「capacitance method」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a production method of a probe drive mechanism with reduced parasitic capacitance generating between a cantilever and a supporting body.例文帳に追加

カンチレバーと支持体との間で発生する寄生容量を低減した探針駆動機構の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a capacitor and a method for manufacturing a semiconductor device capable of increasing the capacitance of a capacitor and reducing the number of processes.例文帳に追加

キャパシタ容量を増大させるとともに工程数を抑制することが可能なキャパシタの形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

By reducing the parasitic capacitance of the sub-bit line and increasing the off resistance of a cell transistor as necessary in the divisional bit method, the capacitance of a capacitor can be set to 1/10 of a normal DRAM or less.例文帳に追加

分割ビット方式でサブビット線の寄生容量が低減し、かつ、セルトランジスタのオフ抵抗を必要に応じて高いものとすることによって、キャパシタの容量を通常のＤＲＡＭの１／１０以下とすることができる。 - 特許庁

To prevent corrosive disconnection of an auxiliary capacitance line in a consecutive pixel etching step in a manufacturing method of an electrooptical element using a corrosive metal such as Al or an Al alloy as the auxiliary capacitance line.例文帳に追加

ＡｌあるいはＡｌ合金など腐食しやすい金属を補助容量配線に用いた電気光学素子の製造方法において、後続画素エッチング工程における補助容量配線の腐食断線を防止する。 - 特許庁

To prevent corrosion disconnection of auxiliary capacitance wiring in the succeeding pixel etching process in the manufacturing method of an electro-optical element in which a metal which tends to corrode, such as Al or Al alloy, is used as auxiliary capacitance wiring.例文帳に追加

ＡｌあるいはＡｌ合金など腐食しやすい金属を補助容量配線に用いた電気光学素子の製造方法において、後続画素エッチング工程における補助容量配線の腐食断線を防止する。 - 特許庁

To provide the film formation method of a capacitance insulating film forming a capacitance element with good characteristics without causing lowering of production efficiency and a cost increase in a batch type vertical CVD device.例文帳に追加

バッチ式縦型ＣＶＤ装置において、生産効率の低下、及び、コストアップを引き起こすことなく、良好な特性を有する容量素子を形成する容量絶縁膜の成膜方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing printed wiring board in which a capacitor and an inductor element are formed in a printed wiring board in the manufacturing process of the wiring board, and by which the accuracy of the capacitance of the capacitor can be improved and the fluctuation of the capacitance can be reduced.例文帳に追加

製造工程内にてキャパシタ及びインダクタ素子を作り込むプリント配線板の製造方法で、キャパシタの容量の精度、バラツキを向上させるプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a calculation method of interconnect capacitance by which the interconnect capacitance of a wiring pattern including oblique wiring, whose layout has been prepared, is correctly obtained at high speed, and to provide a design support device of the wiring pattern.例文帳に追加

レイアウトの作成がされた斜め配線を含む配線パターンの配線間容量を正確、且つ、高速に求める配線間容量の算出方法および配線パターンの設計支援装置を提供する。 - 特許庁

In the method for measuring the capacitance of a depletion layer on the major surface of a wafer, capacitance of the depletion layer is measured while interposing a dielectric between major rear surface of the wafer and a rear surface electrode for mounting the wafer.例文帳に追加

ウェーハ主表面の空乏層容量を測定する方法であって、ウェーハの主裏面と該ウェーハを載置する裏面電極の間に誘電体を介在させた状態で空乏層容量を測定するようにした。 - 特許庁

To provide a printed board with built-in capacitor providing a capacitance having a high capacity by forming a long-sized built-in capacitor in an insulating layer and being capable of freely designing the capacity of the capacitance, and to provide a manufacturing method for the printed board.例文帳に追加

