「electron processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To achieve processing that is quick and reliable by introducing a simple procedure even if a pattern as an object of division is very complicated in form in a complementary dividing process of an electron beam projection exposure mask.例文帳に追加

電子線投影露光用マスクの相補分割処理において、その分割対象となるパターン形状が非常に複雑な場合であっても、簡潔な手順を導入することにより、迅速かつ信頼性の高い処理を実現する。 - 特許庁

The release-accelerating agent is included in the adhesive agent for fixing of a wafer during processing of the semiconductor wafer, and generates gas when receiving an electromagnetic wave or electron beam such as a visible ray, ultraviolet light or X ray to accelerate the release of the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハーの加工時にウエハーを固定するための粘着剤に含有され、可視光線、紫外線、エックス線等の電磁波または電子線によってガスを発生し、半導体ウエハーの剥離を促す剥離促進剤。 - 特許庁

By these four times of electron scanning, image data for the three-dimensional shape measurement can be recorded in the frame memory 9, and processed by an arithmetic processing part 13 for the three-dimensional shape measurement, and its result can be displayed at a display part 14.例文帳に追加

これら４回の電子線走査により、三次元形状計測用の画像データをフレームメモリ９に記録し、三次元形状計測用の演算処理部１３で処理し、表示部１４にその結果を表示することができる。 - 特許庁

The energy and one-electron reduced density matrix are compared between the preceding calculations and the current calculations for convergence determination (Step 106), and if they do not converge, the processing is repeatedly executed from Step 103.例文帳に追加

エネルギー及び一電子縮約密度行列について前回の計算で得られたものと今回計算されたものとを比較して収束を判定し（ステップ１０６）、未収束の場合には、ステップ１０３からの処理を反復して実行する。 - 特許庁

The method for manufacturing a diamond electron source which includes a top end portion as a diamond electron discharging point includes a process A in which a top end shape of the sharp top portion is rectified to a spherical surface by using a focused ion beam processing unit and a process B in which a process-damaged layer formed by the process A is removed by an acid solution.例文帳に追加

本発明が提供するダイヤモンドの電子放射点として先鋭部を有するダイヤモンド電子源の製造方法は、該先鋭部の先端形状を集束イオンビーム加工装置を用いて球面形状に補正する工程Ａと、該工程Ａによって形成された加工変質層を酸水溶液によって除去する工程Ｂとを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for processing graphene sheet-based material includes steps of irradiating the surface of the graphene sheet-based material with ultraviolet rays in an atmosphere containing a specific substance which generates an electron-donating functional group to activate the specific substance, and modifying an end part of the graphene sheet contained in the graphene sheet-based material with the electron-donating functional group.例文帳に追加

グラフェンシート系材料の表面に、電子供与性を有する官能基を発生する特定物質が含まれる雰囲気中で紫外線を照射することにより該特定物質を活性化し、グラフェンシート系材料に含まれるグラフェンシートの端部を電子供与性の官能基で修飾する工程を含むことを特徴とするグラフェンシート系材料の処理方法に関する。 - 特許庁

To provide a light/electron waveguide used for a circuit board to make light/electron equipment highly functional, small-sized, and lightweight by reducing wiring of a demultiplexing/multiplexing part for signal processing of respective signals as an optical waveguide wiring that can transmit even an electric signal together with a light signal on a circuit board where the light signal and electric signal are both present.例文帳に追加

光信号と電気信号が共存した回路基板上で、光信号とともに電気信号をも伝達することができる光導波路配線であって、夫々の信号の信号処理のための分岐・統合部分の省配線化を可能として、電子・光機器の高機能化及び小型軽量化を実現するための回路基板に用いられる光電子導波路を提供する。 - 特許庁

To provide a thin sample preparing method which prevents an FIB (focused ion beam) processing from forming any hole and allowing any redeposition to originate in holes when forming a protection film in preparing a thin sample, in order to obtain a good image by using an electron microscope.例文帳に追加

