「dielectric process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PRODUCTION PROCESS OF DIELECTRIC PORCELAIN COMPOSITION AND MANUFACTURING PROCESS OF ELECTRONIC COMPONENT CONTAINING DIELECTRIC LAYER例文帳に追加

誘電体磁器組成物の製造方法と誘電体層含有電子部品の製造方法 - 特許庁

PROCESS FOR MANUFACTURING DIELECTRIC CERAMIC RAW POWDER例文帳に追加

誘電体セラミック原料粉末の製造方法 - 特許庁

POST-ETCHING PROCESSING METHOD FOR DIELECTRIC ETCHING PROCESS例文帳に追加

誘電エッチングプロセスのためのエッチング後処理方法 - 特許庁

SINTERED COMPACT WITH HIGH DIELECTRIC CONSTANT AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

高誘電率焼結体及びその製造方法 - 特許庁

HIGH DIELECTRIC THIN FILM CAPACITOR AND ITS PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

高誘電体薄膜コンデンサ及びその製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD AND PROCESS OF IN-SITU DIELECTRIC STACK例文帳に追加

インシチュ誘電体スタックの製造方法及びそのプロセス - 特許庁

GENERAL POST-ETCHING PROCESSING METHOD FOR DIELECTRIC ETCHING PROCESS例文帳に追加

誘電エッチングプロセスのための総合エッチング後処理方法 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING ARTICLE CONTAINING HEAT RESISTANT DIELECTRIC OBJECT例文帳に追加

耐熱性誘電物体を含む物品を製造する方法 - 特許庁

PROCESS OF FORMING LIGHT BEAM PATH IN DIELECTRIC MIRROR例文帳に追加

誘電体ミラーにおいて光ビームの経路を形成するプロセス - 特許庁

METHOD AND PROCESS FOR EMBEDDING CONDUCTIVE ELEMENT IN DIELECTRIC LAYER例文帳に追加

導電素子を誘電体層に埋め込む方法およびプロセス - 特許庁

MULTILAYER DIELECTRIC FILM FOR THIN FILM CAPACITOR AND ITS DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

薄膜コンデンサ用誘電体積層フィルムおよびその製法 - 特許庁

HIGH DIELECTRIC POLYMER, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME AND FILM例文帳に追加

高誘電性ポリマーおよびその製造方法、ならびにフィルム - 特許庁

PROCESS FOR CONSTRAINED SINTERING OF ASYMETRICALLY COMPOSED DIELECTRIC LAYER例文帳に追加

非対称に構成された誘電体層の拘束焼結方法 - 特許庁

LOW-TEMPERATURE-FIRING DIELECTRIC PORCELAIN COMPOSITION AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

低温焼成誘電体磁器組成物及びその製造方法 - 特許庁

ULTRAVIOLET CURING PROCESS AND TOOL FOR FORMING FILM HAVING LOW DIELECTRIC CONSTANT例文帳に追加

紫外線硬化工程と低誘電率膜を形成するツール - 特許庁

In a process 13, the data provided in the process 11 are sorted, and a dielectric breakdown voltage distribution is determined.例文帳に追加

過程１３は、過程１１で得られたデータをソートし、絶縁破壊電圧分布を確定する。 - 特許庁

PROCESS FOR FORMING TRIPLE GATE OXIDE FILM USING HIGH DIELECTRIC CONSTANT INSULATING MATERIAL例文帳に追加

高比誘電率絶縁材料を用いた三重ゲート酸化膜製造方法 - 特許庁

Further, the process of reducing the chip 41 of the dielectric layer 4 is performed thereafter.例文帳に追加

さらにその後、誘電体層4の欠損41を低減する工程を行う。 - 特許庁

To provide a method for producing a BaTiO3 dielectric substance having a high dielectric constant and a low dielectric loss by decreasing the average particle size of BaTiO3 through a pretreatment in a reducing atmosphere before a sintering process in a dielectric substance production process in this method for producing the BaTiO3 dielectric substance having the high dielectric constant and a low dielectric loss.例文帳に追加

