「electron processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To manufacture a field electron emission source of high electron emission capability by performing preferred raising processing on a field electron emission material containing nano fibers.例文帳に追加

ナノ繊維を含む電界電子放出材料を用いて、良好な起毛処理を行うことにより、電子放出能力の高い電界電子放出源を製造すること。 - 特許庁

The processing progress is monitored by running the electron beam, and detecting secondary electrons generated from the object by a secondary electron detector to acquire an electron microscope image.例文帳に追加

また、電子ビームを走査させ、物体から発生した二次電子を二次電子検出器で検出し電子顕微鏡画像を取得して、加工の進行状況をモニタリングする。 - 特許庁

At least one electron beam irradiation means for irradiating the irradiation target with electron beams is arranged on the irradiation processing tank 10.例文帳に追加

照射処理槽１０には、被照射物を電子線照射する少なくとも一つの電子線照射手段を設けている。 - 特許庁

PROCESSING METHOD USING FOCUSED ION BEAM, NANOTUBE PROBE, MICROSCOPE DEVICE, AND ELECTRON GUN例文帳に追加

集束イオンビームを用いた加工方法、ナノチューブプローブ、顕微鏡装置、及び電子銃 - 特許庁

To accelerate the exposure processing of exposure control data, in an electron beam exposure system.例文帳に追加

電子ビーム露光装置における露光制御データの展開処理を高速化する。 - 特許庁

METHOD FOR EXPOSING TO ELECTRON BEAM, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PROCESSING EXPOSURE PATTERN DATA, AND PROGRAM例文帳に追加

電子ビーム露光方法、半導体装置、露光パターンデータ処理方法およびプログラム - 特許庁

To provide an electron beam exposure system capable of processing exposure at a high speed.例文帳に追加

高速に露光処理を行うことができる電子ビーム露光装置を提供する - 特許庁

To provide an electron beam processing method and an electron beam processing system in which deterioration in the k value of an insulating film and lowering of chemical resistance can be suppressed.例文帳に追加

絶縁膜のｋ値の悪化や耐薬品性の低下を抑制することができる電子ビーム処理方法及び電子ビーム処理装置を提案することを目的としている。 - 特許庁

The electron-beam processing is previously performed on the polyimide film surface so as to be activated.例文帳に追加

ポリイミドフィルム表面にはあらかじめ電子線処理を施して活性化しておく。 - 特許庁

ELECTRON BEAM SYSTEM FOR MATERIAL PROCESSING, AMPLIFIER FOR CARRYING OUT HIGH-SPEED DRIVE OF INDUCTION ELEMENT, AND IMAGE GENERATING DEVICE FOR ELECTRON BEAM SYSTEM FOR MATERIAL PROCESSING例文帳に追加

材料加工用の電子ビームシステム、および誘導素子を高速駆動するための増幅器、および材料を加工するための電子ビームシステム用の画像生成装置 - 特許庁

The electron beam irradiation surface reforming device 1 is provided with an electron beam generation chamber 25, an electron beam housing 10 which forms the electron beam generation chamber 25 and has an emitting mouth 13a, and a processing housing 30 which forms a processing chamber 31 and has an incident mouth 30a.例文帳に追加

電子ビーム照射表面改質装置１が、電子ビーム発生室２５と、電子ビーム発生室２５を形成し出射口１３ａを有する電子ビームハウジング１０と、加工室３１を形成し入射口３０ａを有する加工ハウジング３０とを備える。 - 特許庁

To provide an electron source used for fusion in vacuum, welding, processing, and vapor deposition, capable of quickly changing a beam power of the electron gun.例文帳に追加

真空中での溶解、溶接、加工、および蒸着等に用いられる電子源において、電子銃のビームパワーを急速に変化させる。 - 特許庁

The structure analysis processing for the small angle electron beam scattering portion may be combined for use.例文帳に追加

また、小角電子線散乱部分の構造解析処理を併用することができる。 - 特許庁

The electron microscope and the processing system constituted for executing this method are provided.例文帳に追加

並びに、この方法を実施するように構成された電子顕微鏡及び加工システム。 - 特許庁

IMAGE PROCESSING METHOD AND PROGRAM FOR ELECTRON MICROSCOPE OBSERVATION IMAGE AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