ＦＩＢ加工で薄片試料を作製する際に保護膜形成時に穴が形成されず穴からリデポすることを防ぎ、電子顕微鏡にて良好な像を取得することのできる薄片試料作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an electron microscope holder having high X-ray detection efficiency even in an EDX analysis by an X-ray analyzer of a low angle for extracting a sample for TEM observation in cross section produced by the FIB processing and to provide a spacer for use therefor.例文帳に追加

ＦＩＢ加工により作製した断面ＴＥＭ観察用試料の、低取り出し角のＸ線分析器によるＥＤＸ分析においても、高いＸ線検出効率を有する電子顕微鏡ホルダー及びこれに用いるスペーサーを提供する。 - 特許庁

In a X-ray generating equipment equipped with a rotating anode microfocus X-ray tube, processing is performed to the surface with which electron beams collide, while rotating the rotating anode in order to minimize the rotational wobbling of a target, after assembling a rotating anode of the X-ray tube.例文帳に追加

回転陽極型マイクロフォーカスX線管を備えたX線発生装置において、X線管の回転陽極を組み立てた後に、ターゲットの回転ぶれを小さくするために、回転陽極を回転させながら、電子ビームが衝突する面に加工を施す。 - 特許庁

In accordance with a processing program which is created by using the current density distribution measured in this way for detecting the unit removing profile of the ion beams 3, the optical element material 5 is irradiated with the ions beams 3 together with the electron beams 8 to perform profiling.例文帳に追加

このように測定された電流密度分布によってイオンビーム３の単位除去形状を検知し、作成された加工プログラムに従って、イオンビーム３を電子ビーム８とともに光学素子材料５に照射し、形状加工を行う。 - 特許庁

Pattern writing by the electron beam lithography system is controlled by single proximity effect control function and fogging effect control function coupled in one data processing step using the same algorithm as that being executed in a standard proximity correction unit.例文帳に追加

電子ビームリソグラフィーシステムによるパターン描画は、標準の近接補正装置で実行される同じアルゴリズムを用いて、１データ処理ステップで、結合した単一の近接効果制御関数及びかぶり効果制御関数によって制御される。 - 特許庁

To provide a technique capable of shortening a processing time when the lattice constant or lattice strain quantity of a crystal is measured and analyzed on the basis of a high-order Laue zone (HOLZ) line appearing in a converged electron beam diffraction (CBED) image.例文帳に追加

収束電子線回折（ＣＢＥＤ）像に現れる高次ラウエゾーン（ＨＯＬＺ）線に基づいて結晶の格子定数又は格子歪み量の測定・解析を行う場合において、処理時間を短縮することができる技術を提供する。 - 特許庁

A processing/control part 10 controls an ion source power supply 12 to increase thermal electron current emitted from a filament 4, and simultaneously controls a quadrupole power supply 15 to shift the applied voltage to a quadrupole filter 8 toward negative direction.例文帳に追加

処理・制御部１０はフィラメント４から放出される熱電子電流を増加すべくイオン源電源部１２を制御すると同時に、四重極フィルタ８に印加される電圧が負方向にシフトするように四重極電源部１５を制御する。 - 特許庁

In the CCD imaging apparatus having an electron multiplication type CCD imaging element and image signal processing circuit of two-phase read-out, a predetermined video image part of vertical two-divisions, vertical eight-divisions, horizontal eight-divisions or the like is changed into single phase video signal.例文帳に追加

２相読出しの電子増倍型ＣＣＤ撮像素子と映像信号処理回路とを有するＣＣＤ撮像装置において、上下２分割や上下８分割や水平８分割他の所定の映像部分を単相映像信号に切替える。 - 特許庁

This sampling apparatus used in preparing samples for transmission electron microscope observation by a focused ion beam processing apparatus includes a probe which can rotate which its shaft being as an axis of rotation and a rotating means for rotating the probe.例文帳に追加