高い誘電常数と低い誘電損失を有するBaTiO_3誘電体の製造方法に関するものであり、誘電体製造工程中に焼結工程前に還元性雰囲気で前熱処理を通じてBaTiO_3の平均粒子大きさを小さくすることで高い誘電常数と低い誘電損失を有するBaTiO_3誘電体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To solve such a problem that a threshold increases when a p channel FET which uses a high dielectric constant gate dielectric film is formed by a gate first process.例文帳に追加

高誘電率ゲート誘電膜を用いるｐチャネルFETをゲート先作りプロセスにより形成すると閾値が大きくなる。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CAPACITOR OF SEMICONDUCTOR DEVICE THROUGH SIMPLIFICATION OF DIELECTRIC FILM FORMING PROCESS AND ITS DIELECTRIC FILM FORMING EQUIPMENT例文帳に追加

誘電膜工程を単純化して半導体素子のキャパシタを製造する方法及びその誘電膜を形成する装置 - 特許庁

FUEL CELL DIELECTRIC COOLANT AND EVAPORATIVE COOLING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

燃料電池誘電性冷却剤及びこれを使用した蒸発冷却プロセス - 特許庁

MANUFACTURE OF HIGH REFRACTIVE INDEX-STEP GRATING USING REGROWTH-OVER-DIELECTRIC PROCESS例文帳に追加

誘電体上再成長プロセスを使用した高屈折率ステップ格子の製造 - 特許庁

To provide an ultraviolet(UV) curing process and a tool for forming a film having a low dielectric constant.例文帳に追加

ＵＶ硬化工程と低誘電率膜を形成するツールが提供される。 - 特許庁

PRODUCTION PROCESS OF DIELECTRIC MULTILAYER SUBSTRATE, AND HEAT TREATMENT DEVICE USED THEREFOR例文帳に追加

誘電体積層基板の製造方法およびこれに用いる加熱処理装置 - 特許庁

METHODS FOR DEPOSITING HIGH-K DIELECTRIC MATERIAL USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

化学気相堆積プロセスを用いて高ｋ誘電物質を堆積させる方法 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device having a dielectric film includes a process of forming a dielectric film, and a heat treatment process of intermittently repeating a process of oxidizing the dielectric film by supplying an oxidative gas a plurality of times.例文帳に追加

誘電体膜を形成する工程と、酸化性ガスを供給して誘電体膜に対して酸化処理を行う工程を複数回、断続的に繰り返す熱処理工程と、を有する誘電体膜を備えた半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric element in which a dielectric film is formed by a chemical solution deposition method for enhancing the resistance of the dielectric film to a wet process.例文帳に追加

化学溶液法により誘電体膜を形成させる誘電体素子の方法において、誘電体膜のウェットプロセスに対する耐性を高める方法を提供すること。 - 特許庁

To suppress damage which an ashing process gives to a low dielectric constant film when forming a dual damascene structure on the low dielectric constant film.例文帳に追加

低誘電率膜にデュアルダマシン構造を形成する際に、アッシング工程が低誘電率膜に与えるダメージを抑制する。 - 特許庁

PROCESS OF PREPARING LOW-TEMPERATURE SINTERED MICROWAVE DIELECTRIC CERAMIC AND LOW-TEMPERATURE SINTERED MICROWAVE DIELECTRIC CERAMIC OBTAINED BY THE SAME例文帳に追加

低温焼成用マイクロ波誘電体セラミックの製造方法及びそれから得られる低温焼成用マイクロ波誘電体セラミック - 特許庁

To provide a thin film capacitor etc. which includes a dielectric film of a sufficient dielectric constant obtained through a low temperature film-forming process.例文帳に追加

低温の成膜工程で充分な誘電率を有する誘電体膜を得て、これを備える薄膜キャパシター等を提供する。 - 特許庁

Subsequently, another second dielectric film 16 constituting the dielectric film 17 is formed using a liquid phase process method (sol-gel processing).例文帳に追加

