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basic formulaの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 131



例文

In the thermal recording medium, in which a thermal recording layer mainly including a basic lueco dye and an organic developer is provided, the thermal recording layer includes at least one type of compound represented by formula (1) as the organic developer and also includes at least one type of compound represented by formula (2) as the basic lueco dye.例文帳に追加

塩基性ロイコ染料と有機顕色剤とを主成分として含有する感熱記録層を設けた感熱記録体において、該感熱記録層が有機顕色剤として一般式(1)で表される化合物の少なくとも1種を含有し、かつ塩基性ロイコ染料として一般式(2)で表される化合物の少なくとも1種を含有する感熱記録体。 - 特許庁

The method includes reacting (a) a peptide (or a protein) having at least one free amino group with an acylation agent represented by formula (I) under a basic condition in a mixture of an aprotic polar solvent and water, and saponifying the peptide ester group acylated in the above under a basic condition.例文帳に追加

(a)少なくとも1つの遊離アミノ基をもつペプチド(又はタンパク質)を一般式(I):により表されるアシル化剤と、塩基性条件下、非プロトン極性溶媒と水の混合物中で反応させ;塩基性条件下、上記のアシル化されたペプチドエステル基をケン化する;前記方法。 - 特許庁

The method for producing the dicyanomethylene derivative comprises a step of reacting an aromatic compound represented by formula (1) with malononitrile under a basic condition, and a step of forming the dicyanomethylene derivative represented by formula (2) by adding the oxidant to a liquid obtained by reacting the aromatic compound with the malononitrile.例文帳に追加

式(1):で表される芳香族化合物と、マロノニトリルとを塩基性条件下で反応させる工程、酸化剤を前記芳香族化合物とマロノニトリルとを反応させた液に加えて式(2)で表されるジシアノメチレン誘導体を生成する工程を含むジシアノメチレン誘導体の製造方法。 - 特許庁

Then, optimum polishing time of a semiconductor wafer of product type "B" is predicted using mask data of the semiconductor wafer of product type "B" to be a fabrication object, and the basic formula including the parameter value determined in S202 (S203).例文帳に追加

つぎに加工対象となる製品種「B」の半導体ウエハのマスクデータと、S202でパラメータ値を定めた基礎式とを用いて、製品種「B」の半導体ウエハの最適研磨時間を予測する(S203)。 - 特許庁

例文

The method for producing a composition of a compound represented by formula comprises addition of 1 to 3 kinds of basic organic compounds as a condensation agent to a substituent precursor compound such as various chloromethyl ether compounds.例文帳に追加

種々のクロルメチルエーテル化合物を、置換基前駆体化合物に1〜3種の塩基性有機化合物を縮合剤として添加する、下記式で代表される化合物の組成物の製造方法。 - 特許庁


例文

By an input device 1, as the conditions of a target program, 'area' and 'line speed' indicated in a chart and a result by the 'basic charge' of a formula are specified, inputted and supplied to this program generator 2.例文帳に追加

入力装置1により目的のプログラムの条件として、表に示す「地域」と「回線速度」と、式の「基本料金」による結果を指定して入力するとともに、プログラム生成装置2に供給する。 - 特許庁

The positive type electron beam or X-ray resist composition contains a compound of formula (I), (II) or (III) which generates an acid when irradiated with radiation, a cyclic ether compound and an organic basic compound.例文帳に追加

一般式(I)、(II)又は(III)で示される放射線の照射により酸を発生する化合物、環状エーテル化合物及び有機塩基性化合物を含有するポジ型電子線又はX線レジスト組成物。 - 特許庁

This is the manufacturing method of the active material for the lithium secondary battery composed of the lithium iron phosphor based complex oxide expressed by a basic formula LiFePO_4, and a raw material preparation process and a reaction process are carried out.例文帳に追加

基本式LiFePO_4で表されるリチウム鉄リン系複合酸化物からなるリチウム二次電池用の活物質の製造方法であって、原料準備工程と反応工程とを行う。 - 特許庁

In a basic Fe_2VAl structure having a Heusler alloy crystal structure whose total number of valence electrons per chemical formula is 24, at least part of each of Fe and V is replaced with other elements.例文帳に追加

