「electron processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To execute uniform plasma processing, without damage to a substrate to be processed by controlling the uniformity of a plasma electron concentration, while suppressing the rise in plasma electron temperature, even under a low-pressure atmosphere.例文帳に追加

低圧雰囲気においても，プラズマの電子温度の上昇を抑えつつ，プラズマ電子密度の均一性を制御し，被処理基板へのダメージのない，均一なプラズマ処理を行う。 - 特許庁

One magnetic domain structural image data M_xy against one electron diffraction figure D_xy is calculated by performing the following (a)-(c) processing on each obtained electron diffraction figure D_xy.例文帳に追加

取得した電子回折図形Ｄ_ｘｙ毎に以下の（ａ）〜（ｃ）の処理を行って、１つの電子回折図形Ｄ_ｘｙに対して１つの磁区構造画像データＭ_ｘｙを求める。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device and an electron beam irradiation processing apparatus provided with a collector electrode, which stably operate without adding special mechanisms.例文帳に追加

コレクター電極、これを備えた電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射処理装置において、特別な機構を付加することなく安定した動作を有する装置を提供する。 - 特許庁

To clean a contaminant generated in radiating electron beams toward a substrate surface in a processing chamber to perform predetermined substrate processing in a substrate processing device, out of the processing chamber favorably and at a low cost.例文帳に追加

処理チャンバ内で基板表面に向けて電子ビームを照射して所定の基板処理を行う際に汚染物質が発生する基板処理装置において、処理チャンバから汚染物質を良好に、しかも低コストでクリーニング除去する。 - 特許庁

TEM SAMPLE WITH IDENTIFICATION FUNCTION, TEM SAMPLE-PROCESSING FOCUSED ION BEAM DEVICE AND TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

識別機能を備えたＴＥＭ試料及びＴＥＭ試料加工用集束イオンビーム装置並びに透過型電子顕微鏡 - 特許庁

To provide a data processing technology for eliminating unevenness that a pattern on a photomask has in electron beam exposure.例文帳に追加

電子線露光によりフォトマスク上のパターンに発生するムラを解消するデータ処理技術の提示を目的とする。 - 特許庁

To remove a product adhered to the bulkhead and the inside of a processing vessel connected to an electron beam generation part through the bulkhead.例文帳に追加

隔壁を介して電子線発生部に接続された処理容器内及び隔壁に付着する生成物を除去する。 - 特許庁

To reduce a bleeding of X-ray image due to scattering of electron beam by performing an acumination processing and restraining the amplification of noises.例文帳に追加

先鋭化処理を施し、かつノイズの増幅は抑え、電子線の散乱によるＸ線像の滲みを軽減する。 - 特許庁

A DC magnetic field is swept by a DC magnetic field coil 5, and a measurement processing part 14 measures electron spin resonance.例文帳に追加

直流磁界コイル５により直流磁界が掃引され、計測処理部１４は電子スピン共鳴を測定する。 - 特許庁

APPARATUS WITH COAXIAL BARREL OF FOCUSED-ION BEAM AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, AND METHOD FOR IMAGE FORMING AND PROCESSING例文帳に追加

集束イオンビームと走査型電子顕微鏡との同軸鏡筒を備えた装置並びに像形成及び処理方法 - 特許庁

The video signal on the right side is subjected to electron zoom processing by an electronic zoom circuit 72 in the image processor 20.例文帳に追加

画像処理装置２０において、右側の映像信号は電子ズーム回路７２によって電子ズーム処理が施される。 - 特許庁

To apply thin film processing by the other pre-processing method on a sample processed by a focused ion beam processing method or the like, and to observe and analyze it as it is by an electron microscope.例文帳に追加

本発明の目的は、集束イオンビーム加工法などにより加工した試料をさらに他の前処理法で薄膜加工し、そのまま電子顕微鏡により観察および分析することにある。 - 特許庁

To provide substrate processing device and substrate processing method capable of performing favorable substrate processing in a short time period by radiating electron beams uniformly and in an appropriate dose to various substrates.例文帳に追加

多種多様な基板に対して適切なドーズ量で、しかも均一に電子ビームを照射して短時間で良好な基板処理を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing device capable of carrying out, in real time, preprocessing of an image, processing of the image, and displaying of its result, in an electron microscope.例文帳に追加

電子顕微鏡における画像の前処理、画像処理及びその結果の表示をリアルタイムで実行することができる電子顕微鏡用画像処理装置を提供すること。 - 特許庁

A thinner diameter of the electron emission section 48 is achieved so that the thinner diameter of the electron beam emitted from the electron emission section 48 can be carried out without applying complicated processing on the projection section 56 by preparing the fine projection section 56 conveyed by a micro manipulation.例文帳に追加

また、マイクロマニピュレーションによって搬送した微細な突起部５６を設けることで、突起部５６自体に複雑な加工を施すことなく電子放出部４８の細径化を実現できるため、電子放出部４８から放出される電子線の細径化が図られる。 - 特許庁

