「dielectric process」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve the reliability of an element without causing mutual reaction in the interface between a dielectric and an electrode, including impurities such as Na in a manufacturing process, and deteriorating a dielectric element due to the diffusion of hydrogen in a heat treatment process in the dielectric element.例文帳に追加

誘電体素子において、誘電体と電極の界面における相互反応、あるいは製造工程におけるＮａ等の不純物の混入や熱処理工程での水素の拡散による誘電体素子の劣化が生じることなく、素子の信頼性を向上させる。 - 特許庁

The method includes (1) depositing or growing a dielectric material in intrinsic and extrinsic regions of a device, (2) patterning the dielectric material by a dry or wet etching process or a lift-off process, and (3) performing vapor deposition of a field plate on the patterned dielectric material.例文帳に追加

（１）デバイスの真性および外因性領域に誘電性材料を堆積または成長させ、（２）乾式または湿式エッチングプロセス、あるいはリフトオフプロセスで誘電性材料をパターニングし、（３）パターニングされた誘電性材料上にフィールドプレートを蒸着させるステップを包含する方法。 - 特許庁

A plasma display panel front plate is manufactured by a process of forming the display electrode on one plane of a glass substrate, a process of arranging a porous dielectric sheet containing polyethylene and a glass material on the plane of the glass substrate formed of the display electrode, a press-bonding process of press-bonding the dielectric sheet on the glass substrate, and a baking process of baking the press-bonded dielectric sheet.例文帳に追加

ガラス基板の一方の面上に表示電極を形成する工程と、表示電極を形成したガラス基板の面上に、ポリエチレンとガラス原料を含有した多孔性の誘電体シートを配置する工程と、誘電体シートをガラス基板に圧着する圧着工程と、圧着された誘電体シートを焼成する焼成工程を経てプラズマディスプレイパネル前面板の製造する。 - 特許庁

As a result, the electrostatic discharge damage of a second interlayer dielectric 9 in the manufacturing process can be controlled.例文帳に追加

これにより、製造工程中における第二層間絶縁膜９の静電破壊を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a dual gate, in which a substance of high dielectric constant is applied in a damascene gate CMOS process.例文帳に追加

ダマシンゲートＣＭＯＳ工程で高誘電率の物質を適用するデュアルゲートの形成方法に関する。 - 特許庁

Thus, the dielectric film 17 is prevented from being damaged in the lithographic process when forming the contact hole.例文帳に追加

これにより、コンタクトホール形成時のリソグラフィ工程において、誘電体膜１７がダメージを受けることが防止される。 - 特許庁

PROCESS FOR PREVENTING MOISTURE ABSORPTION BY TREATING DAMAGED SURFACE OF LOW DIELECTRIC CONSTANT ORGANIC OXIDE SILICON INSULATING MATERIAL例文帳に追加

低比誘電率有機酸化ケイ素絶縁材料の損傷した表面を処理して吸湿を阻止するプロセス - 特許庁

Further, the device for increasing the thickness of the electrically conductive pattern on the dielectric substrate by an electrolytic process is provided.例文帳に追加

さらに、誘電体基材上の導電性パターンを電解法により増厚させる装置も提供する。 - 特許庁

The process of deposition-in situ treatment-deposition-in situ treatment is performed to form dielectric layers in the gap.例文帳に追加

堆積−インサイチュ処理−堆積−インサイチュ処理というプロセスを実行して、間隙に誘電層を形成する。 - 特許庁

Next, a constrain calcination process is executed in which the non-sintered dielectric ceramic layer 22 is substantially subjected to solid-phase sintering.例文帳に追加

次に、未焼結誘電体セラミック層２２を実質的に固相焼結させる拘束焼成工程を行う。 - 特許庁

ULTRAVIOLET ASSISTED POROGEN REMOVAL AND/OR CURING PROCESS FOR FORMING POROUS LOW-K DIELECTRIC例文帳に追加

多孔性の低ｋの誘電体を形成するために、紫外線を利用してポロゲンを除去及び／又はキュアするプロセス - 特許庁

In one integrated circuit production process, the organosilicate layer is used as an intermetallic dielectric layer.例文帳に追加

