「developing-solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a developing roller excellent in set performance and having high uniform conductivity by improving dispersibility and stability in resin solution for coating film to which carbon black is added and forming a resin layer concurrently having a low elastic modulus and high conductivity at the time of coating film.例文帳に追加

カーボンブラックの添加された被膜用樹脂溶液における分散性と安定性を改善し、被膜時に低い弾性率と高い導電性を併せ持つ樹脂層を形成し、セット性能に優れ、均一な高い導電性を有する現像ローラを提供することにある。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定混合溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified dissolution inhibiting compound.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定の溶解阻止化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and an organic solvent which dissolves the above components.例文帳に追加

特定の構造の繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物および上記成分を溶解する有機溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a compound which generates a sulfonic acid of formula (X) when irradiated with active light or radiation and a resin having a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により式（Ｘ）のスルホン酸を発生する化合物と、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂とを含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified acid decomposable group and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の酸分解性基を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

Moreover, after forming the barrier rib by coating a solution obtained by dispersing only barrier rib resin over the entire surface of the substrate including the flaw part while correcting the alignment positions of the substrate and a reticle, exposing the coated surface again in a barrier rib pattern shape at the same position, and developing the substrate again, the barrier rib flaw part is repaired by thermally curing the barrier rib.例文帳に追加

また、欠陥部を含む基板全面に亘り、隔壁樹脂のみを分散させた溶液を塗布し、基板とレチクルとをアライメント位置補正し、同位置で隔壁パターン状に再露光、再現像し、隔壁を形成した後、隔壁を熱硬化することで隔壁欠陥部を修復する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is highly sensitive with respect to light having wavelength of 350 nm to 410 nm and excellent in terms of resolution, adhesion and developing property after exposure and has a good solubility with respect to solution and with which a stable throughput can be obtained and deposit on resist hardly occurs.例文帳に追加

波長３５０ｎｍ〜４１０ｎｍの光線に対して非常に高感度であり、解像性、密着性、露光後の焼き出し性に優れるとともに、安定したスループットが得られ、更に溶剤に対する溶解性が良好で、レジストに析出物が発生し難い感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photocatalyst coated object capable of developing high-degree photocatalytic decomposition activity and hydrophilic self-cleaning capacity even in a case that a photocatalyst layer is applied to the surface of a base material in a thickness of above 2 μm so as to suppress the deterioration of an enamel coating surface or clear coating surface, and a photocatalyst coating solution.例文帳に追加

エナメル塗装面やクリア塗装面の劣化を抑制するように２μｍをこえる厚膜で塗膜する場合でも高度な光触媒分解活性および親水セルフクリーニング性能を発揮することの可能な光触媒塗装体および光触媒コーティング液を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition having a low dielectric constant, high transparency, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, excellent adhesion to a base, and the like, the composition which is useful for forming a patterned organic film obtained by developing with an alkali aqueous solution.例文帳に追加

低誘電率であり、さらに高透明性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた有機膜の形成に有用なポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of preparing a lithographic printing plate which includes a simple, one-solution and one-step process, which does not require a water washing step, exhibits good developing property without leaving residues of a photosensitive layer in a non-image area and allows the lithographic printing plate to have good printing durability and excellent stainproof property in the non-image area.例文帳に追加

水洗工程を必要としない1液1工程の簡易処理が可能で、非画像部に感光層の残存がない良好な現像性を示し、しかも、良好な耐刷性を有し非画像部の汚れ防止性に優れた平版印刷版を与える平版印刷版の作製方法を提供する。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains: a resin having a plurality of specified lactone monomer units as constitutional units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定のラクトンモノマー単位の複数種を構成単位として有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

A positive resist composition comprises: (A) a resin which comprises all of repeating units represented by general formulae (I) to (III) and is rendered soluble in an alkali developing solution through the action of acid; and (B) a compound which generates acid upon exposure to an actinic radiation or a radiation.例文帳に追加

（Ａ)一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される各繰り返し単位を全て含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂および（Ｂ)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a resin for resist-protective film, high in water resistance, forming uniform coating film on a photoresist resin layer and also undergoing dissolving treatment with an alkaline developing solution, and to provide a method for producing a semiconductor using the above protective film.例文帳に追加

