「dielectric process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a magnetic storage device which is provided with an arm assembly protecting a head IC from dielectric breakdown and whose yield of a manufacturing process is improved.例文帳に追加

本発明は、ヘッドＩＣを静電破壊から守り、製造工程の歩留まりが向上するアームアッセンブリを備える磁気記憶装置を提供する。 - 特許庁

The conductive layer 4B of the first laminate 60 is laminated to the polymeric material dielectric layer 3A of the second laminate 70 (a lamination process) (3).例文帳に追加

（３）第一積層体６０の導体層４Ｂと第二積層体７０の高分子材料誘電体層３Ａとを貼り合わせる（貼り合わせ工程）。 - 特許庁

Corresponding to a process fluctuation amount generated in film thickness or a dielectric constant of the insulation film during the deposition of the insulation film, a mask dimension of the mask pattern is changed.例文帳に追加

絶縁膜の成膜時に該絶縁膜の膜厚又は誘電率に生じるプロセス変動量に応じて、マスクパターンのマスク寸法を変更する。 - 特許庁

This electrochemical machining process comprises disposing an electrode with insulating dielectric portions (22) and non-insulating portions (24) in opposition to the cooling surface, passing an electrolyte between the cooling surface and electrode, and applying an electrical current between the electrode and a shroud.例文帳に追加

このことを達成するために、絶縁誘電部分（２２）及び非絶縁部分（２４）を備える電極が、冷却面に対向して配置される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a plasma display panel including a new forming process that enables to efficiently form a dielectric layer having a thicker film.例文帳に追加

膜厚の大きい誘電体層を効率的に形成することができる新規な形成工程を含むプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The 2nd conversion circuit 15 consists of MOSFETs manufactured by a high dielectric strength process and a power supply voltage E2 of a high voltage power supply system is applied to the circuit 15.例文帳に追加

第２変換回路１５を高耐圧用プロセスを用いて製造したＭＯＳＦＥＴで構成し、高電圧電源系の電源電圧Ｅ２を供給する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric ceramic composition which is microfine, has high crystallinity, and moreover can suppress the grain growth in a firing process.例文帳に追加

微細で、かつ、結晶性が高く、しかも、焼成工程における粒成長を抑制することが可能な誘電体磁器組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method which has compatibility with the existing CMOS components manufacturing process in manufacturing a capacitor, having little possibility of causing the dielectric breakdown.例文帳に追加

絶縁破壊を起こす危険の少ないキャパシタを製造するにおいて、既存のＣＭＯＳ部品製造工程と互換性を有する方法を提供する。 - 特許庁

On the main surface of a substrate core section 2, the polymeric material dielectric layer 3A is formed for manufacturing a second laminate 70 (a second laminate manufacturing process) (2).例文帳に追加

（２）基板コア部２の主表面上に高分子材料誘電体層３Ａを形成して第二積層体７０を製造する（第二積層体製造工程）。 - 特許庁

To obtain a resin composition allowing little sedimentation of highly dielectric fillers, a resin varnish, and to provide an electronic member obtained using this composition and its manufacture process.例文帳に追加

高誘電率充填剤の沈降が生じにくい樹脂組成物、樹脂ワニス、およびこれを用いて得られる電子部品とその製法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device wherein the complication of the manufacturing process thereof can be suppressed while suppressing the reduction of the dielectric strength of the gate insulating film.例文帳に追加

ゲート絶縁膜の絶縁耐圧が低下するのを抑制しながら、製造プロセスが複雑になるのを抑制することが可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a simulation method mathematically and statistically incorporating quality states of a silicon wafer surface into a stochastic process of dielectric breakdown in the evaluation of the reliability of an insulator thin film.例文帳に追加

絶縁体薄膜の信頼性評価において、絶縁破壊の確率過程にシリコンウェーハ表面の品質状態を数理統計的に組み込ませる。 - 特許庁

The fabrication process for the charge trapping high-k gate dielectric of the present invention is also applicable to a bulk device, a TFT device or an SOI device.例文帳に追加

