 特許庁

As the base material 1, it is preferable to use a material obtained by impregnating wood with a sodium silicate solution and drying the impregnated wood.例文帳に追加

なお、その基材１として木材に珪酸ナトリウム溶液を含浸させて乾燥させたものを用いるのが好ましい。 - 特許庁

This method comprises etching a ruthenium film formed on a base plate with a chemical solution having pH of 12 or more and an oxidation reduction potential of 300 mVvsSHE.例文帳に追加

基板に形成したルテニウム膜を、ｐＨ１２以上かつ酸化還元電位３００mVvsSHE 以上の薬液でエッチングする。 - 特許庁

These detergents are each obtained by adding a coral sand powder or a solution obtained by reacting coral sand with an acid to a conventional base detergent.例文帳に追加

従来の洗剤基本剤にコーラルサンド粉末またはコーラルサンドの酸反応液を加えて、これら洗剤を得る。 - 特許庁

The scouring treatment is followed by the breaching treatment with an aqueous solution including hydrogen peroxide and α-hydroxyacrylic acid-base polymer.例文帳に追加

精練処理後、過酸化水素及びα−ヒドロキシアクリル酸系ポリマーを含有する水溶液を用いて、漂白処理する。 - 特許庁

A portion of water-base coating solution flows over the first convex part 5B, 5F, and is intercepted and pooled by the second concave grooves and the second convex parts.例文帳に追加

一部の水系塗布液は第一凸部５Ｂ，５Ｆを越えて流れるが、第二凹溝や第二凸部で堰き止めて溜める。 - 特許庁

The method also includes subjecting the second layer to an aqueous solution of a base to mechanically pattern the second layer.例文帳に追加

また、本方法は第２の層を塩基の水性溶液に曝し、第２層を機械的にパターン形成することも含む。 - 特許庁

Then the photoresist film 12 is partially removed by bringing the piezoelectric substrate 10 into contact with a developing solution on a supporting base 13.例文帳に追加

次に、圧電基板１０を支持台１３上で現像液と接触させて、フォトレジスト膜１２の一部を除去する。 - 特許庁

A laser irradiation part irradiates the micro irregular face with a laser beam of single wavelength light through the solution layer regularizing base plate.例文帳に追加

レーザ照射部は、溶液層定常化基板を通して単一波長光のレーザ光を微小凹凸面に照射する。 - 特許庁

For example, the nut of the injection tube for a sulfuric acid is colored in a "blue base", the nut of the injection tube for a hydrogen peroxide solution in a "yellow base" and the nut of the injection tube for fluid that is extremely dangerous when mixed with an acid such as an organic solvent in a "red base".例文帳に追加

例えば、硫酸用には「青色系」の着色を施し、過酸化水素水には「黄色系」の着色を施し、有機溶剤等の酸との混合で極めて危険なものには「赤色系」のようにする。 - 特許庁

A coloring solution containing 4-amino-4-phenyl-3-en-2-one and a buffer solution is impregnated into a base material containing at least silica gel, and a solvent is evaporated to prepare this material of the present invention.例文帳に追加

４−アミノ−４−フェニル−３−エン−２−オンと緩衝液とを含む発色液を少なくともシリカゲルを含有する基材に含侵させ、溶媒を揮散させて構成されている。 - 特許庁

Reducing the consumption of the developing solution 31 prevents the developing solution 31 from turning around to the backside of the base Mt, thus avoiding the reduction of the yield.例文帳に追加

現像液３１の使用量を減らすことにより、当該現像液３１が基材Ｍｔの裏面に回りこむのを防ぐことができるので、歩留まりの低下を回避することが可能となる。 - 特許庁

The processing method for the solution layer includes carrying out dielectric barrier discharge processing on a solution layer 20, for example, applied over a surface (first surface 11) of the base 10 by using a discharge electrode 30.例文帳に追加

溶液層の処理方法は、基体１０の表面（第１面１１）に例えば塗布された溶液層２０に放電用電極３０を用いて誘電体バリア放電処理を施す。 - 特許庁

The 1st solution and the 2nd solution are charged into a flow type reactor provided with a pair of electrodes and a porous base material arranged between the electrodes.例文帳に追加

そして、一対の電極とこの電極間に配置された多孔質基材とを具えるフロー型反応容器中に、前記第１の反応溶液及び前記第２の反応溶液を入れる。 - 特許庁

The base material can adsorb or absorb components in a solution by soaking it in the solution to obtain e.g. a wet composition containing a functional component.例文帳に追加

この支持体は、溶液に浸漬することで、溶液中の成分を吸着または吸収することができ、例えば、機能性成分を含有する湿潤組成物を得ることができる。 - 特許庁