電子顕微鏡観察像の画像処理方法および画像処理プログラム並びに記録媒体 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING UNIFORMITY IN BALLISTIC ELECTRON BEAM ACCELERATING PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

弾道電子ビーム促進プラズマ処理システムにおける均一性制御方法及びシステム - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of performing plasma processing on a workpiece by uniformly controlling an electron density distribution.例文帳に追加

電子密度分布を均一に制御し、プラズマ処理を被処理体に施すことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

ELECTROSTATIC DEFLECTING SYSTEM, ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SUBSTRATE例文帳に追加

静電偏向器及び電子線照射装置及び基板処理装置及び基板処理方法及び基板の製造方法 - 特許庁

To reduce a processing load of a digital processing device, when processing a detection waveform detected from a plurality of secondary electron detectors, in an array inspection device.例文帳に追加

アレイ検査装置において、複数の二次電子検出器から検出される検出波形を処理する際に、デジタル処理装置の処理負担を低減する。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device facilitating a repair for connecting a broken long processing object and an inspection inside the electron irradiation device.例文帳に追加

切れた長尺被処理物をつなぐ修理及び電子線照射装置内の点検を容易にする電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

The electron beam irradiation section 10 directs an electron beam passing through a window 14 to a processing solution 81 on the surface of the object 90 to be processed, so as to activate the processing solution 81.例文帳に追加

電子ビーム照射部１０は、窓１４を通過した電子ビームを処理対象物９０表面上の処理溶液８１に照射して、その処理溶液８１を活性化させる。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device and an electron beam irradiation processing apparatus provided with a collector electrode, which stably operate without requiring special mechanisms and processing.例文帳に追加

コレクター電極、これを備えた電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射処理装置において、特別な機構及び処理を施すことなく安定した動作を有する装置を提供する。 - 特許庁

HIGH-SPEED PROCESSING METHOD USING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND OPTICAL CIRCUIT MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加

電子線描画を利用したパターンの高速加工方法及びそれを用いて作製した光回路 - 特許庁

METHOD FOR DETECTING END POINT OF MODIFICATION OF FILM, ITS END POINT DETECTING DEVICE AND ELECTRON BEAM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

膜改質の終点検出方法、その終点検出装置及び電子ビーム処理装置 - 特許庁

FOCUSED ION BEAM PROCESSING METHOD, AND PREPARATION METHOD OF TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE SAMPLE USING IT例文帳に追加

集束イオンビーム加工方法およびそれを用いた透過型電子顕微鏡試料の作製方法 - 特許庁

Reading/writing processing is executed by an electron beam emitted from the carbon nanotube 16.例文帳に追加

カーボン・ナノチューブ１６から放出された電子線により読出し／書込み処理が実行される。 - 特許庁

Proximity effect correcting processing is performed at the time of forming the pattern, and the electron beam is exposed by a filtering result having reverse characteristics of the exposure characteristics of the electron beam.例文帳に追加

パターン形成時は、近接効果補正処理を行い、かつ電子線の露光特性の逆特性を有するフィルタ処理結果で電子線を露光する。 - 特許庁

The plasma processing system includes an electron source electrode, where direct current (DC) power is coupled to generate a ballistic electron beam in etching a substrate.例文帳に追加

基板のエッチング中に弾道電子ビームを生成するために、プラズマ処理システムは、直流（ＤＣ）電力が結合される電子源電極を含んでいる。 - 特許庁

An apparatus with a coaxial barrel of an FBI beam and an SEM includes a coaxial FIB and an electron beam allowing accurate processing by the FIB using an image formed by the electron beam.例文帳に追加

電子ビームにより形成された像を使用したＦＩＢによる正確な処理を可能とする同軸の集束イオンビーム及び電子ビームを含むシステム。 - 特許庁

To provide an electron beam device, capable of maximally utilizing an advantage of using multi-beams by providing a specific signal processing circuit processing a detection signal, after detecting a secondary electron by a detector.例文帳に追加

二次電子を検出器で検出した後、その検出信号を処理する具体的な信号処理回路を提供し、マルチビームを使用する利点を最大限に活用し得る電子線装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing an electron gun electrode 2 which can keep the amount of processing oil A properly during the process to improve its processing accuracy.例文帳に追加

加工する際の加工油Ａの量を適正化し、加工精度を向上できる電子銃電極２の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of controllably reflecting electrons from an array of electron reflectors to make electron beam projection lithography possible at low cost because of maskless processing, and a device of a dynamic pattern generation machine for reflective electron beam lithography.例文帳に追加