絶縁層内に長い内蔵型キャパシタを形成して高容量のキャパシタンスを提供し、キャパシタンスの容量が自由に設計可能なキャパシタ内蔵型プリント基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method and device has a capacitance monitoring circuit 118 for monitoring capacitance between a wafer substrate 130 and one of electrodes 112, 114 or between a plurality of electrodes of a chuck 100.例文帳に追加

該方法及び装置は、ウエハ基板１３０と１つの電極１１２，１１４との間、或いはチャック１００の複数の電極間の静電容量を監視するための静電容量監視回路１１８を有している。 - 特許庁

To provide a semiconductor device equipped with a capacitor capable of ensuring sufficient capacitance even if it is microfabricated, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

微細化されても、十分な容量を確保できるキャパシタを備えた半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method, which can attempt an occupied area of an MIM capacitance element to reduce.例文帳に追加

ＭＩＭ容量素子の占有面積の縮小を図ることができる、半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method, with which parasitic capacitance between a collector and a base can be suppressed optimally.例文帳に追加

コレクタ−ベース間の寄生容量を好適に抑制することのできる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of stably manufacturing a ferroelectric capacitance element in which a coverage defect is not generated when a contact hole is formed.例文帳に追加

コンタクト孔形成時にカバレッジ不良の発生のない、強誘電体容量素子の安定な製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a measuring method capable of measuring efficiently the output and capacitance of a resonance type vibration detection sensor.例文帳に追加

共振型振動検知センサの出力及び静電容量を効率よく測定できる装置及び測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that contributes reduction in output capacitance Coss through reduction in Cdsub and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

Ｃdsubの低減化を通じて、出力容量Ｃossの低減化に寄与する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a nonaqueous electrolyte secondary battery and a positive electrode having a high capacitance and superior cycle characteristics.例文帳に追加

高い容量および良好なサイクル特性を有する非水電解質二次電池および正極の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for designing the wiring structure of an LSI in which the wiring capacitance C and the wiring delay RC can be reduced.例文帳に追加

配線容量Ｃ及び配線遅延ＲＣの低減の可能なＬＳＩの配線構造の設計方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electronic device capable of reducing inter-wiring capacitance, and reducing wiring resistance and realizing high reliability.例文帳に追加

配線間容量の低減、配線抵抗の低減及び高信頼性を実現できる電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

By changing the states, further the method allows an output capacitance of the first switch from the condenser to be more rapidly charged.例文帳に追加

さらにこの方法は状態を遷移させ、コンデンサからの第１のスイッチの出力キャパシタンスのより速い帯電を可能にする。 - 特許庁

To provide a method of preparing sample for a scanning probe microscope applicable to SCM (Scanning Capacitance Microscope) measurement and SSRM (Scanning Spreading Resistance Microscope) measurement.例文帳に追加

ＳＣＭ測定及びＳＳＲＭ測定に適用できる走査型プローブ顕微鏡用試料の作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an air gap under the end of a gate electrode to reduce the parasitic overlap capacitance of a gate end.例文帳に追加

ゲート端部の寄生オーバーラップキャパシタンスを下げるために、ゲート電極の端部の下にエアギャップを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recess transistor reducing gate capacitance and improving the switching speed of an element, and provide its manufacturing method.例文帳に追加

ゲートキャパシタンスを低減し、素子のスイッチング速度を向上させることのできるリセストランジスタ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for adding decoupling capacitance which is installed within an integrated circuit between two-dimensional design stages of the integrated circuit.例文帳に追加

集積回路の平面設計段階の間に、集積回路内にデカップリング・キャパシタンスを加えるための方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a strained SOI structure having a small parasitic capacitance and high carrier mobility, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

小さい寄生容量及び高いキャリア移動度を有するストレインＳＯＩ構造体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device having a metal oxide film having a large capacitance and a small leakage current.例文帳に追加

大きな容量値と小さなリーク電流を有する金属酸化膜を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solid-state electrolytic capacitor having large capacitance, low equivalent series resistance and small dielectric loss, and its manufacturing method.例文帳に追加