また、集束イオンビーム加工装置による透過電子顕微鏡観察用試料作製に用いるサンプリング装置は、プローブの軸を回転軸とする回転が可能なプローブと、その回転を行うための回転手段とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The present invention relates to a kind of method of electron element heat conduction, and an insulating dielectric layer having high temperature resistance and high voltage resistance characteristics is formed by carrying out electrolytic oxidation processing on a surface of a highly conductive metal member having been processed, especially, by washing.例文帳に追加

本発明は一種の電子素子熱伝導の方法、特に洗浄処理を施した高伝導金属部材の表面を電解酸化加工処理により、耐高温及び耐高電圧特性を有する絶縁誘電体層を形成する。 - 特許庁

This adhesive sheet for processing semiconductor has antistatic effects and ≤1 s of half-life of a voltage when electrified in the adhesive sheet for processing semiconductor obtained by applying an adhesive layer composed of a base polymer, a radiation polymerizable compound and a radiation polymerizable polymerization initiator on a base material having transparency to ultraviolet ray and/or an electron beam.例文帳に追加

紫外線及び／又は電子線に対し透過性を有する基材面上にベースポリマーと放射線重合性化合物と放射線重合性重合開始剤からなる粘着剤層を塗布してなる半導体加工用粘着シートにおいて、帯電防止効果を有し、帯電時の電圧の半減期が１秒以下である半導体加工用粘着シートである。 - 特許庁

This scanning electron microscope is equipped with a sample chamber 5 of the microscope and a sample processing chamber 10 via an airlock valve 9, and the sample disposed in the specimen processing chamber 10 is processed, then subjected to slanting and rotation drive, followed by the introduction of the processed sample into the sample chamber 5 of the microscope for observation.例文帳に追加

走査電子顕微鏡であって、該走査電子顕微鏡の試料室５とエアロックバルブ９を介して試料加工室１０が設けられており、該試料加工室１０内に配置された試料を傾斜・回転駆動させて加工した後、加工された試料を走査電子顕微鏡の試料室５に導入して観察するように構成する。 - 特許庁

The mail processing apparatus is equipped with a feed line 19 for feeding the mail A continuously, a printing apparatus 18 for printing a predetermined code corresponding to the address data of the mail on the mail A and an electron beam irradiator 20 for irradiating the mail A fed along the feed line 19 with an electron beam not only to cure or dry printing ink but also to sterilize the surface of the mail A.例文帳に追加

郵便物Ａを連続して搬送する搬送ライン１９と、郵便物Ａにその宛名情報に対応した所定のコードを印字する印字装置１８と、印字装置１８により印字され、搬送ライン１９を搬送されている郵便物Ａに電子線を照射して印字インキを硬化または乾燥させるとともに郵便物表面の殺菌処理を行う電子線照射装置２０とを具備する。 - 特許庁

The minute sample processing observation device includes a focused ion beam optical system 31 and an electron beam optical system 41 in an identical vacuum device, and a probe 72 that separates a minute sample containing a desired area of the wafer 21 by a charged particle beam type molding process and takes out the separated minute sample.例文帳に追加

同一真空装置に集束イオンビーム光学系３１と電子ビーム光学系４１を備え、ウェーハ２１の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブ７２を備えた。 - 特許庁

To obtain a pretreating device and method with a processing function for preventing a partially or wholly non-conductive sample from being charged up and contaminated at the time of applying a conductive paste on the surfaces of the sample and obtaining satisfactory images through an electron microscope.例文帳に追加

試料表面に導電性ペーストを塗布する際に、試料の一部またはすべてが非導電性である試料のチャージアップや汚染を防ぎ、良好な電子顕微鏡像が得られるための処理機能を有した前処理装置、ならびに前処理方法を提供する。 - 特許庁

The electrode for placing wafers in a plasma processing apparatus use a tapered gas hole for a gas inlet pipe 5 which is provided in the main body of the electrode 1, thus suppressing dielectric breakdown due to secondary electron avalanche phenomenon and improving withstand voltage.例文帳に追加

