「electron beam process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD AND SYSTEM FOR MONITORING PROCESS VARIATION USING ELECTRON BEAM例文帳に追加

電子線を用いたプロセス変動監視システムおよび方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM CURABLE TONER, ITS MANUFACTURING METHOD AND USE PROCESS例文帳に追加

電子ビーム硬化性トナー及びその製造及び使用プロセス - 特許庁

DEVICE FOR MULTI-ELECTRON BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND ITS FABRICATION PROCESS例文帳に追加

マルチ電子ビーム描画装置用デバイス及びその製造方法 - 特許庁

LITHOGRAPHIC PROCESS FOR MANUFACTURING DEVICE USING ELECTRON BEAM IMAGING例文帳に追加

電子ビ—ム・イメ—ジングを使用するデバイス製造のためのリソグラフィック・プロセス - 特許庁

To provide an electron beam lithography process which is reduced in line width variation.例文帳に追加

線幅変化が低減された電子ビーム・リソグラフィ・プロセスを提供する。 - 特許庁

SMALL QUANTITY PARTICLE BATCH PROCESS SYSTEM USED FOR ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS例文帳に追加

電子線照射装置に使用する粒体少量バッチ処理システム - 特許庁

Electron beam irradiation process is applied on the surface of the silicone rubber.例文帳に追加

このシリコンゴムの表面には電子線を照射する処理が施されている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electron emission element having easy manufacturing process and high controllability of electron beam diameters.例文帳に追加

製造プロセスが容易で、電子ビーム径の制御性が良好な電子放出素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The electron beam lithography process includes a step of generating an electron beam, and another step of introducing the electron beam through the first square aperture in a first lamina.例文帳に追加

本発明の態様によれば、電子ビーム・リソグラフィ方法が提供され、これは電子ビームを生成するステップと、電子ビームを第１のラミナ内の第１の正方形アパーチャを通じて導くステップとを含む。 - 特許庁

By irradiating the process gas introduced from the gas bombs 21 with the electron beam, gas molecules of the process gas are ionized.例文帳に追加

ガスボンベ２１から導入された処理ガスに電子線を当てることにより処理ガスの気体分子が電離する。 - 特許庁

Then, in a second beam irradiation process step S3-2, electron beam scanning is conducted in the opposite direction from the beam scanning direction in the first beam irradiation process step S3-1 along the outer periphery of the cover from the point R to successively irradiate the electron beam to the point Q.例文帳に追加

続いて、第二のビーム照射工程ステップＳ３−２において、点Ｒから蓋体の外周に沿って第一のビーム照射工程ステップＳ３−１のビーム走査方向と対向する方向に順次ビームを走査して点Ｑまで電子ビームを照射する。 - 特許庁

To improve a process margin for field connection to increase manufacturing yields in a data forming method for electron beam lithography, an electron beam lithography method, a method of manufacturing a semiconductor device, and an electron beam lithography device.例文帳に追加

電子線露光用データの作成方法、電子線露光方法、半導体装置の製造方法及び電子線露光装置に関し、フィールド接続に伴うプロセスマージンを向上して製造歩留りを向上させる。 - 特許庁

In an alternative method of producing this thermal barrier coating, electron beam physical vapor deposition process is used.例文帳に追加

この遮熱コーティングを製造する別の方法では電子ビーム物理蒸着を使用する。 - 特許庁

To provide an electron-emitting element of a field emission type, achieving a small electron beam diameter, a large electron emission area, highly efficient electron emission at a low voltage, and an easy manufacturing process.例文帳に追加

電子ビーム径が小さく、電子放出面積が大きく、低電圧で高効率な電子放出が可能で、製造プロセスが容易な電界放出型の電子放出素子を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography system which can reduce the influence of electron beam leakage on a sample by dislocating a stage when a pattern-drawing process is suspended.例文帳に追加

描画処理が一時的に停止した場合に、ステージを移動して電子ビーム漏れによる試料への影響を低減することのできる電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EXTREME ULTRAVIOLET RAY (EUV), AND PATTERN FORMING PROCESS BY USE OF IT例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM-CURABLE RESIN FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, ITS MANUFACTURING PROCESS, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING IT例文帳に追加

磁気記録媒体用電子線硬化型樹脂、その製造方法およびそれを用いた磁気記録媒体 - 特許庁

To process a copper processed wafer and a non-copper processed wafer using an electron beam inspection apparatus, without copper contamination.例文帳に追加

ウェーハへの銅汚染なく銅プロセスウェーハと非銅プロセスウェーハを１台の電子線検査装置で処理する。 - 特許庁

To provide an electron emitting element that has a large area of electron emission and can be driven by low resistance wiring, and of which electron beam diameter can be made small and manufacturing process is easy, and an electron source and an image forming device.例文帳に追加

電子放出面積が大きく、低抵抗配線で駆動ができ、電子ビーム径が小さくでき、かつ製造プロセスが容易な電子放出素子、電子源、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a field-emission type electron emission element, an electron source and an image forming device wherein an electron beam diameter is small, wherein an electron emission area is large, wherein a highly efficient electron emission is possible by a low voltage and wherein a manufacturing process is easy.例文帳に追加