ホイスラー合金型の結晶構造をもち、化学式当たりの総価電子数が24であるFe_2VAlの基本構造に対し、Fe及びVのそれぞれ少なくとも一部が他の元素で置換されている。 - 特許庁

例文

Based on mask data and a measured value of remaining film thickness of a fabricated semiconductor wafer of product type "A", a parameter value included in a basic formula is determined such that properties of CMP apparatus are reproduced (S202).例文帳に追加

加工済みの製品種「A」の半導体ウエハのマスクデータおよび実測残膜厚値に基づき、基礎式に含まれるパラメータの値を、CMP装置の特性を再現するように決定する(S202)。 - 特許庁

例文

The etchant for silicon nitride is used which contains, as essential components, a quaternary alkyl ammonium salt having a specific chemical structural formula, a basic compound, and an inorganic acid and/or an organic acid.例文帳に追加

特定の化学構造式を有する4級アルキルアンモニウム塩、塩基性化合物、並びに無機酸および/または有機酸を必須成分とすることを特徴とする窒化ケイ素用エッチング液を使用する。 - 特許庁

The toner used for this method is nonmagnetic single-component toner containing a binder resin and a coloring agent, and the coloring agent contains a pigment having the basic structural formula (1).例文帳に追加

また、この方法に用いられるトナーであって、結着樹脂と着色剤を含有するトナー粒子を有する非磁性一成分トナーであり、該着色剤が、下記基本構造式(1)を有する顔料を含有する。 - 特許庁

The polyamideimide resin is characteristically obtained by reacting (a) a polycarboxylic acid component having, as an essential component, a tri- or more polycarboxylic anhydride having an acid anhydride group and a carboxy group, (b) an imide dicarboxylic acid having a 3,4'-diphenylether structure represented by formula (I) and (c) an aromatic polyisocyanate in a basic polar solvent.例文帳に追加

(a)酸無水物基及びカルボキシル基を有する3価以上のポリカルボン酸無水物を必須とするポリカルボン酸成分、(b)3,4´-ジフェニルエーテル構造を有するイミドジカルボン酸 - 特許庁

A fluxing agent is added at ≤10wt% to 100wt% glaze composition composed of a KNaO-MgO-CaO-Al_2O_3-SiO_2-based basic glaze in which basic components consists of 0.1 to 0.4 KNaO, 0.2 to 0.6 MgO and the balance CaO expressed by Seger formula and metal oxides consisting of tin oxide and antimony oxide.例文帳に追加

ゼーゲル式で表して、塩基性成分が、KNaO:0.1〜0.4、MgO:0.2〜0.6、CaO:残部からなるKNaO−MgO−CaO−Al_2O_3−SiO_2系基礎釉と、酸化スズ、酸化アンチモンからなる金属酸化物と、からなる釉薬組成物100wt%に対し、10wt%以下の溶融剤を添加する。 - 特許庁

This invention relates to aminoalkyl thiosulfate-containing silica gel in which aminoalkyl thiosulfate represented by formula (1) (In the formula, R^1 and R^2 each independently represents a hydrogen atom or 1C-6C alkyl group, and n represents an integer of 2-9. and M represents an alkali metal) is adsorbed into a neutral or basic silica gel.例文帳に追加

式(1)(式中、R^1及びR^2はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。nは2〜9の整数を表す。Mはアルカリ金属を表す。)で示されるアミノアルキルチオ硫酸塩が中性又は塩基性のシリカゲルに吸着されているアミノアルキルチオ硫酸塩含有シリカゲル。 - 特許庁

For example, the method of manufacturing 3-acetyl-4-oxoazetidine-2,2-dicarboxylic acid diesters shown by formula (II) is characterised in that 3-hydroxy-3-methyl-5-oxopyrridine-2,2-dicarboxylic acid diesters shown by formula (I) are obtained by the electrode oxidation or the iodine oxidation under the basic condition, and compounds obtained by the manufacturing method are also provided.例文帳に追加

