「dielectric process」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The temperature controlling method of microwave heating includes a process in which mocrowaves are irradiated on a ferroelectric and a heating temperature is controlled by a variation of a dielectric property around a Curie point of the ferroelectric.例文帳に追加

強誘電体にマイクロ波を照射し、強誘電体のキュリーポイントの前後での誘電特性の変化により加熱温度を制御するマイクロ波加熱の温度制御方法の構成とした。 - 特許庁

The process occurs by dispersing the microwaves' energy using a polarization mechanism and electric conductivity generated in the reaction medium by virtue of the high dielectric permittivity, further enhanced by the catalyst.例文帳に追加

本過程は、高い誘電率と、さらに触媒によって補強されて反応溶媒に生み出される、分極機構および電気伝導度によってマイクロ波エネルギーを分散させることによって生じる。 - 特許庁

The main ashing process includes exposing a previously etched dielectric layer to plasma (48) of hydrogen (50) and optional nitrogen (54), a larger amount of water vapor (60), and further a large amount of argon (80) or helium.例文帳に追加

メインアッシング工程は、水素（５０）及び任意の窒素（５４）、大量の水蒸気（６０）、更に大量のアルゴン（８０）又はヘリウムのプラズマ（４８）に、予めエッチングしておいた誘電体層を露出することを含む。 - 特許庁

To provide dielectric paste for level difference dissolution configuring highly reliable laminated electronic components and margin sections capable of preventing the occurrence of any crack or delamination in a baking process.例文帳に追加

焼成工程におけるクラックやデラミネーションなどの発生を防止することが可能な高信頼性の積層セラミック電子部品及び余白部を構成する段差解消用誘電体ペーストを提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display panel in which a calcining process in forming an electrode and dielectric layer can be simplified, and moreover, an inspection and rectification of the electrode can be done suitably.例文帳に追加

電極および誘電体層の形成工程における焼成工程を簡略化でき、かつ、電極の検査および修正を好適に実施できるＰＤＰの製造方法を提供する。 - 特許庁

The inside of the treatment chamber is prepared to the relative dielectric-constant environment corresponding to methanol (a second solvent) because the treatment chamber is supplied with the treatment fluid mixing an environment conditioner containing methanol with SCC02, even in a second washing process in succession to the first washing process.例文帳に追加

また、第１洗浄工程に続く第２洗浄工程においても、メタノールを含む環境調整剤をＳＣＣＯ2に混合してなる処理流体が処理チャンバーに供給されるため、処理チャンバー内がメタノール（第２溶剤）に対応する比誘電率環境に整えられている。 - 特許庁

To provide a composition for forming an insulating film that is capable of forming an insulating film low in moisture absorption and a relative dielectric constant, excellent in etching resistance and chemical resistance and also excellent in mechanical strength, to provide a polymer and a process for producing the polymer, to provide a process for producing an insulating film and to provide a silica-based insulating film.例文帳に追加

吸湿性および比誘電率が低く、エッチング耐性および薬液耐性に優れ、かつ、機械的強度に優れた絶縁膜を形成することができる絶縁膜形成用組成物、ポリマーおよびその製造方法、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。 - 特許庁

The abutting state with the barrier ribs 12 is made uniform since the dielectric layer 4b of the second layer is softened in the sealing process and/or the exhaust process, and thereby the abutting accuracy is improved, and the plasma display panel capable of displaying the excellent image and the manufacturing method can be realized.例文帳に追加

以上により、封着工程および／または排気工程において第二層目の誘電体層４ｂが軟化することで隔壁１２との当接状態が均一化されるため、当接精度が向上し、良好な画像表示が可能なプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法が実現できる。 - 特許庁

To increase the capacitance of a solid electrolytic capacitor while suppressing the cracking or crystallization of a dielectric layer and preventing increase in leakage current when a heat treatment process such as a reflow process is performed for the solid electrolytic capacitor.例文帳に追加

固体電解コンデンサに対してリフロー工程等の熱処理工程を行った場合において、誘電体層中に亀裂を生じたり、誘導体層が結晶化したりするのを抑制し、漏れ電流が増加するのを防止すると共に、固体電解コンデンサの静電容量を増大させる。 - 特許庁

