「developing-solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

Each of the radiation sensitive resist compositions contains a resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent, a solvent and a specified alicyclic or aromatic compound.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が変化する樹脂、光酸発生剤、溶剤、及び、特定の脂環式又は芳香環式化合物を含有してなることを特徴とする感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

A liquid including the test material, an aqueous developing solution capable of dissolving the water-soluble salt of the benzidine derivative, and a liquid including an enzyme marker carrier are dropped and developed on the inspection piece for the enzyme immuno-chromatograph, to detect the test material.例文帳に追加

酵素免疫クロマトグラフ用検査片上に、被検物質を含有する液、ベンジジン誘導体の水溶性塩を溶解しうる水性展開液、酵素標識担体含有液を滴下、展開し、被検物質を検出する。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and an N,N-dialkylcarboxylic acid amide.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及びＮ，Ｎ−ジアルキルカルボン酸アミドを含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

A coating/developing system 1 includes a positioning apparatus 42 for adjusting a center position of a wafer W, a coating apparatus for coating an upper surface of the wafer W with a polyimide solution, and a wafer transfer apparatus 80 for transferring the wafer W.例文帳に追加

塗布現像処理システム１は、ウェハＷの中心位置を調節する位置調節装置４２と、ウェハＷ上にポリイミド溶液を塗布する塗布処理装置と、ウェハＷを搬送するウェハ搬送装置８０と、を有している。 - 特許庁

This resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 excimer laser light 13 having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed with a developing solution to form the objective resist pattern 14.例文帳に追加

レジスト膜１１に対してマスク１２を介して、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2 エキシマレーザ１３を照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像液により現像してレジストパターン１４を形成する - 特許庁

This resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 excimer laser light 13 having 157 nm wavelength through a mask 12 and the patternwise exposed resist film 11 is developed with a developing solution to form the objective resist pattern 14.例文帳に追加

レジスト膜１１に対してマスク１２を介して、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2 エキシマレーザ１３を照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像液により現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an information recording medium at a low cost through a simple process without using a developing solution or the like or using an expensive and large-scale device, and to provide the information recording medium.例文帳に追加

現像液等を使用することなく、また、高価で大掛かりな装置を使用することなく、簡単なプロセスで安価に製造することが可能な情報記録媒体の製造方法及びその情報記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a negative lithographic printing plate developable by use of a developing solution having a pH of 5 to 8, by which the elution property in a non-image part and the plate wear of an image part can be both achieved.例文帳に追加

ｐＨが５〜８の現像液を用いて現像可能な平版印刷版の製造方法において、非画像部の溶出性と画像部の耐刷性を両立することが可能なネガ型平版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition containing nanoparticles excelling in dispersibility in both resin and a developing solution and having excellent transmissivity and patterning property, and to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

樹脂中及び現像液中の双方でナノ粒子の分散性が良く、透過率、パターニング性に優れるナノ粒子を含有した感光性樹脂組成物及び、それを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, the developer 16A accompanied by the photosensitive web 12 never contacts with the fixing solution 20A, and a defect such as bleeding or burr at the silver line edge part of the conductive material by local runaway of developing can be suppressed.例文帳に追加

このため、感光ウエブ１２に同伴した現像液１６Ａが定着液２０Ａに接触することがなく、現像の局部暴走による導電性材料の銀線エッジ部のにじみ、ギザギザ等の欠陥の発生を抑制することができる。 - 特許庁

To produce a composition for the underlayer film of a resist excellent in the reproducibility and resolution of a resist pattern when the composition is kept warm over a long period of time and excellent also in adhesion to the resist and resistance to a developing solution used after the exposure of the resist.例文帳に追加

組成物を長期保温した場合のレジストパターンの再現性や解像度に優れ、レジストとの密着性に優れ、レジストを露光した後に使用する現像液に対する耐性に優れたレジスト下層膜用組成物に関する。 - 特許庁

To provide a a photosensitive resin composition for a flexographic plate which can be developed with water without adding additives such as a surfactant and alkaline metal salt into a developing solution, provides good image reproducibility, and can form particularly fine images.例文帳に追加

現像液中に界面活性剤やアルカリ金属塩などの添加剤を加えることなく水現像でき、画像再現性の良好な、特に微細な画像を形成することができるフレキソ版用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The resist pattern 3 and the coating layer 4 are heat treated to form a modified layer 5 insoluble with a developing solution on the surface of the resist pattern 3, and then developed to obtain a pattern having the modified layer 5 on the resist pattern surface.例文帳に追加