例えば式(I)で示される3−ヒドロキシ−3−メチル−5−オキソピロリジン−2,2−ジカルボン酸ジエステル類を電極酸化、又は、塩基性条件にヨード酸化することを特徴とする、式(II)で示される3−アセチル−4−オキソアゼチジン−2,2−ジカルボン酸ジエステル類の製造法及びその得られた化合物。 - 特許庁

On the vibration that a floating roof 15 in a floating roof type tank is excited in a non-linear manner by sloshing, a basic formula is derived from the variational principle, a non-linear differential equation is derived by a mode development method.例文帳に追加

浮き屋根式タンクにおける浮き屋根15がスロッシングに伴って非線形性に励起される振動について、変分原理から基礎式を導いた後、モード展開法によって非線形微分方程式を導出する。 - 特許庁

By using mask data of a semiconductor wafer of a product kind [B] which becomes an object to be worked and using the basic formula whose parameter value is determined in S202, the optimum polishing time of the semiconductor wafer of the product kind [B] is estimated (S203).例文帳に追加

つぎに加工対象となる製品種「B」の半導体ウエハのマスクデータと、S202でパラメータ値を定めた基礎式とを用いて、製品種「B」の半導体ウエハの最適研磨時間を予測する(S203)。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion element and a solar cell, which use semiconductor particles sensitized by a dye that has a basic skeleton shown by the formula (1), which may have a substitution group, are low costs, and have sufficient conversion efficiency.例文帳に追加

置換基を有しても良い一般式(1)の基本骨格を有する色素により増感された半導体微粒子を用いた、安価で変換効率の良い光電気変換素子および太陽電池の開発。 - 特許庁

The active material for the lithium secondary battery has sulfur added as an additive element to a main ingredient of a basic formula: LiMePO_4 (where Me is at least one kind selected from among Fe, Mn, Ni, and Co).例文帳に追加

リチウム二次電池用活物質は、基本式LiMePO_4(但し、Meは、Fe、Mn、Ni、Coから選ばれる少なくとも1種以上)の主成分に対して、添加元素としての硫黄が添加されてなる。 - 特許庁

On the basis of mask data of a semiconductor wafer of a product kind [A] which has been worked and on the basis of a residual film thickness value which is actually measured, a value of a parameter contained in a basic formula is determined so as to regenerate the characteristic of CMP equipment (S202).例文帳に追加

加工済みの製品種「A」の半導体ウエハのマスクデータおよび実測残膜厚値に基づき、基礎式に含まれるパラメータの値を、CMP装置の特性を再現するように決定する(S202)。 - 特許庁

This one-part moisture-curing urethane composition consists essentially of an isocyanate group-terminated urethane prepolymer and is obtained by adding (A) a compound having 6.0-9.0 solubility parameter value and/or (B) a compound having at least one basic structure represented by the formula (wherein, n is 0-3) in the molecule thereto.例文帳に追加

本発明の一液型湿気硬化性ウレタン系組成物は、イソシアネート基末端ウレタンプレポリマーを主成分とし、(A)溶解度パラメーター値6.0〜9.0の化合物および/または(B)分子中に式: - 特許庁

Provided is a method for producing a compound or its salt expressed by general formula III by reacting a compound belonging e.g. to the group of (diphenylphosphino)benzenesulfonic acid with a basic compound and reacting the reaction product with a phosphine halide.例文帳に追加

例えば(ジフェニルホスフィノ)ベンゼンスルホン酸に類する化合物と塩基性化合物とを反応させた後、ハロゲン化ホスフィンを反応させて得られる下記一般式IIIで表される化合物またはその塩の製造方法。 - 特許庁

The PPAR inhibitor includes at least one of a compound having a structure represented by structural formula (1) as a basic skeleton and a pharmacologically acceptable salt thereof as an active ingredient.例文帳に追加

下記構造式(1)で表される構造を基本骨格とする化合物及びその薬理学上許容される塩のうち少なくとも1つを有効成分として含むことを特徴とするPPAR抑制剤である。 - 特許庁