A manufacturing process of an apparatus for fabricating a semiconductor device which processes a substrate to be processed mounted on a sample stand in a container comprises a step for forming a dielectric film on the upper surface of the sample stand by spraying and cleaning the dielectric film with fluid, and a step for mounting a wafer on the upper surface of the dielectric film and attracting the wafer electrostatically a plurality of times.例文帳に追加

容器の内部の試料台上に載置された被処理基板を処理する半導体デバイス製造装置の製造方法であって、前記試料台の上面に誘電体製の膜を溶射により形成した後にこの誘電体製の膜を流体を用いて洗浄する工程と、前記誘電体製の膜の上面にウエハを載せて静電吸着させる処理を複数回行う工程とを備えた。 - 特許庁

This manufacturing process of the laminated stator comprises forming a first dielectric block 11 in a die, printing an inner electrode 4 and a connection electrode 7 on the first dielectric block 11 surface, laminating a second dielectric block 13 on the printed surface to form a molding 14, baking the molding 14 and dividing the molding 14 at the middle of the connection electrode 7 to form a laminate 6.例文帳に追加

積層ステータ１を形成するにあたって、先ず第１の誘電体ブロック１１を金型成形し、この第１の誘電体ブロック１１表面に内部電極４及び接続電極７を印刷し、この印刷面上に第２の誘電体ブロック１３を積層して成形体１４を形成し、この成形体１４を焼成した後に接続電極７の中程で分割して積層体６を形成した。 - 特許庁

The manufacturing method of the piezoelectric element includes processes of forming a lower electrode 20 above a base 10; forming the dielectric layer by carrying out a pair of a first process of forming a laminar portion 311a above the lower electrode 20 and a second process of making the laminar portion 311a thin by chemical polishing once or a plurality of times; and forming an upper electrode above the dielectric layer.例文帳に追加

本発明にかかる圧電素子の製造方法は、基体１０の上方に下部電極２０を形成する工程と、下部電極２０の上方に層状部３１１ａを形成する第１工程、および、層状部３１１ａを化学的機械研磨により薄くする第２工程の組を１または複数回行い、誘電体層を形成する工程と、誘電体層の上方に上部電極を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a gate formation method of a semiconductor device capable of minimizing tunnel oxide film loss, preventing a semiconductor substrate from being damaged, and improving cell characteristics by removing a nitride film in a wet etching process when performing the gate etching of a SANOS structure where a dielectric film is formed by a high-dielectric substance.例文帳に追加

誘電体膜を高誘電物質で形成したＳＡＮＯＳ構造のゲートエッチングの際、窒化膜をウェットエッチング工程で除去することにより、トンネル酸化膜損失を最小化し、半導体基板の損傷を防止してセル特性を向上させることが可能な半導体素子のゲート形成方法の提供。 - 特許庁

Owing to the adhesive characteristic of the dielectric layers, the two metal layers as intermediate layer are unlikely to separate from each other during formation of the built-up structures, but after portions of the dielectric layer around the periphery of the two metal layers are finally cut, the two metal layers can be readily separated from each other, and the process can be simplified.例文帳に追加

本発明は最初に誘電体層の粘着特性によって中間層である二つの金属層をビルドアップ構造の形成過程にて分離させず、最後に二つの金属層の周囲の誘電体層部分を切断することにより、二つの金属層を円滑に分離させることで、プロセスを簡略化することができる。 - 特許庁

In the manufacturing method of the rare earth magnet through an aerosol blowing process of blowing aerosol containing a dielectric material dispersed in a gas to the surface of a magnet element body containing rare earth elements, a protective layer containing the dielectric material is formed on the surface of the magnet element body.例文帳に追加

上記課題を解決する本発明の希土類磁石の製造方法は、希土類元素を含有する磁石素体の表面に、ガス中に分散された誘電体材料を含有するエアロゾルを吹き付けるエアロゾル吹付工程を経て、その磁石素体の表面上に誘電体材料を含有する保護層を形成するものである。 - 特許庁

To obtain a semiconductor apparatus having a high-yield wiring structure and high reliability by preventing interface peeling between a liner film which is formed under a low-dielectric constant film by a UV curing process to the low-dielectric constant film and on wiring and a film layered under the liner film without using a UV blocking film.例文帳に追加