レジストパターン３及び被覆層４を加熱処理することにより、レジストパターン３の表面に現像液不溶性の変性層５を形成し、現像することによりレジストパターン表面に変性層５を有するパターンを得る。 - 特許庁

When the resist film 102 is developed with an alkaline developing solution after post-baking is performed on the resist film 102 exposed to the pattern, a resist pattern 106 composed of the unexposed sections 102b of the film 102 and having an excellent shape is obtained.例文帳に追加

パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して、ポストベークを行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なうと、レジスト膜１０２の未露光部１０２ｂよりなり良好な形状を持つレジストパターン１０６が得られる。 - 特許庁

To provide the silver halide color photographic sensitive material high in activity and superior in storage stability and manufacturable at low cost and containing a novel capturer of the oxidation product of a developing agent and freed of anxiety of pollution of waste processing solution.例文帳に追加

高活性で保存安定性に優れ、安価に製造可能でかつ処理液汚染の懸念のない新規な現像主薬酸化体の捕捉剤を含有し、粒状性に優れたハロゲン化銀感光材料を提供すること。 - 特許庁

Since a distribution is applied to a developing-solution/resist solubility characteristic in the thickness (depth) direction of resist films (R1, R2), a contrast between one of the layers more soluble to the developer and less soluble thereto in the resist film thickness direction can be provided.例文帳に追加

レジスト膜（Ｒ１、Ｒ２）の厚さ（深さ）方向で現像液に対するレジストの溶解特性に分布をつけることで、レジスト膜厚方向に現像液に溶解しやすい層と溶解しにくい層のコントラストを形成することができる。 - 特許庁

A belt 15 is moved in the same direction as the conveyance direction of the film 2 at higher speed than a conveyance speed of the film 2 while in contact with a surface of the bead 38 of the developing solution formed on the photosensitive surface of the film 2.例文帳に追加

そして、ベルト１５が、フィルム２の感光面上に形成された現像液のビード３８の表面に接触しつつ、フィルム２の搬送方向と同じ方向にフィルム２の搬送速度よりも大きい速度で移動するようにする。 - 特許庁

To secure a gas permeability, even for a high PC ratio by charging a small lump coke in the upper part of the furnace core position at the lower part of a large lump coke and developing a solution loss in the small lump coke prior to the large bulky coke.例文帳に追加

本発明は、大塊コークスの下部の炉芯位置の上方に小塊コークスを装入し、大塊コークスに比べて優先的にソリューシヨンロスを起こさせ、高ＰＣ比下でも通気性を確保することを目的とする。 - 特許庁

(2) In the method for developing and fixing the silver halide photographic sensitive material, the amount of a fixing solution replenished is ≤180 ml per 1 m^2 of the sensitive material.例文帳に追加

（２）上記のハロゲン化銀写真感光材料を現像定着処理する方法であって、定着液の補充量が前記感光材料１平方メートル当たり１８０ｍｌ以下であることを特徴とする現像定着処理方法。 - 特許庁

To provide a novel fluorine containing polymer compound useful as a base resin for radiation sensitivity resist excellent in properties such as transparency to radiations at wave length of 200 nm or less, adhesiveness to a base plate, affinity to a developing solution and dry etching resistance.例文帳に追加

波長２００ｎｍ以下の放射線に対する透明性、基板密着性、現像液親和性、ドライエッチング耐性等の性能に優れる感放射線レジスト用のベース樹脂として有用な新規含フッ素高分子化合物の提供。 - 特許庁

By the heating process, deposits that are adhered on the substrate W after the supply of the developing solution are dried, and are easily washed out from the substrate by the second rinsing process, which is carried out for the substrate W immediately after the heating process.例文帳に追加

この加熱処理により、現像液供給後の基板Ｗ上に付着している付着物が乾燥し、直後に行われる基板Ｗに対する第２のリンス処理によって基板上から容易に洗い流される。 - 特許庁

To provide a resin composition excellent in flexibility, and restances to solder heat resistance, thermal deterioration, and non-electrolytic gold plating, and capable of developing with an organic solvent or a dilute alkaline solution and suitable for a solder resist and an insulating layer between layers.例文帳に追加

硬化物の可撓性や半田耐熱性、耐熱劣化性、無電解金メッキ耐性に優れ、有機溶剤又は希アルカリ溶液で現像ができ、ソルダーレジスト用及び層間絶縁層用に適する樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

After applying a post baking to the resist film 102 which is pattern exposured, the film 102 is developed by an alkaline developing solution to be able to obtain a resist pattern 105 comprising an unexposed part 102b of the resist film 102 and having a satisfactory shape.例文帳に追加

パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して、ポストベークを行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なうと、レジスト膜１０２の未露光部１０２ｂよりなり良好な形状を持つレジストパターン１０５が得られる。 - 特許庁

The resist composition contains: a base component (A) whose solubility in developing solution is changed by action of acid; an acid generator component (B) generating acid by light exposure; and a nitrogen-containing organic compound (D1) represented by the general formula (d1).例文帳に追加

酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、一般式（ｄ１）で表される含窒素有機化合物（Ｄ１）とを含有するレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material using a developing solution for a silver halide photographic sensitive material less liable to affect the human body, ensuring an improved silver tone and less liable to cause the rise of fog even after long-term use.例文帳に追加

人体に影響が少なく、銀色調が改良され、長期使用してもカブリ上昇の少ないハロゲン化銀写真感光材料用現像液を用いたハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供すること。 - 特許庁

On the other hand, when a monomer having no functions of becoming alkali-soluble by leaving a protective group of an ester by an acid is used, the homopolymer included in the monomer causes a scum (an insoluble material) in an alkali developing solution to provide the insufficient resolution.例文帳に追加

一方、酸によりエステルの保護基が脱離しアルカリ可溶になる機能を持たないモノマーを使用した場合、そのモノマーに含まれるホモポリマーはアルカリ現像液でのスカム（不溶解物）発生により十分な解像度が得られない。 - 特許庁

The non-chemical amplification main chain degradation positive-type resist composition contains a base resin component (A) of which main chain is degraded by exposure, increasing solubility to a developing solution, and a naphthoquinone diazidesulfonate ester compound (B).例文帳に追加

露光により主鎖が分解して現像液に対する溶解性が増大するベース樹脂成分（Ａ）と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物（Ｂ）を含有することを特徴とする非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin which is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution and an acetylene alcohol derivative.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及びアセチレンアルコール誘導体を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of developing in an alkaline aqueous solution, processing at a low temperature and giving an excellent heat-resistant resin layer, and a phenol novolak useful as a curing agent for such resin composition.例文帳に追加

アルカリ水溶液での現像及び低温での加工が可能で耐熱性の優れた樹脂層を得ることができる感光性樹脂組成物、及びそのような組成物の硬化剤として有用なフェノールノボラックを提供すること。 - 特許庁

The photosensitive resin composition contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a photothermal converting agent and (C) a polymer compound having a lactone group, and the resin increases the solubility with an alkali developing solution by exposure.例文帳に追加

本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）光熱変換剤と、（Ｃ）ラクトン基を有する高分子化合物と、を含有し、露光によりアルカリ現像液への溶解性が増大することを特徴とする。 - 特許庁

In a color development section 10, a film 2 coated with a developing solution is heated with a rubber heater 16 while being conveyed in such a way that the film 2 curves downward along the conveyance direction between a pair of turn rollers 13, 14.例文帳に追加

発色現像部１０において、現像液が塗布されたフィルム２が、ターンローラ対１３、１４の間でその搬送方向に沿って下方に湾曲するように搬送されつつ、ラバーヒータ１６により加熱されるようにする。 - 特許庁

A fraction of Panax notoginseng is extracted, wherein the fraction has an Rf value of ginsenoside Rg1 or above, in a thin layer chromatography using a methanol extract of Panax notoginseng as a sample solution, silica gel as a stationary phase and an organic solvent as a developing solvent.例文帳に追加

試料溶液として田七人参のメタノール抽出液、固定相としてシリカゲル、並びに展開溶媒として有機溶媒を用いる薄層クロマトグラフィーにおけるRf値がginsenoside Rg1以上である田七人参の分画を抽出する。 - 特許庁

At this time, a dye developing an intended color is added and mixed into a solution tank, and is sprayed while sliding two or more kinds of nozzles having a different hue and/or tone in a papermaking width direction to manufacture multicolor home use tissue paper.例文帳に追加

この際、溶液タンク内に目的とする色を発色する染料を添加混合し、２種以上の色相及び／又は色調の異なるノズル群を抄き幅方向に摺動させながら噴霧して多色家庭用薄葉紙を製造する。 - 特許庁

To provide a processing method free of occurrence of black stops and capable of stably giving a high contrast image even when processing is carried out in the field of the graphic arts using a developing solution less liable to affect the environment under a small amount of replenishment.例文帳に追加