大容量で、等価直列抵抗が低く、誘電損失の小さい固体電解コンデンサとその製造方法を提供する。 - 特許庁

TRANSPARENT ELECTRODE SHEET, METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT ELECTRODE SHEET, AND CAPACITANCE TYPE TOUCH PANEL USING THE SAME TRANSPARENT ELECTRODE SHEET例文帳に追加

透明電極シート、透明電極シートの製造方法、及びこれらの透明電極シートを用いた静電容量方式のタッチパネル - 特許庁

To provide a solid electrolytic capacitor improved in capacitance by improving an electric resistance characteristic; and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

電気抵抗特性を改善し、静電容量が向上した固体電解コンデンサ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin-film capacitor whose capacitance increase is attempted, while migration development is controlled, as well as to provide its manufacturing method.例文帳に追加

マイグレーションの発生を抑制しつつ、静電容量の増大が図られた薄膜コンデンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND CIRCUIT FOR DETECTING DISPLACEMENT USING MICRO-ELECTROMECHANICAL SENSOR WITH COMPENSATION OF PARASITIC CAPACITANCE AND SPURIOUS DISPLACEMENT例文帳に追加

寄生容量およびスプリアス変位の補償を伴うマイクロ・エレクトロ・メカニカル・センサを使用して変位を検出する方法および回路 - 特許庁

To provide a thin film capacitor that can obtain a more large electrostatic capacitance even when the capacitor has a small size, and to provide a method of manufacturing the capacitor.例文帳に追加

小寸法であってもより大きな静電容量が得られる薄膜コンデンサと、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can be improved in anti-moisture property without increasing the parasitic capacitance, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

寄生容量を増大させることなく、耐湿性を向上させることができる半導体装置及びその製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a method of efficiently increasing the capacitance by preventing the influence by the outgassing from an interlayer film in a HSG process.例文帳に追加

HSGプロセスにおいて層間膜からのアウトガスの影響を防止し効果的にキャパシタンス容量を増加させる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film capacitor element in which a capacitance value is highly precise and of which the quality can easily be enhanced, and to provide a method therefor.例文帳に追加

容量値の精度が高く品質も向上させやすい薄膜キャパシタ素子と、その製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a ferroelectric capacitor having a capacitance insulating film indicating high remanent polarization density, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

高い残留分極密度を示す容量絶縁膜を有する強誘電体キャパシタとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solid electrolytic capacitor having little variation in capacitance and impedance characteristics, and a method of manufacturing it.例文帳に追加

静電容量とインピーダンス特性のバラツキの少ない固体電解コンデンサおよびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide foil for a cathode of a capacitor which can secure both high static capacitance and high strength, and its manufacturing method.例文帳に追加

高い静電容量と高い強度をともに確保することが可能なコンデンサ陰極用箔とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solid electrolytic capacitor which has large capacitance and low ESR with high reliability, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

静電容量が大きく、かつ、ＥＳＲが低く信頼性の高い固体電解コンデンサおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the structure of a semiconductor device that can reduce the parasitic capacitance between electrodes or wiring layers, and its manufacturing method.例文帳に追加

電極或いは配線層間の寄生容量を低減しうる半導体装置の構造及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a manufacturing method of the same which reduce capacitance between a gate electrode and a field plate electrode.例文帳に追加

ゲート電極とフィールドプレート電極間の容量を低減させた半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING CAPACITOR HAVING IMPROVED STRUCTURAL STABILITY AND IMPROVED CAPACITANCE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

改善された構造的安定性及び向上されたキャパシタンスを有するキャパシタを含む半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

To provide a nonvolatile semiconductor memory device with capacitance reduced between its floating gate electrodes, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

浮遊ゲート電極間の電気容量を小さくした不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method whereby the inter-wiring capacitance can be reduced, even if the microminiaturization of wirings is advanced.例文帳に追加

配線の微細化が進んでも配線間容量を低減できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