低誘電率膜に対するＵＶキュア処理による低誘電率膜の下で且つ配線の上に形成されるライナ膜とその下層の膜との間の界面剥離を、ＵＶブロッキング膜を用いずに防ぐことにより、高歩留まりの配線構造を有する信頼性が高い半導体装置を得られるようにする。 - 特許庁

To provide a dielectric ceramic composition with a low dielectric loss even in a high frequency band manufactured by an economical low temperature process and to provide a method for manufacturing a ceramic capacitor using the composition.例文帳に追加

高周波数帯域においても誘電体損失が小さく、安定した特性を有し、しかも低温での焼成を実現することで電極材料に卑金属を用いることができ、したがって、製造コストを大幅に低下させることができる誘電体磁器組成物とそれを用いた磁器コンデンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing process of a semiconductor chip of 0.18 μm or less of a working line width using the copper wiring and the low dielectric constant insulation film whose dielectric constant is 3.0 or less is provided with the constitution of the substrate carrying container maintaining, particularly, particle concentration in environmental gas, humidity, organic matter concentration and ion gas concentration at least a constant value or less.例文帳に追加

銅配線と比誘電率３．０以下の低誘電率絶縁膜を用いた加工線幅０．１８μｍ以下の半導体チップの製造工程において、特に環境気体中の粒子濃度、湿度、有機物濃度、イオン性ガス濃度を少なくとも１つ一定値以下に維持する基板搬送容器の構成を備えた。 - 特許庁

The laminated capacitor is manufactured by performing an operation once or more wherein the dielectric layer and a conductive layer are formed by lamination through a process for sequentially applying a composite for forming the dielectric layer and a composite for forming the conductive layer on a region for forming the laminated capacitor on a substrate by ink jet recording system.例文帳に追加

積層キャパシタの製造方法は、基板上の積層キャパシタを形成する領域に、誘電体層形成用組成物および導電層形成用組成物をインクジェット記録方式により順次塗布する工程を経て誘電体層および導電層を積層形成する操作を、１回以上行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electrostatic discharge detecting element such that if a dielectric breakdown due to an electrostatic discharge occurs to an IC chip in a manufacturing process of manufacturing electronic equipment such as a control unit of an engine by mounting the IC chip on a substrate, the occurrence of the dielectric breakdown can be detected with high precision, and to provide an electrostatic discharge detecting method.例文帳に追加

ＩＣチップを基板上に実装し、エンジンの制御ユニット等の電子機器を製造する製造工程において、当該ＩＣチップで静電気放電による絶縁破壊が発生した場合に、その旨を高い確度で検出可能な静電気放電検出素子及び静電気放電検出方法を提供すること。 - 特許庁

This process is achieved by printing a conductive post 205 on a first patterned conductive layer, then depositing an unpatterned dielectric layer 207, and then depositing a second patterned conductive layer.例文帳に追加

このプロセスは、第１のパターン化された導電層上に導電ポスト２０５を印刷し、次にパターン化されていない誘電層２０７を堆積させ、次に第２のパターン化された導電層を堆積させることによりなし得る。 - 特許庁

Then, a pattern forming process is carried out for the transparent conductive layer, a source and a drain are formed, an active layer is formed in such a manner that the source, the drain, and the dielectric layer are covered, and a self-alignment TFT structure is completed.例文帳に追加

次に、該透明導電層にパターン形成プロセスを実行して、ソースとドレインとを形成し、ソース、ドレイン、及び誘電体層を覆うようアクティブ層を形成して、自己整合ＴＦＴ構造体が完成する。 - 特許庁

Since the height of the SiO_2 protruding part 14 agrees with the total thickness of the dielectric film 18 and the upper electrode film 20, the lower electrode film 16 is exposed from the SiO_2 protruding part 14 by a CMP process.例文帳に追加

ＳｉＯ_２凸部１４の高さが、誘電体膜１８及び上部電極膜２０の合計の厚さと一致しているため、ＣＭＰプロセスにより、ＳｉＯ_２凸部１４上に下部電極膜１６が露出するようになる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which realizes a low dielectric constant and does not produce film defects such as peeling in the manufacturing process, and to provide a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

低誘電率化を実現するとともに、製造工程において膜剥離などの不良を発生することのない有機絶縁膜材料を用いた半導体装置および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

What is equivalent to a binder resin for composing the paste is used as a substrate material for making equal heat shrinkage, thus suppressing influence to dielectric characteristics due to heat generated in a subsequent process, varistor characteristics, and conductive characteristics.例文帳に追加