マスクレスのため低コストで電子ビーム投影リソグラフィを可能にする、電子反射板のアレイから制御可能に電子を反射する方法と、反射電子ビームリソグラフィのためのダイナミックパターン生成機の装置を提供する。 - 特許庁

The inside of the processing vessel 8 is irradiated with an electron beam through the bulkhead 10 from the electron beam generation part 9 while the inside of the processing vessel 8 connected to the electron beam generation part 9 through the bulkhead 10 is made an oxidation gas atmosphere, and the production adhered to the bulkhead 10 and the inside of the processing vessel 8 is effectively oxidized and removed.例文帳に追加

隔壁１０を介して電子線発生部９に接続された処理容器８内を酸化性ガス雰囲気にしつつ、電子線発生部９から隔壁１０を介して処理容器８内に電子線を照射し、隔壁１０及び処理容器８内に付着する生成物を効果的に酸化・除去する。 - 特許庁

A coating pattern is printed on a substrate with the coating material and is cured by using an electron beam ('EB') processing.例文帳に追加

基体に被覆材で被覆模様を印刷し、そして電子ビーム（“ＥＢ”）加工処理を使用して硬化させる。 - 特許庁

MANUFACTURING APPARATUS OF ELECTRON SOURCE AND IMAGE DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

電子源及び画像表示装置の製造装置及び方法、並びに基板処理装置及び方法 - 特許庁

To provide an electron beam drawing apparatus capable of processing a plurality of lots using a direct drawing system efficiently.例文帳に追加

直接描画方式で複数のロットを効率良く処理可能な電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

The electron beam irradiation processing is performed while the core wire is electrically connected to the shaft 92.例文帳に追加

電子線照射処理は、当該芯線をシャフト９２に電気的に接続した状態のまま行われる。 - 特許庁

MEMBER USED FOR MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND CHARGED PARTICLE BEAM PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

マスク、半導体素子製造方法、電子ビーム露光装置、荷電ビーム処理装置において用いられる部材 - 特許庁

FOCUSED ION BEAM DEVICE FOR TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE SAMPLE PROCESSING EQUIPPED WITH WRITING FUNCTION BY CODING RELEVANT INFORMATION例文帳に追加

関連情報をコード化して書き込む機能を備えたＴＥＭ試料加工用集束イオンビーム装置 - 特許庁

SHAPE PROCESSING CONTROL TECHNOLOGY FOR LOCALLY REMOVING AND CUTTING CARBON NANO MATERIAL BY ELECTRON BEAM, AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

電子線によるカーボンナノ材料の局部除去及び切断による形状加工制御技術及び装置 - 特許庁

To provide an electron microscope suitable for eliminating the breakage of samples caused by processing errors.例文帳に追加

本発明によれば、加工ミスによる試料の破損をなくするのに適した電子顕微鏡が提供される。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device capable of processing a work by an electron beam easily, excellently at low cost without enlarging the device.例文帳に追加

装置を大型化することなしに、低コストで電子線によるワークの処理を容易かつ良好に行うことができる電子線照射装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A supply carrier 12a, for supplying the irradiation part carrying device for electron beam irradiation processing with objects to be irradiated prior to electron beam irradiation, is constituted as follows.例文帳に追加

電子線照射処理を施すための照射部搬送装置に電子線照射前の被照射物２を供給する供給搬送装置１２ａを次のように構成した。 - 特許庁

A silicon substrate 101 is carried into the processing chamber of a predetermined electron beam exposure system and a desired region of a carbon nanotube 103 is irradiated with an electron beam 110.例文帳に追加

シリコン基板１０１を所定の電子線露光装置の処理室に搬入し、カーボンナノチューブ１０３の所望の領域に電子線１１０が照射された状態とする。 - 特許庁

In the nonvolatile memory transistor, threshold voltage is made low by erasure processing to discharge an electron from an electrical charge storage area and the threshold voltage is made high by program processing to inject the electron into the electrical charge storage area.例文帳に追加

不揮発性メモリトランジスタは電荷蓄積領域からエレクトロンを放出させる消去処理によって閾値電圧が低くされ、電荷蓄積領域にエレクトロンを注入するプログラム処理によって閾値電圧が高くされる。 - 特許庁