プラズマ処理装置のウエハ載置用電極において、電極本体１内に設けられているガス導入管５としてガス孔がテーパ形状をしたものを用い、これにより二次電子なだれ現象による絶縁破壊を抑え、耐電圧の向上が得られるようにした。 - 特許庁

A TFT array inspection apparatus includes: an inspection signal applying means for applying an inspection signal to a TFT array in the panel, and forming a potential distribution in a predetermined pattern on the panel; and a signal processing means for detecting a panel defect by using a secondary electron detection signal.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ検査装置は、パネルのＴＦＴアレイに検査信号を印加して、パネル上に所定パターンの電位分布を形成する検査信号印加手段と、二次電子の検出信号を用いてパネル欠陥を検出する信号処理手段とを備える。 - 特許庁

An irradiation axis of an FIB irradiation system 16 is made to almost perpendicularly cross with that of an electron beam irradiation system for STEM observation 5, the sample 7 is arranged on the crossing position, and an FIB cross section processing face is used for a thin film face for STEM observation.例文帳に追加

ＦＩＢ照射系１６の照射軸とＳＴＥＭ観察用電子ビーム照射系５の照射軸をほぼ直交させ、その交差位置に試料７を配置して、試料のＦＩＢ断面加工面をＳＴＥＭ観察用試料の薄膜面にとる。 - 特許庁

To provide: a method of processing a base material for a nano-imprint mold, which is used for accurately detecting the surface position of the base material when drawing a pattern on a resist by means of an electron beam; and a method of manufacturing a nano-imprint mold having a highly accurate irregular pattern.例文帳に追加

電子線でレジストにパターンを描画する際に、基材の表面位置の検出を精度良く行なうためのナノインプリントモールド用基材の処理方法と、高精度の凹凸パターンを備えたナノインプリントモールドを製造するための製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope that can concurrently perform SEM observation and sample processing in a single instrument, automatically return the specimen holder to its home position after the processing, and rapidly introduce it into the sample chamber.例文帳に追加

本発明は走査電子顕微鏡に関し、更に詳しくは試料加工室を持つ走査電子顕微鏡に関し、一つの装置でＳＥＭ観察と試料加工を同時進行で行なうことができ、かつ処理後の試料ホルダの位置を自動的にホームポジションに戻すことができ、試料室への導入を速やかに行なうことができる走査電子顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁

To prevent decrease in the sample transmission capacity of electron beams in a STEM observation with decreased acceleration voltage and the bad influence of a damaged layer generated by the application of ion beams, to remove the damaged layer effectively by minimizing the damage to a desired region in a sample, and to prevent processing failure by detecting an optimum processing completion point in time even if the thickness of a thin-film sample is reduced.例文帳に追加

加速電圧を下げたＳＴＥＭ観察での電子ビームの試料透過能力の低下やイオンビームの照射により生じるダメージ層の悪影響を防ぎ、試料の所望の領域への損傷を最小限にしてダメージ層を効果的に除去すること、および薄膜試料の厚さがより薄くなっても最適な加工終了時点を検出して加工失敗を防ぐ。 - 特許庁

An electron beam fluorescent tube 21 emits white light, and it accepts luminance signals for red, green and blue colors in a time series accompanied with video signals from an image processing circuit 23 in the period of one field of the video signal and emits the white light in each period to a liquid crystal color shutter 22.例文帳に追加

電子線蛍光管21は白色光を照射し、映像信号の１フィールド期間に、画像処理回路23から映像信号に伴なう赤色、緑色および青色用の輝度信号を、時系列に受け各々の期間に白色光を、液晶カラーシャッタ22へ放射する。 - 特許庁

The apparatus for processing the electronic watermark comprises an electron watermark embedding means having a means for converting image data into a frequency range data, a means for embedding watermark data in the frequency region data, and a means for converting the frequency region data in which the watermark is embedded into a space region image data.例文帳に追加