ある一つの集積回路製造工程においては、このオルガノシリケート層は金属間誘電層として使われる。 - 特許庁

The method of manufacturing the embedded capacitor includes a process of forming at least one bore in a dielectric substrate.例文帳に追加

内蔵キャパシタの製造方法は、誘電体基板に少なくとも１つの孔部を形成する工程を含む。 - 特許庁

To provide a two-type gate process which is suitable for a semiconductor integrated circuit device whose gate insulation film is partially composed of a high dielectric film.例文帳に追加

ゲート絶縁膜の一部を高誘電体膜で構成した場合に好適な２種ゲートプロセスを提供する。 - 特許庁

The method for fabricating a thin device 1 comprises a process for forming a flat film 3 on a substrate 2, a process for forming a lower conductor layer 10 on the flat film 3, a process for forming a dielectric film 20 on the lower conductor layer 10, and a process for forming an upper conductor layer 30 on the dielectric film 20.例文帳に追加

薄膜デバイス１の製造方法は、基板２の上に平坦化膜３を形成する工程と、平坦化膜３の上に下部導体層１０を形成する工程と、下部導体層１０の上に誘電体膜２０を成膜する工程と、誘電体膜２０の上に上部導体層３０を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

This method of manufacturing the dielectric thin-film element includes: a baking process S3 of heating a dielectric thin film 12 formed on the metal foil 11 to 400-1,200°C in a vacuum atmosphere or reductive atmosphere; a reductive annealing process S4 of executing an annealing process in a reductive atmosphere after the baking process S3.例文帳に追加

誘電体薄膜素子の製造方法は、金属箔１１上に形成された誘電体薄膜１２を、真空雰囲気又は還元雰囲気の下で４００〜１２００℃に加熱する焼成工程Ｓ３と、焼成工程Ｓ３の後に、還元雰囲気でアニール処理を行う還元アニール工程Ｓ４と、を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the dielectric element 1 includes a process of heating a film 20 of a solution of a precursor on a metal layer 11 in an oxidizing atmosphere, to form a calcined film 20 comprising a dielectric material generated from the precursor, and a process of annealing the calcined film 20 to form a dielectric film 20 comprising the dielectric material that has been crystallized.例文帳に追加

金属層１１上の前駆体の溶液の膜２０を酸化雰囲気下で加熱して、前駆体から生成した誘電体材料を含む仮焼き膜２０を形成させる工程と、仮焼き膜２０をアニールして、結晶化した誘電体材料を含む誘電体膜２０を形成させる工程とを備える、誘電体素子１の製造方法。 - 特許庁

To provide such a radiation sensitive composition with a variable dielectric constant that the dielectric constant of the material can be varied by an easy method, the difference in the varied dielectric constant is sufficiently large, and a stable dielectric pattern or an optical material can be obtained without depending on the use conditions in the succeeding process.例文帳に追加

材料の誘電率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した誘電率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な誘電率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、誘電率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁

The laminate composed of the dielectric layer and the metallic tin-film layer is manufactured by using a process in which a resin material is attached and the dielectric layer is formed, a process in which a patterning material is attached on the dielectric layer in a beltlike manner, and a process in which the metallic thin-film layer is laminated as one unit and repeating the processes in fixed numbers.例文帳に追加

樹脂材料を付着させて誘電体層を形成する工程と、前記誘電体層上にパターニング材料を帯状に付着させる工程と、金属薄膜層を積層する工程とを一単位とし、これを所定の回数繰返すことにより、誘電体層と金属薄膜層とからなる積層体を製造する。 - 特許庁

This manufacturing method of the dielectric element includes a process of removing a part of the dielectric film 3 by bringing the dielectric film 3 formed on the base metal film 1 and containing an oxide having Ti and Ba into contact with an etchant.例文帳に追加

卑金属膜１上に形成されたＴｉ及びＢａを有する酸化物を含む誘電体膜３をエッチング液に接触させることにより、誘電体膜３の一部を除去する工程を備える誘電体素子の製造方法。 - 特許庁

To connect an inspection process and a taping packing process and to realize the reduction of a lead time, the simplification of equipment and space saving by solving the problem of dielectric absorption the dielectric of a stacked capacitor without heat treatment.例文帳に追加