本発明の目的は、耐水性に優れ、フォトレジスト樹脂層に均一な塗膜形成が可能であり、さらにアルカリ現像液で溶解処理が可能であるレジスト保護膜用樹脂の製造方法及びその保護膜を使用した半導体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The radiation sensitive resist composition contains (A) a resin containing Si atoms and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a photo-acid generating agent, (C) a solvent and (D) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する、シリコン原子を含有する樹脂、(Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

The method of patterning the converted film comprises a step for laying a pattern mask in the presence of air over the ordinal pressure on a surface of polysilazan applied to a base surface, exposing it to short-wavelength UV rays having wavelengths of 100-280 nm, and dissolving and removing unexposed portions by an developing solution.例文帳に追加

該転化膜をパタ−ン化する方法は、基体面に塗膜されたポリシラザン面に、常圧以上の空気の存在下でパタ−ンマスクを載置し、これに１００〜２８０ｎｍの波長を有する短波長紫外線を露光して後、未露光部分を現像溶剤にて溶解除去すること。 - 特許庁

To realize the manufacture of an original sleeve printing plate with high suitability for printing by virtue of high precision thickness and ideal surface smoothness for printing and achieve enhanced workability, resources saving and environments maintainability due to a negative film making process and a developing solution process being no longer necessary, although conventionally required thus far.例文帳に追加

高精度な厚みと印刷に好適な表面平滑性による印刷適正が高いスリーブ印刷原版を製造することができ、従来のネガフィルム作製工程や溶液現像液工程を不要とすることによる作業性の向上、省資源化及び環境保全を図る。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin containing a fluorine atom and having a group which is decomposed by the effect of a specified acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and a compound (B) which generates an acid by irradiation with active rays or radiation.例文帳に追加

特定の酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を増大させる基を有し、フッ素原子を含有する樹脂（Ａ）及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

Each of the positive type photoresist compositions contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

HYDROXYLAMINE BASED COPOLYMER, COLOR-DEVELOPING DEVELOPER FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE MATERIAL USING THE SAME, METHOD FOR TREATING SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE MATERIAL, POLYMERIZATION INHIBITOR, ACID DETERGENT FOR METAL, ELECTROLYTIC ZINC PLATING SOLUTION, DEOXIDIZER, ANTIDETERIORANT FOR RUBBER AND COLOR CHANGE INHIBITOR FOR CLOTHING例文帳に追加

ヒドロキシルアミン系共重合体、それを用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像液、ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法、重合防止剤、金属用酸洗浄剤、電解亜鉛メッキ液、脱酸素剤、ゴム劣化防止剤及び衣類の変褪色防止剤 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active rays or radiation, a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a specified mixed solvent.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び特定の混合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) resin containing repeating units represented by a specified structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of acid and (B) a compound which generates acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表される繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains: a blend of two or more resins each having a specified lactone monomer unit and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定のラクトンモノマー単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂の２種以上のブレンドと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

After a developing solution is sprayed by a spray means, spray nozzles 71 are turned upwards above a horizontal line by a turning means 73, and in this state, the one end of a spray pipe 70 is moved upwards through the intermediary of an engaging rod 721 by the rotation of a circular cam 722 as a sloping means.例文帳に追加

スプレー手段７による現像液噴射が終了した後、回動手段７３によりスプレーノズル７１１を水平線より上方に回動させ、その状態でスプレーパイプ７０の一端を傾斜手段の円形カム７２２の回転により係止棒７２１を介して上方に持ち上げる。 - 特許庁

To provide a color developing solution for a silver halide color sensitive material whose resistance to the variation of the concentration in the plane caused by unevenness in development is suppressed in development treatment for a large-sized silver halide color sensitive material, and also to provide a method for processing a silver halide color sensitive material.例文帳に追加

本発明の目的は、大判サイズのハロゲン化銀カラー感光材料の現像処理において、現像ムラに起因する面内濃度ばらつき耐性が改良されたハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像液とハロゲン化銀カラー感光材料の処理方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an image forming method for a silver halide photographic sensitive material by which high sensitivity and high contrast are ensured, to provide a silver halide photographic sensitive material having stable photographic properties even when the amount of a developing solution replenished is reduced and excellent in storage stability, and to provide a processing system for the material.例文帳に追加