Efficient degassing processing of the electron gun 20 is realized in a method of raising the temperature of the Wehnelt part 5 by causing the thermal electrons discharged from the electron discharge part 12 to collide against the Wehnelt part 5.例文帳に追加

電子放出部１２から放出される熱電子をウェネルト５に衝突させて、ウェネルト５の温度を上昇させる方法に従い、効率の良い電子銃２０の脱ガス処理を実現する。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device capable of preventing a wire from being charged without using a special device, when applying crosslinking processing to a coating part of a wire by irradiating the wire with an electron beam.例文帳に追加

電子線を電線に照射して電線の被覆部に架橋処理を施す際に、特別な装置を用いることなく、電線の帯電を防止することができる電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

This reticle repair method has a pattern transfer section comprising an electron beam scattering body and is a method of correction processing of the pattern defect of the reticle 13 used in exposure by electron beams.例文帳に追加

本発明に係るレチクルリペア方法は、電子線散乱体から構成されたパターン転写部を有し、電子線で露光する時に用いるレチクル１３のパターン欠陥を修正加工する方法である。 - 特許庁

By the above mechanism, a processing by using an ion beam, and observation of secondary electron image in optional direction through an electron microscope are made possible without taking out a fine piece of sample from the sample stand.例文帳に追加

このような構成によれば、微小試料片を試料台から取り外すことなく、イオンビームによる加工および任意の方向からの二次電子像および電子顕微鏡観察が可能となる。 - 特許庁

To provide substrate processing device and substrate processing method executing clean substrate processing at a low cost by preventing a substrate from being contaminated with a substance generated in radiating electron beams toward a substrate surface to perform predetermined substrate processing.例文帳に追加

基板表面に向けて電子ビームを照射して所定の基板処理を行う際に発生する物質による基板の汚染を防止して清浄な基板処理を低コストで実行可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The inorganic oxide particles makes the base material impossible to view in an image obtained by observing the processing surface with a scanning electron microscope.例文帳に追加

無機酸化物粒子は、加圧面を走査型電子顕微鏡により観察した像においては基材を視認不能としている。 - 特許庁

To provide a scanning type electron microscope capable of observing an observation target as it is without processing it.例文帳に追加

観察対象物に加工を施すことなく現状状態そのままでの観察を可能とする走査型電子顕微鏡の提供。 - 特許庁

To provide a seam processing method which manufactures a long-life multi-layer flexible electron photograph imaging member with high yield.例文帳に追加

長寿命の多層電子写真画像形成可撓性部材を高い製造歩留まりで実現するシーム処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam curable releasing sheet for processing with good heat resistance and a required stable surface gloss.例文帳に追加

耐熱性が良好で、かつ所望の安定した表面光沢を有する電子線硬化型工程用剥離シートを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a cold cathode electron source capable of processing a certain extent of area at a time with a simple process.例文帳に追加

簡単な工程である程度の面積を一度に加工することが可能な冷陰極電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁

SAMPLE STAGE FOR FOCUSED ION BEAM PROCESSING DEVICE, AND METHOD FOR MAKING TRANSMISSION TYPE ELECTRON MICROSCOPE PLANE-OBSERVED SEMICONDUCTOR THIN SAMPLE例文帳に追加

集束イオンビーム加工装置の試料ステージと透過型電子顕微鏡平面観察用半導体薄片試料の作製方法 - 特許庁

To provide an electron microscopic image processing system, capable of simultaneously performing reduction in noise and contour emphasis of an image which are conflicting image processing in the conventional art, in regard to an image containing many noise components which is a characteristic of a high-resolution electron microscope.例文帳に追加

高分解能の電子顕微鏡の特徴であるノイズ成分を多く含む画像に対し、ノイズの低減と画像の輪郭の強調という、従来技術では相反する画像処理を同時に行うことのできる電子顕微鏡の画像処理システムを提供する。 - 特許庁

In an image processing method to X-ray images obtained by detecting characteristic X rays that are generated from a sample that is irradiated with electron beams, the thickness of electron beams is added to the spread of electron beams in the sample to calculate the generation region of X-ray signals, and the acumination processing is made to the calculated generation region of X rays.例文帳に追加

電子線を照射した試料から発生する特性Ｘ線を検出して得られるＸ線像に対する画像処理方法において、電子線の試料中での広がりに電子ビームの太さを加えてＸ線信号の発生領域を算出し、算出したＸ線の発生領域に対して先鋭化処理を施すようにしたものである。 - 特許庁

To provide a technology capable of reducing a data quantity drawn data and processing data at a high speed by efficiently generating drawing data of an electron beam lithography apparatus.例文帳に追加

電子線描画装置の描画データ作成を効率的に行うことにより、データ量の削減、データ処理の高速化を図る。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING CARBONACEOUS MATERIAL, CARBONACEOUS MATERIAL WITH IMPROVED GRAPHITIC PROPERTY, ELECTRON EMITTING MATERIAL USING IT, AND BATTERY ELECTRODE MATERIAL例文帳に追加