本発明の電荷トラッピングｈｉｇｈ−ｋゲート誘電体にかかる製造プロセスは、バルク装置、ＴＦＴ装置またはＳＯＩ装置にも適用され得る。 - 特許庁

One or more dielectric layers can be formed for both capacitors and floating gate transistors on the substrate, in one or more identical process steps.例文帳に追加

１つ以上の誘電体層が、同一の１以上のプロセスステップにおいて、基板上のキャパシタと浮遊ゲートトランジスタの両方のために形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display panel including a novel forming process capable of efficiently forming a dielectric layer with a large film thickness.例文帳に追加

膜厚の大きい誘電体層を効率的に形成することができる新規な形成工程を含むプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the process (a), a deposition layer 6 to become the dielectric layer is formed on the surface of the substrate 1 by using a powder spray coating method or a vapor deposition method.例文帳に追加

工程（ａ）では、粉末噴射コーティング法又は蒸着法を用いて、基材１の表面上に、誘電体層となる成膜層６を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, having a process for forming a low-dielectric insulating film by which the permittivity can be further reduced.例文帳に追加

比誘電率をより小さくすることが可能な低誘電率絶縁膜を成膜する工程を有する半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing process, typically, deposition/growth of a dielectric material is excellently controllable, so that a field plate operation can be strictly controlled.例文帳に追加

本製造プロセスは、誘電性材料の堆積／成長が、典型的には、非常によく制御できるプロセスなので、フィールドプレート動作を厳しく制御できる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of protecting the sidewall of an opening in a low dielectric constant film after etching, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

エッチング後の低誘電率膜の開口の側壁を保護することができる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Furthermore, fabrication process can be reduced by simultaneous calcination of the pastes for the transparent dielectric layer, the black stripe layer, and the color filter layer.例文帳に追加

さらに、透明誘電体層用ペースト、ブラックストライプ層用ペースト及びカラーフィルタ層用ペーストを同時に焼成することにより、工程を削減できる。 - 特許庁

Next, by adding a dispersing agent and/or a second solvent to a mixture obtained by a kneading process, and by reducing viscosity, the dielectric paste is obtained.例文帳に追加

次に、混練工程によって得られた混合物に、分散剤および／または第２溶剤を添加して、粘性を低下させて誘電体ペーストを得る。 - 特許庁

To compose a process of forming a pattern of an internal electrode and a pattern of a step cancellation dielectric where the leveling property of paste is excellent, and an entire path line length is short.例文帳に追加

ペーストのレベリング性が良く、全体のパスライン長が短い、内部電極用パターンおよび段差解消誘電体用パターンの形成工程を構成する。 - 特許庁

The contact structures are formed in the low dielectric constant material layer (low-k materials) using the dual damascene process, which provides the method of forming contact structures effectively.例文帳に追加

これよって、効果的なコンタクト構造形成方法を提供するデュアルダマシン工程を利用し、低誘電率物質層(low-k materials)内にコンタクト構造を形成する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a multilayer circuit assembly including a dielectric coating prepared by electrodeposition for forming a metalized via.例文帳に追加

金属化バイアを形成するため、および電着により付与される誘電性コーティングを含む多層回路アセンブリを製作するためのプロセスを提供すること。 - 特許庁

To provide ultrafine particulate titanium dioxide suitable for use in a photocatalyst, a solar cell, an additive to silicone rubber a dielectric and the like, and a production process thereof.例文帳に追加

光触媒や太陽電池、シリコーンゴムへの添加剤、誘電体用途等に好適な超微粒子二酸化チタン及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce damage due to a multi-layer manufacturing process for a dielectric capacitor employed in an FeRAM and prevent the film peeling of an interlayer insulating film.例文帳に追加