次に、圧電体膜１７を構成する残りの第２圧電体膜１６を液相プロセス法（ゾル−ゲル法）を用いて形成する。 - 特許庁

To prevent increase in the dielectric constant of a low dielectric constant insulation film, in the removal process of a photoresist pattern using oxygen.例文帳に追加

酸素を用いたフォトレジストパターンの剥離工程における、低誘電率絶縁膜の誘電率の上昇を防止すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a low dielectric constant interlayer insulating film, suppressing peeling during an assembly process and a CMP process, and to provide a semiconductor device using the low dielectric constant interlayer insulating film.例文帳に追加

組み立て工程やCMP工程時における剥離を抑制した、低誘電率層間絶縁膜の製造方法とそれを用いた半導体装置を提供する。 - 特許庁

When a dielectric thin film is formed on a substrate by a chemical vapor growth method, a method of manufacturing a semiconductor device comprises the process for depositing a part of the dielectric thin film on the substrate, the process for heat-treating this dielectric thin film and moreover, the process for depositing the dielectric thin film at a deposition rate higher than that of the dielectric thin film.例文帳に追加

基板上に、化学気相成長法により誘電体薄膜を形成するときに、基板上に誘電体薄膜の一部を堆積する工程と、この誘電体薄膜を熱処理する工程と、さらに上記誘電体薄膜の堆積速度より速い堆積速度で、誘電体薄膜の堆積を行う工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

An etching-back process is done to remove the sacrificial layer 22 and a part of the dielectric layer 20.例文帳に追加

犠牲層２２と、誘電体層２０の一部とを除去する、エッチバック工程を行う。 - 特許庁

PROCESS FOR FABRICATING CIRCUIT ASSEMBLIES USING ELECTRODEPOSITABLE DIELECTRIC COATING COMPOSITIONS例文帳に追加

電着可能な誘電性コーティング組成物を用いる回路アセンブリを製作するためのプロセス - 特許庁

METHOD OF FORMING CONTACT STRUCTURE IN LOW DIELECTRIC CONSTANT MATERIAL LAYER USING DUAL DAMASCENE PROCESS例文帳に追加

デュアルダマシン工程を利用した低誘電率物質層内のコンタクト構造形成方法 - 特許庁

The low-temperature sintered microwave dielectric ceramic composition is obtained by the process.例文帳に追加

該製造方法によって得られる低温焼成用マイクロ波誘電体セラミック組成物。 - 特許庁

To prevent dielectric breakdown in a process of manufacturing a semiconductor package.例文帳に追加

半導体パッケージの製造プロセスにおける静電破壊を防止することが必要とされている。 - 特許庁

PROCESS FOR FORMING GATE INSULATOR LAYER HAVING MULTIPLE DIELECTRIC CONSTANT AND MULTIPLE THICKNESS例文帳に追加

多重の誘電率と多重の厚さを有するゲート絶縁体層を形成する方法 - 特許庁

MICROWAVE PLASMA TREATMENT EQUIPMENT, PROCESS FOR FABRICATING DIELECTRIC WINDOW, AND MICROWAVE PLASMA TREATMENT METHOD例文帳に追加

マイクロ波プラズマ処理装置、誘電体窓の製造方法およびマイクロ波プラズマ処理方法 - 特許庁

To provide a method for forming a dielectric film by which a process is simplified despite superior dielectric breakdown strength characteristics.例文帳に追加

絶縁破壊強度特性が優秀でありながら工程を単純化させることができる誘電膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The dielectric layer on the substrate surface is removed using an etch process such that a portion of the dielectric layer underlying each spacer remains.例文帳に追加

各スペーサの下の誘電体層の部分があとに残るようなエッチング・プロセスを使用して、基板表面の誘電体層が除去される。 - 特許庁

To heighten the dielectric constant and further lessen the dielectric loss of a PZT (lead zircon titanate) film formed on a substrate by a hydrothermal process.例文帳に追加

水熱法によって基材上に形成されるＰＺＴ膜の比誘電率を高め、かつ誘電損失をより小さいものとする。 - 特許庁