熱処理を行うことなく積層コンデンサの誘電体が持つ誘電吸収の問題を解決し、検査工程とテーピング包装工程とを連結可能にするとともに、リードタイムの短縮と設備の簡素化、省スペース化を図る。 - 特許庁

The manufacturing method of a co-fired, metallized high dielectric constant ceramic core comprises a process forming a precursor green laminate including at least one layer of core tape, wherein the core tape includes a process having a dielectric constant of at least 20, and a process firing the precursor green laminate.例文帳に追加

コアテープの少なくとも１つの層を含む前駆体グリーン積層体を形成する工程であって、該コアテープは少なくとも２０の誘電率を有する工程と；該前駆体グリーン積層体を焼成する工程とを含む、共焼成された金属化高誘電率セラミックコアを製造するための方法。 - 特許庁

A process for fabricating an electronic device comprises: depositing a dielectric composition, which comprises a dielectric material, a crosslinking agent, and an infrared absorbing agent, on a substrate; exposing the dielectric composition to infrared radiation to cure the dielectric composition to form a dielectric layer on the substrate; and forming a semiconductor layer on the substrate.例文帳に追加

電子デバイスの製造方法は、誘電性材料、架橋剤、及び赤外線吸収剤を含有する誘電性組成物を基材上に成膜する工程と、誘電性組成物を赤外線に暴露して誘電性組成物を硬化させ、基材上に誘電体層を形成する工程と、基材上に半導体層を形成する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

When a bonding/interlaminar region is formed, treatment gas is made to flow in a glow discharge process of a dielectric substrate.例文帳に追加

接着／層間領域を形成する際、誘電体基板のグロー放電プロセスにおいて、処理ガスを流入させる。 - 特許庁

To prepare a film with a low dielectric constant of 2.0-3.0 and which can resist to a CMP process of an LSI.例文帳に追加

比誘電率が２．０〜３．０で、ＬＳＩのＣＭＰ工程に耐える機械強度を有する低誘電率膜を提供する。 - 特許庁

In this state, an oxygen annealing process for recovering the deficit of the oxygen of the dielectric layer 91 composed of PZT is carried out.例文帳に追加

この状態で、ＰＺＴからなる誘電体層９１の酸素欠損を回復される酸素アニール工程を行う。 - 特許庁

To provide a low dielectric constant material suited to interlayer insulation films which improves the process time of signals.例文帳に追加

信号の処理速度向上が得られる層間絶縁膜として好適な誘電率が小さな材料を提供する。 - 特許庁

To provide a hollow fiber membrane type medical instrument, capable of effectively preventing dielectric breakdown in an electron beam sterilization process.例文帳に追加

電子線滅菌処理において、絶縁破壊を効果的に防止可能な中空糸膜型医療用具を提供する。 - 特許庁

Afterwards, the dielectric film 139 is subjected to a metal sputtering process to form a conductive material layer 180 thereon.例文帳に追加

その後、誘電体フィルム１３０に金属スパッタリングプロセスを施してその上に導電性物質層１８０を形成する。 - 特許庁

To simplify a thin-film formation process, and to suppress the formation of a film with low dielectric constant by the oxidation of a lower electrode.例文帳に追加

薄膜成膜工程を簡単にして、下部電極が酸化されて低誘電率膜が形成されるのを抑制する。 - 特許庁

After forming a hole in the dielectric 14, the hole is filled with an electrode material, consequently a production process is simplified.例文帳に追加

誘電体１４に孔を形成した後に、該孔に電極材料を充填するため、製造プロセスが簡略化する。 - 特許庁

In addition, a reoxidizing process can be utilized through the above-mentioned sintering cycle for optimizing the dielectric breakdown resistance of the ceramic.例文帳に追加

また再酸化処理がセラミックの耐絶縁破壊を最適化するために上記焼結サイクルを通じて利用できる。 - 特許庁

In this state, an oxygen annealing process for recovering the deficit of the oxygen of the dielectric layer 91 composed of a PZT is carried out.例文帳に追加