電子透かし処理装置は、画像データを周波数領域データに変換する手段と、周波数領域データに透かしデータを埋め込む手段と、透かしデータが埋め込まれた周波数領域データを空間領域画像データに変換する手段とを含む電子透かし埋め込み手段を備える。 - 特許庁

The micro testpiece processing and observation device are equipped with a focused ion beam optical system and an electron optical system in an identical vacuum device, and separate a micro testpiece including the desired region of the testpiece by a charged particle beam forming process, and have a probe for sampling the micro testpiece separated.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sample for cross-section observation by a scanning electron microscope that is appropriate to smooth cross-section formation of 10-100 μm order, does not require a skilled technique of a worker, has high processing position accuracy, and accurately forms a cross section at a desired specific position.例文帳に追加

１０μｍ〜１００μｍオーダーの平滑な断面形成に適し、作業者の熟練の技術を必要とせず、かつ加工位置精度に優れ、所望の特定位置に正確に断面を形成できる、走査電子顕微鏡による断面観察用サンプルの作製方法を提供する。 - 特許庁

The radiation control means 32 and the scan control means 18 are controlled by an overall control device 8 so that they are synchronized, and signals from an electron sensor 14 are turned into image by an image takeout part 27 and an image processing circuit 28, and inspection and length measuring of the specimen are conducted.例文帳に追加

照射制御手段３２と走査制御手段１８の制御は全体制御装置８によって行い、お互いを同期させ、電子検出器１４からの信号を画像取り出し部２７および画像処理回路２８において、画像化し、試料の検査、測長を行う。 - 特許庁

An offset is applied to a focal position on a semiconductor device 28 by changing the diameter of an electron beam irradiated to the semiconductor device 28 by the operation of an objective lens 11 or regulating the height of alternatively the objective lens 11 or a test piece 14 in response to the unevenness generated in the case of processing the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置を加工する際に生じた凹凸に応じて、対物レンズ11の作用により半導体装置28へ照射する電子線の径を変える、あるいは対物レンズ11や試料台14の高さを調整することで半導体装置28上の焦点位置にオフセットをかける。 - 特許庁

To provide a sample image observation method, an image processing device, and a charged particle beam device suitable for selecting an image region to be acquired by the charged particle beam device represented by an electron microscope based on an image obtained by an optical microscope.例文帳に追加

本発明は、光学顕微鏡によって取得された像に基づいて、電子顕微鏡に代表される荷電粒子線装置にて取得すべき画像領域を選択するのに好適な試料像観察方法，画像処理装置、及び荷電粒子線装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The minute sample processing observation device includes a focused ion beam optical system and an electron optical system in the same vacuum device, as well as a probe 72 separating a minute sample including a desired region of the sample by a charged particle beam molding work and picking up the separated minute sample.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 - 特許庁

To provide a system with an FIB tube and a SEM tube, wherein influence of a secondary electron excited by an FIB does not come out as noise in a SEM image, when performing SEM observation of FIB processing on a real time basis.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、ＦＩＢ鏡筒とＳＥＭ鏡筒を備えたシステムにおいて、ＦＩＢ加工をリアルタイムでＳＥＭ観察する際に、ＦＩＢによる励起二次電子の影響がＳＥＭ画像中でノイズとして出ないようなシステムを提供することにある。 - 特許庁

An SEM system appearance inspection method and a device thereof, in which, after loading a sample on a portable stage and carrying out measurement of a height of the sample, electron beams are scanned over the sample to find a defective part from an image thus obtained, include a height measurement with a correction processing function through stage movement.例文帳に追加

試料を移動可能なステージ上にロード後、試料の高さ計測を行った後、試料に電子線ビームを走査させ、得られた画像から欠陥部を求めるＳＥＭ式外観検査方法及び装置において、高さ計測がステージ移動による補正処理機能を備えている。 - 特許庁

To provide a proximity effect correction method capable of reducing processing time for correction of a proximity effect while maintaining high drawing precision of a drawing pattern in a proximity effect correction method in fine pattern drawing using an electron beam drawing device of high acceleration voltage.例文帳に追加

