「electron processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To attain an efficient production of a transfer mask for charged corpuscular rays including electron beams, a transfer mask for X-rays and a transfer mask for extreme ultraviolet rays by means of an existing device such as an electron beam drawing device for photomasks with improved accuracy in processing mask patterns.例文帳に追加

電子線等の荷電粒子線転写マスク、Ｘ線転写マスク、極端紫外線転写マスクを既存の例えばフォトマスク用電子線描画装置を用いて効率良く、かつ、マスクパターンの加工精度を改善して作製する。 - 特許庁

Sterilization processing using electron ray irradiation carried out while an irradiation assisting material tailored to have approximately the same specific gravity as the subject of irradiation is disposed around the subject of irradiation while in close contact therewith and the subject of irradiation is irradiated with electron rays.例文帳に追加

電子線照射による滅菌または加工において、被照射物の周りに被照射物と可及的同じ比重になるよう調整された照射用補助材料を密着するように配置して電子線を照射する。 - 特許庁

A processing object positioned in a space part 14 outside the device body 10 facing to the window part 11a is irradiated with electrons e- emitted from the electron emission surface of each cold electron emission element 12A, 12B.例文帳に追加

そして窓部１１ａに対向する装置本体１０外の空間部１４に位置する被処理物体に各冷電子放射素子１２Ａ，１２Ｂの電子放射面から放射される電子ｅ^−を照射するようになっている。 - 特許庁

To provide an electron beam device capable of appropriately processing stereo scopic detection data obtained from an electron microscope, three-dimensionally observing an image of a sample correctly and highly precisely, and measuring the three dimensional shape of the sample based on the observation.例文帳に追加

電子顕微鏡から得られたステレオの検出データを適切に処理して、試料像を正確に精度よく立体観察可能とし、かつこれに基づき三次元形状計測を行うことができる電子線装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation processing device allowing accurate measurement of the quantity of electron beam emitted from an electron beam tube by reducing generation of the abnormal plasma inside a chamber due to introduction of a power supply line, which is used for supplying electric power to a power driving part such as a heater, into the chamber.例文帳に追加

ヒータ等の電力駆動部に電力を供給するための電力供給線をチャンバー内に導入したことによって生ずるチャンバー内の異常プラズマの発生を抑制し、電子線管から出射される電子線量を正確に測定することを可能にした電子線照射処理装置を提供すること。 - 特許庁

Based on the measured electron density, perform the plasma processing by operating the power supply for generating by operating the electric power controlling part 4 for generating.例文帳に追加

測定された電子密度に基づいて、生成用電力制御部４を操作することによって、生成用電力を操作してプラズマ処理を行う。 - 特許庁

On the other hand, the signal inputted to a signal processing circuit 2 is inputted to the cathode of an electron gun 8 via an amplitude modulation circuit 4 and a frequency modulation circuit 5.例文帳に追加

一方、画像処理回路に入った信号は、振幅変調回路と周波数変調回路とを介して電子銃のカソードへ入力される。 - 特許庁

An SEM image is then generated using the third-order electron, and the SEM image allows for an observation of a condition of the processing by an ion beam.例文帳に追加

そして、この三次電子を用いてSEM像を生成し、そのSEM像によって、イオンビームによる加工の状態を観察することが可能なようになっている。 - 特許庁

To provide a target mark member, having micromarks used for focus adjustment or measurement of the shape of the beam, in an electron beam processing system.例文帳に追加

電子ビーム処理装置において電子ビームの焦点調整又はビーム形状の測定に用いられる、微細なマークを有するターゲットマーク部材を提供する。 - 特許庁

Before starting electron beam irradiation processing, a coating part at the tip of the wire A is peeled, and an exposed core wire is electrically connected to the shaft 92.例文帳に追加

電子線照射処理を開始する前に、電線Ａの先端における被覆部を剥がし、露わになった芯線を、シャフト９２に電気的に接続している。 - 特許庁

To provide an ion beam processing device capable of obtaining a large neutralized electron by capturing a large number of ions in a neutralizingcontainer.例文帳に追加

本発明の目的は中和器内で多くのイオンを捕集し大きな中和電子を得ることができるイオンビーム処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To heighten accuracy of processing a cathode, without deteriorating electron emitting performance of the cathode, and to prevent heat local accumulation in the cathode.例文帳に追加

本発明は、陰極の電子放出性能を低下させることなく、該陰極の加工精度を高くし、また、陰極の局部蓄熱を防止するようにする。 - 特許庁

The electron beam source 3 is arranged so as to face the target 5, and activated particulates having the substantially uniform diameter are generated by performing ablation processing to the target 5.例文帳に追加