ＦｅＲＡＭに用いられる強誘電体キャパシタへの多層製造工程によるダメージを低減し、かつ層間絶縁膜の膜剥がれを防止する。 - 特許庁

A single cavity extending through the electrodes and dielectric layers and terminating at the emitter electrode is formed in a single photolithographing and etching process.例文帳に追加

該電極及び誘電体層を通って延びてエミッタ電極で終端する単一のキャビティが単一のフォトリソグラフ及びエッチングプロセスで形成される。 - 特許庁

The semiconductor process uses a plating bath of morpholine borane which provides higher thermal stability and range, allowing for greater compatibility with low k dielectric material.例文帳に追加

ｌｏｗ ｋ絶縁物質とのより優れた適合を可能にする、高い熱的安定度及び範囲を備えたモルホリンボランめっき浴を使用する。 - 特許庁

A method comprises a process of forming a hard mask layer on a planarized surface including an exposed top of local wiring prior to depositing an oxide dielectric layer.例文帳に追加

酸化物誘電体層を堆積する前に、ローカル配線の最上部が露出した平坦面に、ハードマスク層を形成する工程を含んでいる。 - 特許庁

A semiconductor device, wherein an interlayer insulation film comprising boron nitride films 7, 9, 11 whose dielectric is less than 4 is formed in a wiring formation process, is manufactured.例文帳に追加

配線形成工程において、誘電率が４未満の窒化ホウ素膜７，９，１１からなる層間絶縁膜を形成する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To prevent a failure in embedding due to an altered layer formed on the surface of a low dielectric constant film and a failure in resolution of lithography during a multilayer wiring process.例文帳に追加

多層配線工程において、低誘電率膜の表面に形成される変質層に起因した埋め込み不良や、リソグラフィの解像不良を抑制する。 - 特許庁

In the first processing, sputtering for forming the first dielectric layer 2 on the substrate 1 is performed in two steps in a process chamber of two chambers.例文帳に追加

第１工程において、基体１上に第１誘電体層２を形成するためのスパッタリングを２室のプロセスチャンバー内で２回に分けて行う。 - 特許庁

To provide a substrate useful for a semiconductor process, having a layer deposited by an ALD (atomic layer deposition) on a dielectric layer formed with an organic material-containing material.例文帳に追加

有機物含有材料でつくられている誘電体層上にＡＬＤにより堆積された層を有する、半導体プロセスに有用な基板を提供する。 - 特許庁

By this manufacturing method for the niobium capacitor, the niobium capacitor is manufactured by exposing a dielectric oxide film to 100 to 140°C in its some process.例文帳に追加

ニオブコンデンサの製造方法において、そのいずれかの工程で誘電体酸化皮膜を１００℃〜１４００℃の範囲の温度に曝しニオブコンデンサを製造する。 - 特許庁

To provide a dielectric lens the manufacturing process of which can be simplified and the deterioration in the antenna characteristic of which due to exfoliation and production of gaps can be prevented.例文帳に追加

製造工程を簡略化できるとともに、誘電体シートの剥がれや隙間によるアンテナ特性の劣化を防止できる誘電体レンズを提供する。 - 特許庁

To perform uniform coating of a dielectric substance on a glass plate in a manufacturing process for a plasma display panel, which has been conventionally difficult because of the deflection of the glass plate.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの製造プロセスにおけるガラス板上への誘電体塗布では、ガラス板の有する撓みによって均一な塗布が難しい。 - 特許庁

The method of producing the solid electrolytic capacitor obtained by forming a solid electrolyte layer 5 and a cathode 6 on a dielectric layer 2 formed on an anode body 1 as a porous body of valve action metal includes a process of impregnating the porous body with polyacid, and a process of forming a precoat layer 3 through a washing process and a drying process.例文帳に追加

弁作用金属の多孔質体である陽極体１上に形成された誘電体層２に固体電解質層５、陰極６を形成してなる固体電解コンデンサの製造方法であって、多孔質体にポリ酸を含浸する工程と、水洗工程と、乾燥工程によるプレコート層３を形成する工程を含む。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a process of mixing a soft magnetic powder with an insulative resin having thermal resistance against an organic solvent and heating the powder, and a process of molding under pressure and thermally processing the soft magnetic powder being dielectric-coated with the resin in the former process.例文帳に追加