電子ビーム径が小さく、電子放出面積が大きく、低電圧で高効率な電子放出が可能で、製造プロセスが容易な電界放出型の電子放出素子及び電子源及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The process includes a step of irradiating toner with electron beam radiation, wherein the irradiation results in curing the toner and the electron beam radiation is generated by an electron beam curing system.例文帳に追加

本発明は、トナーに電子ビーム照射線を照射する工程を含むプロセスであって、該照射工程が該トナーの硬化を引き起こすこと、及び該電子ビーム照射線が電子ビーム硬化システムによって生成されることを特徴とする、該プロセスを提供する。 - 特許庁

In the pattern exposure process, the time when the electron beam 83 passes on the exposure position reference mark 21 is detected with the electron detector and the timing for irradiating the electron beam 83 is controlled with reference to the passing time.例文帳に追加

パターン露光を行う工程において、露光位置参照マーク21上を電子ビーム83が通過する時刻を電子検出器により検出し、通過時刻を基準として電子ビーム83を照射するタイミングを制御する。 - 特許庁

An electron beam cast from an electron beam tube 3 (EB tube) is passed through a window 4 to the inside of a process chamber 5 and cast onto an irradiating object 2 like resist or ink on a work 1.例文帳に追加

電子線管３（ＥＢ管）から放射される電子線は、窓４を介して処理室５内に放射され、ワーク１上に塗布されたレジストやインキ等の被照射物２に照射される。 - 特許庁

A apparatus 1 for eliminating contamination is provided with a vacuum pump 5 that evacuates the inside of a process chamber 3 in which objects 2 to be cleaned are placed, gas bombs 21 from which process gas is introduced into the process chamber 3, and an electron-beam irradiating means 9 that irradiates the objects 2 to be cleaned placed inside the process chamber 3 with the electron beam.例文帳に追加

汚染除去装置１は、被洗浄物２を置く処理室３に、処理室３内を排気する真空ポンプ５と、処理室３内に処理ガスを導入するガスボンベ２１と、処理室３内に置かれた被洗浄物２に電子線を照射する電子線照射手段９とを具備する。 - 特許庁

In the process for fabricating a device, electron beam writing with high writing precision, especially, with excellent CD precision can be achieved.例文帳に追加

デバイス製造方法によれば、電子ビーム描画の描画精度、特に、ＣＤ精度の優れた描画が可能となる。 - 特許庁

ELECTRON BEAM CURABLE POLYURETHANE RESIN FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, MANUFACTURING PROCESS THEREFOR, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING THE SAME例文帳に追加

磁気記録媒体用電子線硬化型ポリウレタン樹脂、その製造方法およびそれを用いた磁気記録媒体 - 特許庁

To provide an electron beam exposing apparatus, an electron beam exposing method and an electron beam exposing system for exposing a plurality of dies depending on a pattern formed on each die in a front-end process, during continuously and simultaneously exposing the dies on a sample using a plurality of masks.例文帳に追加

複数のマスクを使用して連続して同時に試料上の複数のダイに露光を行う際に、個々のダイ上に前工程で形成されたパターンに応じて露光を行う電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法および電子ビーム露光システムを提供する。 - 特許庁

This pattern forming method includes a process wherein an electron beam emission element 10 having at least one pyramid part 18 whose surface is made of diamond is prepared; a process wherein an electron beam 19 is emitted from the pyramid part 18 to expose an electron beam sensitive resist layer 22 by applying a voltage; and a process wherein a portion of the resist layer 22 is removed to execute patterning.例文帳に追加

表面がダイヤモンドからなる少なくとも一つの錐体部１８を有する電子線放出素子１０を用意する工程と、電圧を印加して錐体部１８から電子線１９を放出させて、電子線感応性のレジスト層２２を暴露する工程と、レジスト層２２の一部を除去してパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

PROCESS FOR ADJUSTING FEED RATE IN ELECTRON-BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS, ELECTRON BEAM PHYSICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTI-COMPONENT CONDENSATE FREE OF LAMINATION USING THE APPARATUS例文帳に追加

電子ビーム物理蒸着装置において送り速度を調整する方法、電子ビーム物理蒸着装置、およびこの装置を用いた層状化の発生していない多成分凝縮物の製造方法 - 特許庁

Since there is the gas with density lower than the air (nitrogen) in the process chamber 5, the attainable length of the electron beam from the electron beam tube is made long or its attainable range is made large.例文帳に追加

処理室５内を、空気（窒素）よりも密度の低い気体の雰囲気としたので、電子線管から照射される電子線が到達する距離を長く、また、到達する範囲を広くすることができる。 - 特許庁

The electron beam test system analyzes faulty or breakdown caused by a process defect by irradiating an electron beam to a semiconductor integrated circuit device to be analyzed and obtaining a potential contrast.例文帳に追加

被解析対象物である半導体集積回路装置に電子ビームを照射して電位コントラストを取得することにより、プロセス欠陥に起因する不良又は故障を解析する電子ビームテストシステムである。 - 特許庁