電子ビーム源３は、ターゲット５を臨むように配置され、ターゲット５をアブレーションすることにより、ほぼ均一な粒径の活性化された微粒子を発生させる。 - 特許庁

To secure a real-time characteristic to display images directly after imaging, when a smoothing filter processing and an interlaced scanning are performed in a scanning electron microscope.例文帳に追加

走査電子顕微鏡において、平滑フィルタ処理やインターレス走査を実行した場合に、撮像後ただちに像を表示するリアルタイム性を確保する。 - 特許庁

To provide an optical channel system for an optical fiber included in an ion/electron beam tool for imaging or processing an integrated circuit, or for executing both.例文帳に追加

集積回路の撮像または処理あるいはその両方を行うためにイオン／電子ビーム・ツール内に含まれる光ファイバ・ベースの光チャネル・システムを提供する。 - 特許庁

To economically increase the efficiency of electron ray irradiation by equalizing doses at center portion and an outer peripheral portion within a plane in the direction of depth of the electron ray irradiation, thus achieving uniform sterilization and processing, and eliminating the need for a large investment.例文帳に追加

電子線照射深さ方向のある面内における中心部と外周部の線量を均一化し、滅菌・加工処理を均斉ならしめると共に大きな投資を必要とせず、経済的に電子線照射の効率を良好とする。 - 特許庁

To provide an electron beam fine processing device which can quickly rectify periodic and non-periodic minute eccentricities generated at every rotation of a turning stage by rectifying the position of the electron beam irradiated on an object to be processed.例文帳に追加

被加工物に照射される電子線の位置を補正することにより、回転動ステージの回転毎に生ずる微小な周期的偏心および非周期的偏心を迅速に補正することができる電子線微細加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive compact electron beam irradiation device of high processing performance, by easily manufacturing a very large diameter annular cathode, to be used in a method of irradiating with the electron beam of a low energy.例文帳に追加

解決しようとする課題は、被照射体通路の全周囲から低エネルギー電子線を照射する方式であって、極めて大きな径の環状陰極を容易に製作し、安価で処理能力を高めたコンパクトな電子線照射を実現することである。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device and irradiation method, capable of radiating an electron beam over an entire number of matters to be irradiated and uniformly to the surface of each matter to be irradiated, without increasing facility cost, processing man-hours or the time.例文帳に追加

設備費や処理工数及び時間を増大させることなく、多数の被照射物の全体に、しかも各被照射物の表面にまんべんなく電子線を照射することができる電子線照射装置及び照射方法を提供する。 - 特許庁

In the method for processing an organic material film formed on the surface of an article being processed using an electron beam, the organic material film is irradiated with an electron beam through hydrocarbon radial formation gas.例文帳に追加

電子ビームを用いて被処理体の表面に形成された有機材料膜を処理する方法において、炭化水素ラジカル生成ガスを介して上記有機材料膜に上記電子ビームを照射することを特徴とする電子ビーム処理方法。 - 特許庁

According to the method, when the open containers 1 each having the neck portion are sequentially transferred by a rotary transfer body 11, electron beams EB are emitted from an electron beam irradiation means 40 to irradiate the open containers 1 which are transferred in a negatively pressurized atmosphere, thereby carrying out sterilizing processing.例文帳に追加

回転搬送体１１によって、首部を有する開口容器１を連続搬送する際、減圧雰囲気内で搬送中の開口容器１に対して、電子線照射手段４０から電子線ＥＢを照射して滅菌処理を実施する。 - 特許庁

At this time, secondary electron emitted from the substrate 2 is detected by a detector 15, a detection signal of which 15 is sent to an image processing part 16, and a scanning image of the substrate 2 is produced by the image processing part 16.例文帳に追加

このとき、基板２から放出された２次電子は検出器１５で検出され、この検出器１５の検出信号が画像処理部１６に送られ、画像処理部１６により基板２の走査画像が生成される。 - 特許庁

The plasma processing device for performing plasma processing of a test piece by generating plasma inside a vacuum processing chamber 1 is provided with a plurality of groups (7, 7') of high frequency induction antennas for forming an induction electric field which rotates clockwise on an ECR face of a magnetic field formed in the vacuum processing chamber 1, and plasma is generated by an electron cyclotron resonance (ECR) phenomenon.例文帳に追加