炭素質材料の処理方法、グラファイト性の向上した炭素質材料およびそれを用いた電子放出材料、電池電極材料。 - 特許庁

ELECTRON DETECTING DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE, AND PROCESSING, OBSERVATION, INSPECTION METHODS FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE例文帳に追加

電子検出装置，荷電粒子ビーム装置，半導体集積回路装置、および半導体集積回路装置の加工，観察，検査方法 - 特許庁

To provide an electron beam processing device capable of preventing deviation of an ion beam to the center, and of keeping a cooling effect of an acceleration grid.例文帳に追加

イオンビームの中央への偏りを防止するとともに、加速グリッドの冷却効果を維持できる電子ビーム加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a non-metallic substance-based chip for an electron source which enables focusing of nano size of a new concept, by applying processing technology which has not been conventionally utilized in manufacture of the electron source.例文帳に追加

電子源の製造に従来利用されたことのない加工技術を適用することにより、新しい概念のナノサイズの収束を可能とした非金属系の電子源用チップを提供することを目的とする。 - 特許庁

During the voltage impression, the amount of light emitted from each electron emitting element is detected by an optical detection part 45, and an activating condition control part 15 carries out activation processing while it judges the completion of the activation processing of each electron emitting element based on the detected amount of light emitted.例文帳に追加

この通電時、光学的検知部４５により電子放出素子からの発光量を検知し、その検知された発光量に基づいて、活性化条件制御部１５は、電子放出素子のそれぞれの活性化処理の終了を判断しながら活性化処理を実行する。 - 特許庁

Further, the surface of the resist agent 12 is irradiated with an electron beam to raise the glass transition temperature of an upper-layer part and then baking processing is carried out.例文帳に追加

更に、レジストパターン１２ａの表面に電子ビームを照射し、上層部のガラス転移温度を上昇させたあとベーク処理を行う。 - 特許庁

To provide a method capable of sufficiently performing breakdown voltage processing at a low voltage side electrode of a resistor voltage divider type electron gun.例文帳に追加

抵抗分圧型電子銃の低圧側電極の耐電圧処理を十分に行なうことができる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope digitally processing image signals obtaining the deepest depth of focus and the best resolution in accordance with observation magnification.例文帳に追加

画像信号をデジタル処理する走査電子顕微鏡において、観察倍率に応じて最深の焦点深度と最良の分解能を得る。 - 特許庁

The electron gun 10 emits electrons and is constituted so as to irradiate the electrons to the front surface of the processing sample gripped by the holder 50.例文帳に追加

そして、電子銃１０は、電子を放出し、ホルダ５０に把持された加工試料の表面に電子を照射するように構成される。 - 特許庁

To provide an electron microscope for inspecting and processing an object having a microstructure, and a manufacturing method of the object having the microstructure.例文帳に追加

微小化構造を有する物体を検査及び加工するための電子顕微鏡、微小化構造を有する物体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation equipment which is small and simple and uses small amount of inert gas and has a short cycle time of processing irradiated matter.例文帳に追加

小型で簡素かつ不活性ガスの使用量が少なく、被照射物処理のサイクルタイムが短い電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

To obtain good seal performance between a plasma space and its outside, over a long period in an ECR(electron cyclotron resonance) plasma processing unit.例文帳に追加

例えばＥＣＲ（電子サイクロトロン共鳴）プラズマ処理装置において、長期間に亘ってプラズマ空間と外部との間の高いシール性を得ること。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography device compatible with high position precision required in mask drawing processing for DE/DP.例文帳に追加

ＤＥ／ＤＰ用マスク描画処理において要求される高い位置精度に対応可能な電子ビーム描画装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The resin coating layer 3a is obtained by irradiation with ultraviolet rays or electron beams after applying coating liquid, and then performing heat curing processing thereafter.例文帳に追加

この樹脂被覆層３ａは塗工液を塗布した後、紫外線又は電子線を照射し、さらにその後熱硬化処理したものである。 - 特許庁

To provide an image processing method capable of reducing slimming of a sample, and of providing optimum image quality having high visibility, in a scanning electron microscope.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡において、試料のスリミングを低減し、視認性のよい最適な画質が得られる画像処理方法を提供する。 - 特許庁

A noncontact temperature measuring device 1 measures the temperature distribution of a sample stand and comprises: a sample base 10 placed on the sample stand 20, an electron beam source 2 for applying electron beams; a secondary electron detector 3 detecting secondary electrons induced by the irradiation of electron beams; and a temperature measurement section (signal processing section 7) for measuring temperature distribution, based on the induced secondary electrons.例文帳に追加

非接触温度測定装置１は、試料台の温度分布を測定する装置であり、試料台上２０に載置される試料ベース１０と、電子線を照射する電子線源２と、電子線照射によって誘起される二次電子を検出する二次電子検出器３と、検出した二次電子に基づいて温度分布を測定する温度測定部（信号処理部７）とを備える。 - 特許庁