また、基板材料にペーストを構成するバインダー樹脂と同等のものを使用することにより熱収縮を同等にし、後工程で発生する熱による誘電特性、バリスタ特性、導電特性への影響を抑える。 - 特許庁

The method includes the process in which, after forming a fluid polymerized film into a gap by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method, an in-situ treatment to convert the film to a dielectric material is performed.例文帳に追加

間隙に流動性重合膜をプラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）法によって形成した後で、当該膜を誘電材料に変換するためのインサイチュ（ｉｎ−ｓｉｔｕ）処理を実行することを含む。 - 特許庁

To improve an yield and to improve a device working rate in the manufacturing process of an optical recording medium using a dielectric layer, especially an MO, an MD, a CD-RW and a DVD-RW/+RW/-RAM disk.例文帳に追加

誘電体層を用いる光記録媒体、特にＭＯ、ＭＤ、ＣＤ−ＲＷ及びＤＶＤ−ＲＷ／＋ＲＷ／−ＲＡＭディスクの製造工程における歩留向上および装置稼働率の向上。 - 特許庁

To provide a laminated strip line filter where the variance of an attenuation pole of filter characteristics caused by lamination deviation occurring in a process of laminating a plurality of dielectric layers can be reduced.例文帳に追加

積層ストリップラインフィルタにおいて、複数の誘電体層を積層する工程において発生する積層ずれによるフィルタ特性の減衰極の変動を低減することができる積層ストリップラインフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a structure and a process for incorporating air or another gas in a multi-layer chip as a permanent dielectric medium by supplying a CVD diamond as dielectrics in semi-sacrificial layer and in-layer dielectrics.例文帳に追加

ＣＶＤダイヤモンドを半犠牲層間および層内誘電体として供給することによって、空気またはその他の気体を永久誘電媒体として多層チップに組み込むための構造およびプロセスを提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer, a method for manufacturing it and a semiconductor chip capable of preventing film peeling in a dicing process even in using a low dielectric constant insulating film whose mechanical strength and adhesion strength is deteriorated.例文帳に追加

機械的強度、密着強度の劣る低誘電率絶縁膜を用いてもダイシング工程での膜剥がれを防止することが可能な半導体ウェーハ、その製造方法及び半導体チップを提供する。 - 特許庁

To prevent generation of defective leak due to breakdown through an upper electrode and a capacitance dielectric film because of difference in contact depth at the upper and lower electrodes during the etching process of via holes in an MIM type capacitance element.例文帳に追加

ＭＩＭ型容量素子において、ヴィアホールのエッチング時に上部電極と下部電極ではコンタクト深さが異なるため、上部電極及び容量誘電膜の突き抜けによるリーク不良が発生する。 - 特許庁

To make feasible of applying the self alignment process to a gate insulating film having no damage thereto in the case of manufacturing a transistor having the gate insulating film of a high dielectric or ferroelectric in relation to the manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、高誘電体或いは強誘電体のゲート絶縁膜をもつトランジスタを製造する際、ゲート絶縁膜にダメージも与えずにセルフ・アライメント方法を適用できるようにする。 - 特許庁

To provide a lead-free piezoelectric ceramic composition which can be fired under atmospheric pressure and shows a high mechanical quality factor and a small dielectric loss, its preparation process and a piezoelectric element manufactured using the composition.例文帳に追加

鉛を含まず，常圧にて焼成が可能であり，かつ機械的品質係数が高く誘電損失が小さい圧電磁器組成物及びその製造方法，並びに該圧電磁器組成物を利用した圧電素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a high reliability thin film capacitor by preventing the exfoliation of the periphery of a thin film upper electrode and a dielectric layer from a support substrate, in a photolithographic etching process, after the formation of the thin film upper electrode layer.例文帳に追加

薄膜上部電極層形成後のフォトリソエッチング工程において、薄膜上部電極及び誘電体層の外周部の支持基板からの剥離を防止し、信頼性の高い薄膜コンデンサを提供する。 - 特許庁

The end point of etching in a process for forming the grooves 10a and 10b is detected by stopping etching with specific count (count four) while counting the change in emission of each of the dielectric films 5-9.例文帳に追加