To provide a process for electron beam exposure employing a character projection (CP) method that can enable highly precise charged particle beam exposure in carrying out the charged particle beam exposure employing the CP method.例文帳に追加

キャラクタプロジェクション（ＣＰ）方式を用いた荷電粒子ビーム露光において、高精度な荷電粒子ビーム露光を実現可能なＣＰ方式の電子ビーム露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electron-beam wafer inspection device capable of shortening a time required for subjecting a wafer to an inspection process.例文帳に追加

１個のウエハの検査処理に要する時間を短くすることができる電子線式ウエハ検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a hollow fiber membrane type medical instrument, capable of effectively preventing dielectric breakdown in an electron beam sterilization process.例文帳に追加

電子線滅菌処理において、絶縁破壊を効果的に防止可能な中空糸膜型医療用具を提供する。 - 特許庁

To provide a thin type CRT manufacturable by a simple process and allowing proper electron beam control and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

製造工程が簡単で適正な電子ビーム制御が可能な薄型ＣＲＴおよび製造方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a thin film suitable for use as a negative resist for electron beam lithography in a microstructure semiconductor process.例文帳に追加

微細構造半導体プロセスにおける電子線リソグラフィー用ネガレジストとして使用に適した薄膜を作製すること。 - 特許庁

A manufacturing process comprises a topping process of forming a fabric base material 6 with rubber by covering both faces of a fabric material 3 including the rayon code 2 as the warp yarn by a topping rubber 4 and an electron beam radiation process of radiating at least one face S of the fabric base material 6 with rubber with an electron beam.例文帳に追加

レーヨンコード２を縦糸としたファブリック材３の両面を、トッピングゴム４により被覆することによりゴム付きファブリック基材６を形成するトッピング工程と、前記ゴム付きファブリック基材６の少なくとも一面Ｓに電子線を照射する電子線照射工程とを含む。 - 特許庁

After a part or the whole of an electron generation part of the electron gun is replaced or maintained, a high voltage is applied to the electron gun in an evacuated state to execute a knocking process for enhancing withstand voltage performance; and, after completion of the process, normal usage for emitting an electron beam is carried out.例文帳に追加

電子銃の電子ビーム発生部の一部又は全部を、交換もしくはメンテナンスした後に、真空排気した状態で電子銃に高電圧を印加して、耐電圧性能を高めるためのノッキング処理を行い、処理の終了後に、電子ビームを出力させる通常の使用を行う。 - 特許庁

This method for forming the coated matter has a process of conveying an object, a process of applying a coating agent to the conveyed object and a process of irradiating the object the coating agent is applied with an electron beam obtained by a vacuum tube type electron beam irradiation device substantially in succession to the process of applying the coating agent.例文帳に追加

対象物を搬送する工程、搬送された対象物に被覆剤を施す工程および当該被覆剤を施す工程に実質的に連続して、被覆剤を施した対象物に、真空管型電子線照射装置により電子線を照射する工程を有することを特徴とする被覆物形成方法である。 - 特許庁

A method of manufacturing rubber goods comprizing a process of kneading the rubber composition, a process of irradiating the rubber composition thus kneaded with an electron beam and a process of curing thereafter is also provided.例文帳に追加

他の発明は前記ゴム組成物を混練りする工程、混練して得られたゴム組成物に電子線を照射する工程、その後加硫する工程からなるゴム製品の製造方法である。 - 特許庁

thus, even if a position correcting electron beam is in irradiated to the alignment mark 82 to correct the position in the next electron beam lithographic process, the electrons e of the beam do not stay at the alignment mark 82, but will flow into the multi-layer film 42a.例文帳に追加

したがって、次工程の電子ビームリソグラフィにおける描画位置を補正するためにアライメントマーク８２に位置補正用電子ビームを照射しても、当該電子ビームの電荷ｅはアライメントマーク８２に滞留することなく多層膜４２ａに流れ込む。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにＯＰＣパタン付加する処理過程あるいはＯＰＣ付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

In development simulation process of this resist pattern forming method, a substrate after electron beam lithography is developed using a developer under the predetermined development condition.例文帳に追加

現像工程では、電子線描画後の基板を現像液を用いて予め定められた前記の現像条件で現像する。 - 特許庁

To make it possible to process a work, regardless of a thick body or large body, by casting large energy an electron beam to the work even when the length between an vacuum tube type electron beam tube and the work is long.例文帳に追加

真空管型の電子線管と被処理物との距離が長くなっても、大きなエネルギーの電子線を被照射物に照射できるようにし、ワークが厚かったり、大きなワークであっても処理できるようにすること。 - 特許庁

After the process A and the process B in the method for manufacturing the diamond electron source, the top end becomes a spherical surface of the diamond surface and as a result becomes an optimal diamond electron source for generating a large current/high focused electron beam and surpasses a conventional electron source in electron source performance such as an angle current density and luminance or the like.例文帳に追加

該工程Ａ及び該工程Ｂをダイヤモンド電子源の製造工程で実施することによって、先端がダイヤモンド表面である球面形状となる結果、大電流・高収束電子ビームを発生させるために最適なダイヤモンド電子源となり、角電流密度や輝度といった電子源性能で従来電子源を凌駕することができる。 - 特許庁