高加速電圧の電子線描画装置を用いた微細パターン描画における近接効果補正方法において、描画パターンの高い描画精度を維持しながら、近接効果補正のための処理時間を低減させることができる近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

The electron microscope includes a signal processing part which calculates a deterioration function of images based on the detection signal obtained by scanning charged particle beams with two kinds of scanning speeds of a scanning speed in the band width of a detector and its amplifying circuit and a scanning speed exceeding the upper limit of the band width.例文帳に追加

検出器およびその増幅回路の帯域幅内の走査速度と、上記帯域幅の上限を超える走査速度の２種の走査速度で荷電粒子線を走査して得られる検出信号に基づき、画像の劣化関数を算出する信号処理部を設ける。 - 特許庁

To enhance processing speed in an analysis method of an energy loss spectroscopic device and a transmission electron microscope, equipped with the energy loss spectroscopic device.例文帳に追加

本発明はエネルギー損失分光装置の分析方法及びエネルギー損失分光装置を備えた透過電子顕微鏡に関し、処理速度を向上させることができるエネルギー損失分光装置の分析方法及びエネルギー損失分光装置を備えた透過電子顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a sample stage for a focused ion beam processing device, using an easy method for inexpensively making a plane-observed semiconductor thin sample, and to provide a method using the same for making the transmission type electron microscope plane-observed semiconductor thin sample.例文帳に追加

簡易な方法で安価に平面観察用半導体薄片試料を作製することを可能にする集束イオンビーム加工装置の試料ステージおよびこの試料ステージを用いた透過型電子顕微鏡平面観察用半導体薄片試料の作製方法の提供。 - 特許庁

SILVER ALLOY, SPUTTERING TARGET, REFLECTOR FOR REFLECTION LCD, REFLECTION WIRING ELECTRODE, THIN FILM, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, OPTICAL RECORDING MEDIUM, ELECTRO MAGNETIC WAVE SHIELD, METAL MATERIAL FOR ELECTRONIC PART, WIRING MATERIAL, ELECTRONIC PART, ELECTRONIC APPLIANCE, PROCESSING METHOD OF METAL FILM, ELECTRON OPTICAL PART, LAMINATE, AND GLASS OF BUILDING MATERIAL例文帳に追加

銀合金、スパッタリングターゲット、反射型ＬＣＤ用反射板、反射配線電極、薄膜、その製造方法、光学記録媒体、電磁波遮蔽体、電子部品用金属材料、配線材料、電子部品、電子機器、金属膜の加工方法、電子光学部品、積層体及び建材ガラス - 特許庁

A processing method of a carbon nanostructure includes a step (CNT preparation step) of preparing a carbon nanostructure (for example, a carbon nanotube 1) and a step (irradiation step) of irradiating the carbon nanotube 1 with an energy ray (for example, an electron beam) under the state that vibration is applied to the carbon nanotube 1.例文帳に追加

本発明に従ったカーボンナノ構造体の加工方法は、カーボンナノ構造体（たとえばカーボンナノチューブ１）を準備する工程（ＣＮＴ準備工程）と、当該カーボンナノチューブ１に対して、振動を加えた状態で、エネルギー線（たとえば電子線）を照射する工程（照射工程）とを備える。 - 特許庁

To provide an irradiation device for performing a sterilizing processing by irradiating matters to be irradiated such as powdered, granular, chipped and leaf food (for example, sesame seeds, green powdered tea, cereals, brown seaweed, laver and the like), chemicals, cosmetics, sanitary goods and the like by electron beam.例文帳に追加

粉末状，粒状，チップ状及び葉状の食品（例えば胡椒，抹茶，穀物，茶葉，ワカメ，海苔 等）や薬品、化粧品及び衛生用品等の被照射物に電子線を照射して殺菌等の処理を施すための照射装置を提供することを課題とする。 - 特許庁