真空処理室１内にプラズマを生成して試料をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、真空処理室１内に形成される磁場のＥＣＲ面に右回転する誘導電場を形成する高周波誘導アンテナを複数組（７、７’）設け、電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）現象によりプラズマを生成する。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation system and an electron beam irradiation method which can perform such a reforming processing as bridging by efficiently irradiating organic materials with electron beam and prevent integrity harming of such system as irradiation room by suppressing dissolution products, and prevent quality degradation because of stagnation of dissolution products inside the irradiation target.例文帳に追加

有機材料に効率的に電子線照射を行って架橋等の改質処理が行えるとともに分解生成物を抑制して照射室等システムの健全性阻害を防止し、被照射物の内部に分解生成物が留まり品質劣化が生じることも防止できる電子線照射システム及び電子線照射方法。 - 特許庁

A video display device is equipped with scanning line control circuits (501, 502), which supply a scanning voltage Vscan for selecting and vertically scanning a plurality of electron sources in line units to the electron sources; a signal line control circuit (4) which supplies a driving voltage Vdata, based on video signal to an electron source of at least one line; and a signal processing circuit (10) including a correction circuit.例文帳に追加

複数の電子源を行単位で選択して垂直方向に走査するための走査電圧Vscanを、該電子源に供給する走査線制御回路(501、502)と、少なくとも１行の電子源に対し、映像信号に基づく駆動電圧Vdataを供給する信号線制御回路(4)と、補正回路を含む信号処理回路(10)とを備える。 - 特許庁

The electron beam device is provided with a primary optical system 10 scanning a sample by focusing a plurality of primary electron beams, a secondary optical system 30 introducing a plurality of secondary electrons emitted from the sample by the first electron beams to each detector 41, and a detection system 40 performing image processing of a plurality of detection signals outputted from each detector.例文帳に追加

複数の一次電子線を集束して試料上を走査する一次光学系１０、一次電子線により試料から放出された複数の二次電子を各検出器４１に導入する二次光学系３０及び各検出器から出力される複数の検出信号を画像処理する検出系４０を備えている。 - 特許庁

A secondary electron emitted from a wafer is detected by a detector 41-9, and converted into image data by an image processing part 42-9, and a prescribed pattern test is carried out.例文帳に追加

ウエハから放出された二次電子は、検出器４１−９で検出され、画像処理部４２−９で画像データに変換され、所定のパターン検査が実施される。 - 特許庁

At a signal processing part 6, a deflection angle control signal is applied to the electron scan device 2 according to the measured distance value and the deflection angle of laser beam, for scanning the proximity of object's outline.例文帳に追加

信号処理部６では測距値とレーザ光の偏向角に応じて偏向角制御信号を電子スキャン装置２に与えて、被測定物の外形近傍をスキャンする。 - 特許庁

To provide a sterilization electron beam irradiation apparatus for a sheet material which can excellently maintain the decompression state of an irradiation processing room and can be fabricated economically by being downsized.例文帳に追加

照射処理室の減圧状態を良好に維持でき、小型化して経済的に製作できるシート材料の殺菌用電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam length measuring device and method that appropriately prevent contamination of a measurement object and shorten the period taken for a length measurement processing.例文帳に追加

測定対象の汚染を適切に防ぐことができ、また、測長処理にかかる時間を短縮することができる電子ビーム測長装置及び測長方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for electron beam exposure, etc., by which IT equipment can be made to operate at a higher speed, and to perform higher- degree processing and which is a basic technology for manufacturing semiconductor devices.例文帳に追加

IT機器のより一層の高速化、高度処理化を実現することができ、半導体デバイスを作るための基礎技術である電子線露光方法等を提供する。 - 特許庁

In the method for reducing the fogging effect in an electron beam lithography system, exposure is controlled in order to obtain a pattern matched to design data after processing.例文帳に追加

本発明は、電子ビームリソグラフィーシステムにおけるかぶり効果を減少させる方法に関し、設計データに一致する処理後のパターンを得るために露光が制御される。 - 特許庁

The method includes generating a nitrogen-containing plasma in a processing chamber via a smooth-varying modulated RF power source to reduce electron temperature spike.例文帳に追加

この方法は、電子温度スパイクを減少するために、滑らかに変化する変調のＲＦ電源により処理チャンバー内に窒素含有プラズマを発生することを含む。 - 特許庁

To provide an electron beam processing machine that can make a pulse beam to high frequency and optionally control a maximum or minimum value of the pulse beam, thereby allowing high quality welding.例文帳に追加

パルスビームを高周波化できるとともに、パルスビームの最大値や最小値の値を任意にコントロールでき、品質の高い溶接を可能にする電子ビーム加工機を得ることである。 - 特許庁