The fluoroolefin iodide mixture is produced by dehydrofluorinating a fluoroalkyl iodide represented by general formula [II]: C_nF_2n+1CF_2CH_2CF_2(CF_2CF_2)_mI (n is an integer of 0-5; and m is an integer of 1-3) in the presence of a basic compound.例文帳に追加

このフルオロオレフィンアイオダイド混合物は、一般式 C_nF_2n+1CF_2CH_2CF_2(CF_2CF_2)_mI〔II〕(ここで、nは0〜5の整数であり、mは1〜3の整数である)で表わされるフルオロアルキルアイオダイドを塩基性化合物の存在下で脱HF化反応させることにより製造される。 - 特許庁

The method for producing ethynylphthalic acid derivative represented by formula (4) comprises reacting a compound represented by general formula (2) with a compound represented by general formula (3), hydrolyzing the reaction product with a basic aqueous solution and extracting the hydrolysate from the aqueous layer of the reaction liquid with an organic solvent containing oxygen atom.例文帳に追加

一般式(2)で表される化合物と一般式(3)で表される化合物を反応させた後、塩基性水溶液で加水分解し、反応液の水層を、酸素原子を含有する有機溶剤で抽出する下記一般式(4)で表されるエチニルフタル酸誘導体の製造方法、更に、得られた一般式(4)で表される化合物を閉環する下記一般式(1)で表されるエチニルフタル酸無水物誘導体の製造方法。 - 特許庁

The polishing composition contains (A) a block type polyether represented by the following general formula (1), (B) a silicon dioxide, (C) a basic compound, (D) at least one kind selected among a hydroxy polyvinyl alcohol and polyvinyl alcohol, and (E) water.例文帳に追加

研磨用組成物は、(A)下記一般式(1)で示されるブロック型ポリエーテル、(B)二酸化ケイ素、(C)塩基性化合物、(D)ヒドロキシエチルセルロース及びポリビニルアルコールから選ばれる少なくとも一種並びに(E)水の各成分を含有している。 - 特許庁

In the radiographic image conversion panel with a fluorescent layer formed by a vapor deposition sedimentation method, the fluorescent layer consists of an europium activated cesium bromide stimulable phosphor having a basic composition formula (I).例文帳に追加

気相堆積法により形成された蛍光体層を有する放射線像変換パネルであって、該蛍光体層が、基本組成式(I)を有するユーロピウム付活臭化セシウム系輝尽性蛍光体からなる放射線像変換パネル。 - 特許庁

The objective porous complex is synthesized from a copper ion and trimesic acids, the objective, has a chemically structural formula of [Cu3(C9H3O6)2]n as a basic unit and has substantially the main face interval d=7.60 Å substantially according to the powder X-ray diffraction.例文帳に追加

銅イオンとトリメシン酸類とから合成される錯体であって、[Cu_3(C_9H_3O_6)_2]_n を基本単位とする構造式を有し、かつ粉末X線回折におけるメインの面間隔dが実質的に7.60Åである多孔質錯体である。 - 特許庁

When the sludge is flocculated, a dehydrating agent prepared by dissolving a basic compound and an amphoteric polymer flocculant consisting of a polymer having a constitutional unit derived from a monomer (a) having a carboxy group and a constitutional unit derived from a monomer (b1) represented by formula (1) or a monomer (b2) represented by formula (2) in water, and certain inorganic salts are used.例文帳に追加

汚泥を凝集させる際、水に塩基性化合物およびカルボキシ基を有する単量体(a)に由来する構成単位と式(1)の単量体(b1)または式(2)の単量体(b2)に由来する構成単位とを有する重合体からなる両性高分子凝集剤を溶解させた脱水剤と、特定の無機塩を用いる。 - 特許庁

This hair-conditioning composition comprises (a) an alkylene oxide derivative represented by the following general formula (I), (b) a cationic surfactant, and (c) a protein (including derivatives and hydrolysis products) and/or a basic amino acid derivative.例文帳に追加

(a)下記一般式(I)で示されるアルキレンオキシド誘導体と、(b)カチオン性界面活性剤と、(c)蛋白質(誘導体及び加水分解物含む)及び/又は塩基性アミノ酸誘導体とを含有することを特徴とする毛髪コンディショニング組成物。 - 特許庁