上記溝１０ａ，１０ｂを形成する工程においてエッチングの終点検出は、各誘電体膜５〜９の発光の変化をカウントして所定のカウント（４カウント）でエッチングを停止させることにより行う。 - 特許庁

A ground of a paste for a color filter layer in a process where a problem of a mixed color of color filter layers 6, 7, 8 occurs, a paste for a transparent dielectric layer of a surrounding layer, and a paste for a black stripe layer, are dried beforehand.例文帳に追加

カラーフィルタ層６，７，８の混色の問題となる工程でのカラーフィルタ層用ペーストの下地及び周辺の層である透明誘電体層用ペースト及びブラックストライプ層用ペーストを予め乾燥させる。 - 特許庁

To provide a method for forming an insulating film and the insulating film, wherein the insulating film at a low relative dielectric constant and excellent in resistance or the like to a process such as etching, ashing or wet cleaning can be formed.例文帳に追加

低比誘電率であり、エッチング，アッシングあるいはウエット洗浄などのプロセスに対する耐性などにも優れた絶縁膜を形成することができる絶縁膜の形成方法および絶縁膜を提供する。 - 特許庁

To obtain a titanate multiple oxide particle of a particular shape which is especially suitable for a dielectric material, a piezoelectric material, an electrostrictive material, transparent ceramic, a high refractive index material, etc., and its preparation process.例文帳に追加

誘電材料や圧電材料、電歪材料、透明セラミックさらには高屈折率材料などに特に適した特定の粒子形状を有するチタン酸複合酸化物粒子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a plasma display panel holding the shape of a raised dielectric layer patterned in a baking process, and sufficiently displaying a function suppressing the spreading of discharge on a bus electrode.例文帳に追加

焼成工程におけるパターニングされた嵩上げ誘電体層の形状を保持することができ、バス電極上への放電の広がりを抑制する機能を十分発揮できるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

When the fluorine remains therein, the fluorine is so dissolved in a water by the rinsing of a cleaning process performed thereafter, etc., and is so changed into a hydrofluoric acid as to generate voids in after-processes by etching the porous low dielectric-constant film 3a.例文帳に追加

フッ素が残留すると、その後の洗浄工程の水洗などによりフッ素が水に溶解してフッ酸となり、多孔質低誘電率膜３ａをエッチングし、その後の工程でボイドが発生してしまう。 - 特許庁

To solve the problem of difficulties in the practical use of a porous low dielectric constant film for the multilayer wiring of a semiconductor device since the physical strength of a porous film is low and it tends to change chemically in a process.例文帳に追加

半導体装置の多層配線に多孔質の低誘電率膜を用いることは、多孔質膜の物理的強度が低いことおよび、プロセス中に化学的にも変化しやすいことから実用上困難である。 - 特許庁

By using a UV/ozone treatment including an oxidizer or a process of oxidizing supercritical carbon dioxide or the like, the sidewall of each contact hole is converted into a modified material 4 containing less carbon than the first dielectric material 1.例文帳に追加

酸化剤を含んだＵＶ／オゾン処理若しくは超臨界二酸化炭素などの酸化工程によりコンタクトホールの側壁に第１誘電体材料１より少ない炭素を含む変更された材料４に変換する。 - 特許庁

During this process, by exposing the first electrode 20 under the plasma of pure nitrogen, the partial oxidization of the first electrode 20 is prevented and the density of the charge trap on an electrode/dielectric interface is reduced.例文帳に追加

この工程中第１の電極２０を純窒素のプラズマに露出することにより、第１の電極２０の部分的な酸化が防止され、電極／誘電体インタフェースにおける電荷トラップの密度が低減される。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device including a capacitor employing a metal oxide dielectric in which reaction between a wiring material of Al and an electrode material of Pt can be suppressed effectively.例文帳に追加

配線材料であるＡｌと電極材料であるＰｔとの反応を効果的に抑制することができる、金属酸化物誘電体を用いたキャパシタを備える半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This liquid crystal display device is provided with a display manufactured by a liquid crystal dropping process using a nematic liquid crystal composition with positive dielectric anisotropy comprising a fluorine-containing compound with ≥4 fluorine atoms.例文帳に追加

フッ素原子を４個以上有するフッ素含有化合物を含有し、正の誘電異方性を有するネマチック液晶組成物を用いて、液晶滴下法により作成された表示体を備えている液晶表示装置。 - 特許庁