この状態で、ＰＺＴからなる誘電体層９１の酸素欠損を回復される酸素アニール工程を行う。 - 特許庁

After each chamber cleaning process, an electrostatic chuck 32 is subjected to pre-coating by using a dielectric layer 76 such as SiO_2.例文帳に追加

本発明は、各チャンバクリーニングプロセス後に、SiO_2等の誘電体層７６で静電チャック３２のプリコーティングを行うものである。 - 特許庁

This silicon nitride film 17 may be formed in the same process as with a dielectric film 17 of a capacity element 33.例文帳に追加

この窒化シリコン膜１７は、容量素子３３の誘電膜１７と同一工程で形成されたものであっても良い。 - 特許庁

In addition, it is made possible to simplify the manufacturing process while increasing the selectivity of the electrode material and the dielectric material.例文帳に追加

また、電極材料及び誘電体材料の選択性が増すとともに、製造プロセスの簡略化が可能となる。 - 特許庁

To prevent the deterioration of device characteristics by preventing the configuring atoms of a high dielectric film in a process from scattering.例文帳に追加

プロセス中における高誘電体膜の構成原子の飛散を防止することでデバイス特性の劣化を回避する。 - 特許庁

To prevent a film from being peeled off in a manufacturing process by improving adhesion between a film of a low dielectric constant and an inorganic insulating film.例文帳に追加

低誘電率膜と無機絶縁膜との密着性を向上させて、製造工程中の膜剥離を防止する。 - 特許庁

To obtain a dielectric ceramic composition for microwave use having excellent sintering characteristics and dielectric characteristics and enabling the use of an electrode having low melting point with a simple production process at a low cost by mixing ZnNb2O6 with TiO2 at a proper molar ratio.例文帳に追加

（１−ｘ）ＺｎＮｂ２Ｏ6−ｘＴｉＯ２系組成物とこれに添加剤が添加された低温焼結用のマイクロ波誘電体セラミック組成物が開示される。 - 特許庁

To provide a dielectric layer forming device capable of shortening a time required for a coating process of a dielectric layer, and a method for manufacturing a PDP using it in a short time.例文帳に追加

誘電体層の塗布工程にかかる時間を短縮する誘電体層の形成装置及びそれを用いた短い工程時間によるＰＤＰの製造方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, if the dielectric layer is formed by the vacuum process method or flame spray coating, buckling or the crack of the panel caused by the baking of the dielectric layer is eliminated.例文帳に追加

また、誘電体層を真空プロセス法或は溶射法で形成すれば、誘電体層の焼成に基づくパネルの反りや割れの発生がなくなり、第２の目的も達成される。 - 特許庁

To provide the use method of a substrate carrying container suitable for a semiconductor chip manufacturing process or the like combining copper wiring and a low dielectric constant insulation film whose dielectric constant is 3 or less.例文帳に追加

銅配線と誘電率が３以下のいわゆる低誘電率絶縁膜を組合せた半導体チップ製造工程等に用いて好適な基板搬送容器の使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide a capacitor built-in wiring board, along with a manufacturing method thereof and a capacitor thereof, capable of incorporating a capacitor which has a dielectric body of high specific dielectric constant and has a good characteristic by a simple process.例文帳に追加

高比誘電率の誘電体を有しかつ特性のよいキャパシタを、簡易なプロセスで内蔵可能なキャパシタ内蔵配線板、その製造方法、およびそのキャパシタを提供すること。 - 特許庁

When the dielectric layer is formed by a vacuum process method or a thermal spraying method, occurrence of warpages or cracks of the panel based on the baking of the dielectric layer is eliminated, so that the second purpose can be accomplished.例文帳に追加

また、誘電体層を真空プロセス法或は溶射法で形成すれば、誘電体層の焼成に基づくパネルの反りや割れの発生がなくなり、第２の目的も達成される。 - 特許庁

The dual mode inductively coupled plasma reactor 100 includes a process chamber 110 having a dielectric lid 120 and a plasma source assembly 160 disposed above the dielectric lid 120.例文帳に追加

デュアルモード誘導結合プラズマリアクタ１００は、誘電性蓋部１２０を有する処理チャンバ１１０及び誘電性蓋部１２０の上に配置されたプラズマソースアセンブリ１６０を含む。 - 特許庁