A sulfonating agent is reacted with a triarylamine polymer expressed by formula (7) in a basic polar solvent, where in formula, Ar_1 represents a 6-20C aromatic group which may have a substitutent; m is an integer of 1 or more; Ar_5 represents a benzene ring optionally including a substituent selected from a halogen atom, alkyl, alkoxy, alkenyl, aryl, arylamine or heteroaryl group.例文帳に追加

式(7)(式中、Ar_1は置換基を有していてもよい炭素数6〜20の芳香族基を表し、mは1以上の整数であり、Ar_5はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アリールアミノ基またはヘテロアリール基から選ばれる置換基を有していてもよいベンゼン環を表す)で表されるトリアリールアミンポリマーに対し、スルホン化剤を塩基性極性溶媒中で反応させる。 - 特許庁

A calixresorcinarene compound and a compound having an acid-dissociable dissolution-inhibitive group are condensed using 1-3 basic organic compounds as condensing agents so as to synthesize a compound represented by formula (4), which is used in the photoresist composition with high sensitivity and high resolution.例文帳に追加

カリックスレゾルシナレン化合物と酸解離性溶解抑制基を有する化合物とを1〜3種の塩基性有機化合物を縮合剤として縮合し下記式(4)で表される化合物を合成し、これを高感度及び高解像度のフォトレジスト組成物に使用する。 - 特許庁

In a pattern formation method in which a photosensitive composition containing a photochromic compound showing photochromism by inserting modification groups into a basic skeleton with rings reversibly opening and closing by light and/or heat, the base skeleton has a structure represented by formula I, and the photosensitive composition is irradiated with a ring-opening wavelength light so that the substance migration of the photosensitive composition is performed.例文帳に追加

光及び/又は熱によって可逆的に開環−閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、基本骨格は、式I - 特許庁

This antifungal component contains a compound represented by formula (I) (wherein R^1 represents a nitrogen-containing heterocyclic group or a group having a basic substituent group, the structural part containing A represents a six-membered aromatic ring which may have 1-3 nitrogen atoms), its salts, or their hydrates.例文帳に追加

下記の式(I)で示される化合物、その塩、またはそれらの水和物(式中、R^1は含窒素複素環基または塩基性置換基を有する基を示し、Aを含む構造部分は、窒素原子を1〜3個有していてもよい6員の芳香環を示す)。 - 特許庁

The formula of a basic curve showing the relation between the age t and strength σ of the standard cured specimen is expressed by σ(t)=σ_p×f(t) (wherein, σ_p is the strength of the specimen at the day of standard cured age p and the intensity σ and the function f(t) are decided based on actual results).例文帳に追加

標準養生供試体の材齢tと強度σの関係を示す基本曲線式をσ(t)=σ_p×f(t)とし、σ_pは標準養生材齢p日の強度であり、その強度と関数f(t)は実績に基づいて定めておく。 - 特許庁

There are provided a sulfamoyl group-having imidazolium salt derivative which is represented by 1-decyl-3-(N, N-dimethylsulfamoyl)imidazolium chloride and has a basic skeleton of general formula (1); a method for producing the same; and the insecticidal-acaricidal agent containing the same as an active ingredient.例文帳に追加

1−デシル−3−(N,N−ジメチルスルファモイル)イミダゾリウムクロリドで代表される、一般式(1)の基本骨格を有するスルファモイル基を含むイミダゾリウム塩誘導体及び、それらの製造方法及びそれらを有効成分として含有する殺虫・殺ダニ剤。 - 特許庁

The method for producing the polyimide comprises reacting a diamine compound represented by formula 2 (wherein, X is a single bond or a divalent group) with a tetracarboxylic dianhydride in the presence of a basic compound, imidating the resultant reaction product to provide a carboxy group-containing polyimide, and reacting the carboxy group-containing polyimide with a glycidyl compound.例文帳に追加