グラフィック・アーツ分野で、環境に対して問題の少ない現像液を用いて低補充量で処理を行っても、黒ポツの発生もなく安定に硬調な画像を得ることができる処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive material development apparatus capable of changing only development time while keeping fixing time and washing time regular by adjusting immersion time in a developing solution by switching a conveyance path.例文帳に追加

搬送経路を切り替えることで現像液に浸漬される時間を調整することで、定着処理時間や水洗処理時間を一定に維持しつつ現像処理時間のみを変更可能な感光材料現像装置を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a substrate component with the solubility to an alkaline developing solution increased by function of an acid, (B) an acid forming agent component for generating an acid by exposure, and (G) a benzodioxol or a derivative thereof.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびベンゾジオキソールまたはその誘導体（Ｇ）を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The method for forming an image is carried out by using the above photoresist in steps of forming a photoresist layer on a substrate, irradiating the photoresist layer with light through a mask corresponding to a specified pattern, developing the photoresist film with a developing solution containing an alkali and removing the exposed part to form a positive image.例文帳に追加

更に、本発明によれば、基材上にフォトレジスト層を形成し、所望のパターンに対応するマスクを介して上記フォトレジスト層に光照射した後、得られたフォトレジスト膜をアルカリを含む現像液で現像し、露光部を除去して、ボジ型画像を形成する画像形成方法において、上記フォトレジストを用いる方法が提供される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物、ならびにそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

To provide a treating method for a photosensitive planographic printing plate which prevents occurrence of fine spots on a non-image area when a printing machine is stopped once and printing is restarted in continuous treatment and diminishes sludge and slime deposited in a developing tank in long- term continuous treatment and to provide a developing solution used in the treatment method.例文帳に追加

本発明の目的は、連続処理において、一旦印刷機を停止した後に印刷を再開した時、非画像部に発生する微点状汚れを防止し、かつ長期間連続処理をした時、現像槽に蓄積するスラッジヘドロを低減した感光性平版印刷版の処理方法及びそれに用いる現像液を提供することにある。 - 特許庁

The exposing/developing method and the developing device for manufacturing a color filter are characterized in that: low illuminance exposure is carried out in the proximity exposure system; development is carried out at high discharge pressure of a developer solution from a nozzle; and hydrogen water ultrasonic cleaning is carried out as washing after development and rinsing.例文帳に追加

本発明は、カラーフィルタ製造における露光・現像方法、現像装置であって、プロキシミティ露光方式で低照度露光を行う、ノズルからの現像液吐出圧が高圧である現像方式で現像を行う、現像・リンス後水洗では水素水超音波洗浄を行う、ことによって高解像度・高品質な製品を提供する。 - 特許庁

To provide a color developer composition for a silver halide color photographic sensitive material which prevents deterioration of a color developing solution by air oxidation in a color developing process and ensures stable processing property over a prolonged period of time, and to provide a processing method for a silver halide color photographic sensitive material using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、発色現像プロセスにおいて発色現像液の空気酸化による劣化を防止し、長期間にわたって安定した処理特性が得られるハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像剤組成物とそれを用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法を提供することにある。 - 特許庁

In a photomechanical process in which a planographic printing plate having physical developing nuclei between an anodically oxidized aluminum substrate and a silver halide emulsion layer and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is subjected to at least development after exposure, an amino acid and glycerol or its polymer or saccharides are contained in a developing solution used.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光後少なくとも現像処理する製版方法において、該現像液中にアミノ酸と、グリセリンもしくはその多量体、又は糖類を含有する事を特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no safety problem, superior in sensitivity, resolution and storage stability as a solution, and having such a proper development margin that a proper pattern profile can be formed, even after the lapse of the optimum developing time in a developing step, and to provide an interlayer insulation film and microlenses formed from the composition.例文帳に追加

安全性に問題がなく、感度、解像度、溶液としての保存安定性等に優れ、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような良好な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物ならびに該組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供すること。 - 特許庁

To improve the preservability and crystal depositing property of a developing solution using dihydroxybenzene as a developing agent and not substantially containing a boron compound, the suitability of a silver halide photosensitive material containing a relatively large amount of silver to long- term running and the roller mark trouble and color leaving property of a silver halide photographic sensitive material containing flat platy silver halide grains having an aspect ratio of ≥8.例文帳に追加

ジヒドロキシベンゼンを現像主薬とし、ホウ素化合物を実質的に含有しない現像液の液保存性と結晶析出性、比較的銀量が多いハロゲン化銀感光材料の長期ランニング性、及びアスペクト比８以上の平板状ハロゲン化銀粒子を含むハロゲン化銀写真感光材料のローラーマーク故障および残色性を改良する。 - 特許庁