To provide a method for processing meat to provide the meat having juicy feeling with little loss of meat juice by subjecting raw meat for food to electrostatic field treatment by an electron charge method.例文帳に追加

食用の生肉を電子チャージ方式で静電場処理をした後、加熱調理で肉汁の損失が少ないジューシー感のある肉の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simulation method for fine processing shapes for obtaining the information on the resolution, sectional shapes, etc., of a resist of a photomask manufacturing process which execute electron beam exposure.例文帳に追加

電子線露光を行うフォトマスク作製プロセスの、レジストの解像性、断面形状等の情報を得るための微細加工形状のシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

A personal computer 20 acquires the microscopic image generated by the electron microscope 10, and performs image processing using maximum entropy method to the microscopic image.例文帳に追加

パーソナルコンピュータ２０は電子顕微鏡１０によって生成された顕微鏡画像を取得し、前記顕微鏡画像に最大エントロピー法を用いた画像処理を施す。 - 特許庁

Noise characteristics of the secondary electron image which is caused by an image detection system is determined and optimal parameters for image processing are decided based on the noise characteristics according to the object to be tested.例文帳に追加

画像検出系に起因した２次電子画像のノイズ特性を求め、この特性をもとに被検査対象に応じて最適な画像処理パラメタを決定する。 - 特許庁

A drawing pattern is divided in a data conversion processing circuit 14 based on drawing data, a cross sectional contour of electron beam is formed rectangular in accordance with a drawing pattern after division and the formed rectangular electron beam is projected to a desired position of a drawing material.例文帳に追加

描画データに基づいてデータ変換処理回路１４において描画パターンを分割し、電子ビームの断面形状を分割後の描画図形に応じて矩形に成形し、成形された矩形状の電子ビームを被描画材料の所望位置に投射する。 - 特許庁

To manufacture an array of a field electron emission element which is driven with a low voltage applied between an emitter and a gate and converges well to an anode electrode of the emission electron, with the less number of processes and high yields, by using a relatively low-cost fine processing device.例文帳に追加

エミッタとゲートとの間に印加する低い電圧で駆動し、かつ放出電子のアノード電極への収束度の高い電界電子放出素子のアレイを工程数少なく、歩留まりを高く、しかも比較的安価な微細加工装置を用いて作製する。 - 特許庁

To provide a method capable of maintaining accurate measurement without having to recalibrate a secondary electron multiplying element measuring system, and a vacuum processing device that precludes the operation from stopping for recalibration that accompanies changes in the measurement accuracy of the secondary electron multiplying element.例文帳に追加

二次電子増倍素子の測定系を再校正することなく正確な測定を維持できる方法を提供すること及び二次電子増倍素子の測定精度の変化に伴う再校正のために運転が停止されることがない真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

The electronic beam drawing device 1 has: a data generation circuit 43 for generating control data to control an electron beam optical system 200 based on drawing data; and a data processing circuit 45 for processing control data for outputting.例文帳に追加

電子ビーム描画装置１は、描画データに基づいて電子ビーム光学系２００を制御するための制御データを発生させるデータ発生回路４３と、制御データを処理して出力するデータ処理回路４５とを備えている。 - 特許庁

An irradiation processing chamber provided with an electron beam irradiating means 12 is installed in a carrier path for carrying the sheet material 1, and an exhaustion system 17 having a decompression means for making the inside in the decompression state is connected to the irradiation processing chamber 10.例文帳に追加

シート材料１を搬送する搬送路に、電子線照射手段１２を備える照射処理室を設置し、照射処理室１０には内部を減圧状態にする減圧手段を有する排気系統１７を連結している。 - 特許庁

To provide a safe, low-cost, small-sized, thin, lightweight and simple electron beam radiation device capable of uniform and sure processing with high processing efficiency, having a simple conception, requiring only a small power consumption, and dispensing with special notification.例文帳に追加

処理効率が高く、処理を均一に確実にできるとともに、安全で低コスト、構想が簡単で小型・薄型・軽量、低消費電力、特別な届出などが不要で、簡便な電子線放射装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device for processing and observing a sample by irradiating the sample with both an ion beam and an electron beam, which includes a common detector for both the ion beam and the electron beam, and in which the detector can be provided at a suitable position in accordance with details of processing on the sample and an observation technique.例文帳に追加

イオンビームと電子ビームの両方を試料へ照射して、試料の加工と観察を行う荷電粒子線装置において、イオンビームと電子ビームの両方に対して共通の検出器を有し、試料の加工内容や観察手法に応じて適した位置に検出器を設けることができる荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