高感度かつ高コントラストであるハロゲン化銀写真感光材料の画像形成方法、及び現像液の補充量を低減させた場合にも写真性が安定であり、また、保存安定性に優れたハロゲン化銀写真感光材料及びその処理システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a ferric sulfate solution to improve the operability without developing a slurried state during the production process, with no concern about the wear of the production apparatus and pressure loss and cloggings, etc., inside the pipings, and conduct the oxidation reaction in a considerably short time compared to the conventional case.例文帳に追加

製造工程中でスラリー状態を生じることなく、操作性の向上を図り、また装置の摩耗、配管内の圧損、目詰まり等のおそれがなく、また酸化反応も従来よりもかなり短時間ですむ、硫酸第２鉄溶液を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin which includes a specific repeating constitutional unit and whose dissolution rate in an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid and a compound which generates the acid by irradiation with active rays or radiations and patterns are formed by using the positive photoresist composition.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of achieving excellent compatibility when forming a dry film and excellent resolution and close adhesion property, showing equal sensitivity when exposed to light of exposure machines of both types of i-line and h-line, and developing by an alkaline aqueous solution without generating condensate during development.例文帳に追加

ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、ｉ線、ｈ線の両方タイプの露光機した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像可能であり、かつ現像時に凝集物を発生しない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin-containing specified silicon-containing repeating units and having solubility with respect to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an acid generating agent which generates acid, when it is irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition useful for forming a patterned resin film which has high transparency, a low dielectric constant, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, and excellent adhesiveness with a substrate and which is obtained by developing with an alkali aqueous solution.例文帳に追加

高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The developing solution contains at least one alkali agent selected from (A) phosphoric acid-base alkali agents, (B) silicic acid-base alkali agents, (C) carbonic acid-base alkali agents, (D) boric acid-base alkali agents, (E) amine-base alkali agents and (F) ammonium-base alkali agents and an alkylnaphthalene-base surfactant.例文帳に追加

（Ａ）リン酸系アルカリ剤、（Ｂ）ケイ酸系アルカリ剤、（Ｃ）炭酸系アルカリ剤、（Ｄ）硼酸系アルカリ剤、（Ｅ）アミン系アルカリ剤、および（Ｆ）アンモニウム系アルカリ剤より選択される少なくとも一種のアルカリ剤と、アルキルナフタレン系界面活性剤とを含むことを特徴とする現像液である。 - 特許庁

Then the insulating layer 4 is exposed to an exposure light beam 6 through a photomask 5, baking processing is carried out after the exposure, and then development is carried out for an arbitrary development time by using an arbitrary developing solution to form the insulating pattern which is sectioned in the forward tapered shape or trailing shape.例文帳に追加

その後、フォトマスク５を介して露光光線６により絶縁層４の露光を行い、露光後ベーク処理を施した後、任意の現像液と現像時間で現像することにより順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成することができる。 - 特許庁

To improve the throughput of a photographic processing device by shortening standby time without increasing power consumption in a photographic printing and developing machine (photographic processing device) equipped with a drying part 12 which dries photographic paper processed with processing solution while conveying it along a predetermined conveyance path.例文帳に追加

処理液によって処理された印画紙を、所定の搬送路に沿って搬送しながら乾燥させる乾燥部１２を備えた写真焼付現像機（写真処理装置）において、消費電力を増大させることなく待機時間を短縮して、写真処理装置の処理能力を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for producing a planographic printing plate in which an alkali developing solution of a relatively low pH favorable to the environment and safety is used, a non-image area stably has good developability and is free of stain in printing and an image area is hardly damaged by development and ensures high image strength.例文帳に追加

環境、安全上好ましい比較的低ｐＨのアルカリ現像液を用い、安定的に、非画像部は良好な現像性を有し、印刷での汚れがなく、かつ画像部に対して現像でのダメージが少なく強固な画像強度が得られる平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

Then, the rinse liquid is supplied on the substrate 100 by with the rinse liquid discharging nozzle 12, while moving the developing solution discharging nozzle 11 together with the rinse liquid discharging nozzle 16 from the position in one side out of the substrate 100 to the position in the other side out of the substrate 100, passing over the substrate 100.例文帳に追加