その製造方法は、下記一般式(2)で表されるジアミン化合物を、塩基性化合物の存在下、テトラカルボン酸二無水物と反応させ、反応生成物をイミド化して得られるカルボキシル基含有ポリイミドを、グリシジル化合物と反応させる。 - 特許庁

This europium-activated cesium bromide phosphor is represented by basic compositional formula CsBr-aMX: zEu [wherein, M is K and/or Rb; X is Cl and/or Br; and a and z are each a numerical value within the range of 0.002≤a≤0.06 and 0<z<1.0].例文帳に追加

基本組成式 : CsBr・aMX:zEu[MはK及び/又はRbであり;XはCl及び/又はBrであり;そしてa及びzはそれぞれ、0.002≦a≦0.06、0<z<1.0の範囲内の数値]で表されるユーロピウム付活臭化セシウム系蛍光体。 - 特許庁

The heat-resistant polyamideimide resin is obtained by reacting (a) a polycarboxylic acid anhydride of trivalent or more and having an acid anhydride group and a carboxyl group, (b) 4,4'-(m-phenylene diisopropylidene) imido dicarboxylic acid expressed by formula (I) and (c) an aromatic polyisocyanate in a basic polar solvent.例文帳に追加

(a)酸無水物基及びカルボキシル基を有する3価以上のポリカルボン酸無水物、(b)式(I)で示される4,4′-(m-フェニレンジイソプロピリデン)イミドジカルボン酸及び(c)芳香族ポリイソシアネートを塩基性極性溶媒中で反応させて得られる耐熱性ポリアミドイミド系樹脂。 - 特許庁

The inhibitor of the ultraviolet-induced mutation contains one or more kinds of a chemical material having a monocyclic monoterpene basic skeleton represented by structural formula (1) and a chemical material having a linear monoterpene basic structure represented by structural formula (2) as active ingredients, especially one or more kinds of thymol, carvacrol, carvone, α-terpinene, limonene, eucalyptol, α-myrcene, geraniol and β-citronellol as active ingredients.例文帳に追加

下記構造式(1)で示される単環状モノテルペン基本骨格、または(2)で示される鎖状モノテルペン基本骨格を有する化学物質の1種、または2種以上を有効成分とする紫外線誘発突然変異抑制剤、特にチモール、カルバクロール、カルボン、α−テルピネン、リモネン、ユーカリトール、α−ミルセン、ゲラニオール、β−シトロネロールチモール、カルバクロール、カルボン、α−テルピネンの1種、または2種以上を有効成分とする紫外線誘発突然変異抑制剤、及びこれら紫外線誘発突然変異抑制剤を含有する紫外線誘発突然変異抑制用皮膚外用剤。 - 特許庁

This photosensitive resin composition includes: a polymer precursor the reaction of which to a final product is accelerated by a basic substance or by heating in the presence of a basic substance; a secondary amine expressed by formula (1), and having an NH group formable of an amide bond; and/or a photo-latent resin curing accelerator generated by heating and electromagnetic wave irradiation applied to a heterocyclic compound.例文帳に追加

塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体、及び、下記式(1)で表わされ且つアミド結合を形成可能なNH基を1つ有する2級アミン及び/又は複素環式化合物を電磁波の照射と加熱により発生する光潜在性樹脂硬化促進剤を含有する、感光性樹脂組成物である。 - 特許庁

This method comprises comprises together reacting p-methoxyphenylacetonitrile and cyclohexanone in the presence of a mixed solvent of an aqueous solution of a basic substance and a water-soluble alcohol, while stirring, so as to obtain solid particles, and then filtering the obtained particles, so as to obtain the 1-[cyano(p-methoxyphenyl)ethyl]cyclohexanol expressed by formula 1.例文帳に追加

塩基性物質の水溶液と水溶性アルコールの混合溶媒の存在下でp−メトキシフェニルアセトニトリルとシクロヘキサノンを攪拌しながら反応させて固体粒子を得、次いで、得られた固体粒子を濾過し、下記式1で表される1−[シアノ−(p−メトキシフェニル)エチル]シクロヘキサノールを得る。 - 特許庁