軟質磁性粉末に有機溶剤の耐熱性を有する絶縁性の樹脂を混合し、かつ過熱する工程と、この工程によって、表面が樹脂によって絶縁被膜された軟質磁性粉末を加圧成形し、熱処理する工程とを備えた構成とした。 - 特許庁

While an anti-reflection film 9 and a resist pattern 10 are formed on the second interlayer dielectric 8, a capacitor hole 11 is formed between the surface of the second interlayer dielectric 8 and a position-controlled bottom face 11a in the first interlayer dielectric 5 through the stopper film 7 by dry etching process using the resist pattern 10 as a mask.例文帳に追加

第２の層間絶縁膜８上に反射防止膜９とレジストパターン１０を形成し、このレジストパターン１０をマスクとしたドライエッチングにより第２の層間絶縁膜８の表面からストップ膜７を貫通して第１の層間絶縁膜５内に、底面１１ａの位置が制御されたキャパシタホール１１を形成する。 - 特許庁

To provide a lead-free piezoelectric ceramic composition which can be fired under atmospheric pressure and shows at least one excellent characteristic chosen from piezoelectric constant, electromechanical coupling coefficient, dielectric loss, dielectric constant and Curie temperature, its preparation process and a piezoelectric element and a dielectric element manufactured using the composition.例文帳に追加

鉛を含まず，常圧にて焼成が可能であり，かつ圧電定数，電気機械結合係数，誘電損失，比誘電率，及びキュリー温度のうちいずれか１つ以上の特性に優れた圧電磁器組成物及びその製造方法，並びに該圧電磁器組成物を利用した圧電素子及び誘電素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor photoelectric component which hardly causes lift-off in a subsequent manufacturing process even if temperature is low in a manufacturing process by using an organic dielectric material, and to provide a light-emitting diode forming the same.例文帳に追加

有機誘電材料を使用することによって製造工程で温度が低くてもその後の製造工程に於いて剥離しにくい半導体光電部品及びそれを形成する発光ダイオードを提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of dielectric paste for a plasma display panel includes a process of making glass powder and paste, and a humidity in the process of making the paste is controlled to be 60% or lower.例文帳に追加

ガラス粉末の作製工程、及びペーストの作製工程を含むプラズマディスプレーパネル用誘電体ペーストの製造方法であって、ペースト作製工程における湿度を６０％以下に管理することを特徴とする。 - 特許庁

Since the slurry has excellent polishing performances such as high-speed polishing properties, low scratch properties, etc., the slurry can be expected to have an application to a mass production process and a process using a porous type low-dielectric-constant insulating film.例文帳に追加

また、低荷重条件においても高速研磨性や低スクラッチ性等の優れた研磨性能を有することから、量産プロセスやポーラス型低誘電率絶縁膜を用いたプロセスへの適用が期待できる。 - 特許庁

To provide a coating composite for producing an interlayer insulation film in which a high Young's modulus, a low dielectric constant, and a high breakdown voltage durable sufficiently in the CMP process of the copper interconnection process of a semiconductor element can be achieved simultaneously.例文帳に追加

半導体素子の銅配線工程におけるＣＭＰ工程に十分耐える高いヤングモジュラスと、低い比誘電率と、高いブレークダウン電圧を同時に達成する層間絶縁膜製造用の塗布組成物の提供。 - 特許庁

A cylindrical printing plate is formed by selectively heating a photosensitive resin layer of a resin joint part to be joined in a non-contact fashion by means of a dielectric heating process or an induced heating process using high frequency.例文帳に追加

高周波を用いた、誘電加熱、あるいは誘導加熱法により、接合しようとする樹脂継ぎ部分を選択的に非接触で感光性樹脂層の加熱を行い、円筒状印刷版材を形成する。 - 特許庁