その後、現像液吐出ノズル１１をリンス液吐出ノズル１２とともに基板１００外の一方側の位置から基板１００上を通過して基板１００外の他方側の位置へ移動させつつリンス液吐出ノズル１６によりリンス液を基板１００上に供給する。 - 特許庁

To provide a positive lithographic printing plate material which excels in sensitivity and developability (image forming ability and development start time) even in development processing with a developing solution of low pH, therefore excels also in work efficiency, safety and environmental fitness.例文帳に追加

本発明の目的は、低ｐＨの現像液での現像処理でも、感度、現像性（画像形成能力、現像開始時間）に優れた、従って、作業性、安全性、環境適性にも優れた、ポジ型平版印刷版材料およびポジ型平版印刷版の画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of producing a master plate for planographic printing plate which can utilize the conventional processing unit and printer as they are, attains direct plate making from digital information of a computer or the like and has a photosensitive layer capable of forming a wholly uniform image and having a wide electric conductivity latitude of a developing solution.例文帳に追加

従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用でき、コンピューター等のデジタル情報から直接製版可能であり、全体に均一な画像を形成し得る、現像液の電導度ラチチュードが広い感光層を有する平版印刷版原版の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition having a small dielectric constant, excellent in pattern accuracy and adhesiveness to a substrate, capable of developing with water or a diluted alkaline solution, and suitable for forming a printed circuit board, a solder resist for IC package or a interlayer dielectric layer or the like, and a photosensitive film using the resin composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

To provide a heat-developable photosensitive material capable of forming an image by a simple environmentally-benign developing system without using solution type processing chemicals, excellent in decolorability after development and giving a high resolution clear black image and to provide an imaging method using the material.例文帳に追加

溶液系処理化学薬品を使用せずに、簡便で環境を損なわない現像処理システムにより画像形成でき、且つ現像処理後の消色性に優れ、解像度の高い鮮明な黒色画像を示す熱現像感光材料及びこれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit, specified molecular weight and a protection rate and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造単位を有し、特定の分子量・保護率を持つ、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a fluoropolymer capable of producing a coating composition having excellent properties in adhesiveness of a coating solution to a substrate and homogeneous coatability upon a coating process, recoating ability, developing ability and other after-coating characteristics of a film after a coating process, and foaming ability of a coating composition.例文帳に追加

塗工時における塗布液の基材に対する濡れ性及び均質塗工性、塗工後の被膜のリコート性、現像性等の後工程適性、塗布液の起泡性においていずれも優れた性質を示すコーティング組成物を与えるフッ素系ポリマーを提供すること。 - 特許庁

The alkali developing solution for a color photosensitive composition contains: (A) a nonionic surfactant containing (A-1) polyoxyalkylene monostyrylphenylether and (A-2) polyoxyalkylene distyrylphenylether, in a mass ratio [(A-1)/{(A-1)+(A-2)}] of 0.2 to 0.9; and (B) a basic composition containing (B-1) potassium hydroxide.例文帳に追加

(A-1)ポリオキシアルキレンモノスチリルフェニルエーテルと、(A-2)ポリオキシアルキレンジスチリルフェニルエーテルとを、質量比［（A-1)／〔(A-1)＋(A-2)〕］が０．２から０．９の範囲で含む（Ａ）非イオン性界面活性剤、及び、(B-1)水酸化カリウムを含む（Ｂ）塩基性組成物、を含有する着色感光性組成物用アルカリ現像液。 - 特許庁

The chemically amplified resist composition contains: (A) a resin which has a specified structure and which is decomposed by the effect of an acid to increase its solubility with an alkaline developing solution; (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) a component having a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定構造を有する成分、を含有する化学増幅型レジスト組成物により達成される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and developing solution resistance, from which an interlayer insulating film excellent in solvent resistance, heat resistance and transparency can be formed, and to provide an interlayer insulating film formed of the radiation-sensitive resin composition and a method for forming the interlayer insulating film.例文帳に追加

耐溶媒性、耐熱性及び透明性に優れた層間絶縁膜を形成可能であり、かつ感度及び耐現像液性に優れた感放射線性樹脂組成物、この感放射線性樹脂組成物から形成される層間絶縁膜並びに層間絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