In a search system for optimizing the number of hits of electronic articles, if a user selects an article for which he desires to retrieve related articles, a search formula is automatically generated by dynamically changing it so that the number of hits will be most close to the basic number of cases of search, and the related articles are displayed.例文帳に追加

利用者が関連記事を検索したい記事を選択すると、基準検索件数に最も近いヒット件数となるような検索式を動的に変化させながら自動的に生成し、関連記事を表示することを特徴とする電子記事のヒット件数最適化検索システム。 - 特許庁

This electrophotographic photoreceptor including an electroconductive supporting body and a single layer type photoreceptor layer is provided with that in the single layer type photoreceptor layer, the aromatic polycarbonate containing a constituting unit (1) derived from a compound having an asymmetric bishydroxyenamine basic backbone expressed by general formula (1) is incorporated.例文帳に追加

導電性支持体と単層型感光層とを含む電子写真感光体において、単層型感光層に、一般式で表される非対称ビスヒドロキシエナミン基本骨格を有する化合物から誘導される構成単位(1)を含む芳香族ポリカーボネートを含有させる。 - 特許庁

The blue light-emitting fluorescent substance is prepared by covering particles of the blue light-emitting substance expressed by a basic compositional formula, CaMgSi_2O_6:Eu^2+ with a membrane comprising an aluminum-containing oxide in an amount ranging 4-18 pts.mass based on 100 pts.mass particles of the blue light-emitting substance.例文帳に追加

基本組成式がCaMgSi_2O_6:Eu^2+で表される青色発光蛍光体粒子を、青色発光蛍光体粒子100質量部に対して4〜18質量部の範囲となる量のアルミニウム含有酸化物からなる被膜にて被覆してなる青色発光蛍光体。 - 特許庁

The proton conductor contains a SO_4 group and/or an OH group in a crystal structure and includes a basic sulfate compound expressed in chemical formula Mnxn(SO_4)y(OH)z (wherein, Mn is at least one metal element, n is an integer, Σxn≥1, y≥1, z≥1).例文帳に追加

プロトン伝導体は、結晶構造中にSO_4基及び/又はOH基を有し、化学式Mnxn(SO_4)y(OH)z (式中、Mnは、1種以上の金属元素、nは自然数、Σxn≧1、y≧1、z≧1) で示される塩基性硫酸塩化合物を含む。 - 特許庁

A chromene compound has an indeno(2,1-f)naphtho(1,2-b)pyran structure as a basic skeleton as a compound represented by the formula and a substituent having an absolute Hammett σ_p value of ≥0.01 such as a methyl group on the 8th-position carbon atom of the indeno(2,1-f)naphtho(1,2-b)pyran structure.例文帳に追加

下記式で示される化合物のように、インデノ(2,1−f)ナフト(1,2−b)ピラン構造を基本骨格として有し、該インデノ(2,1−f)ナフト(1,2−b)ピラン構造の8位の炭素原子にメトキシ基等のHammett数σ_pの絶対値が0.01以上の置換基を有するクロメン化合物。 - 特許庁

In this organic electroluminescence element for arranging an organic layer, having a light-emitting area between an anode and a cathode, the organic electroluminescence element includes a compound, having a basic structure represented by chemical formula 3 in the organic layer as a light- emitting material.例文帳に追加

発光領域を有する有機層が陽極と陰極との間に設けられている有機電界発光素子において、前記有機層に下記化学式3で表される基本構造を有する化合物が発光材料として含まれていることを特徴とする有機電界発光素子。 - 特許庁

例文

The electrical insulation film-forming composition comprises the polymer obtained by co-condensation between (A) at least one silane monomer of the general formula(1), (B) a hydrolysable group-containing silane monomer and (C) a hydrolysable group-containing carbosilane in the presence of a basic catalyst and an organic solvent.例文帳に追加

絶縁膜形成用組成物は、(A)下記一般式(1)で表される少なくとも1種のシランモノマーと、(B)加水分解性基含有シランモノマーと、(C)加水分解性基含有カルボシランとを、塩基性触媒の存在下で共縮合することによって得られたポリマーと、有機溶剤と、を含有する。 - 特許庁




  
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