「etchable」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Then the Cu layers 6, 8 of the etchable part 11 is eliminated by etching (f).例文帳に追加

次に、エッチング可能部１１のＣｕ層６、８をエッチング処理により除去する（ｆ）。 - 特許庁

Instead of the molybdenum film, other wet-etchable conductive materials can be used.例文帳に追加

モリブデン膜に代えて、他のウェットエッチング可能な導電材料を用いることもできる。 - 特許庁

MICRO MACHINING METHOD FOR FORMING PERFECT EXTERIOR CORNER ON ETCHABLE SUBSTRATE例文帳に追加

エッチング可能な基板における完全な外部コーナー作成のためのミクロ機械加工方法 - 特許庁

The multiple channels are formed by outer circumferential walls of the acid resistant glass that surround the acid etchable glass.例文帳に追加

複数チャネルは、酸性エッチング可能ガラスを取り囲む耐酸性ガラスの外周壁により形成される。 - 特許庁

The coupling part connecting at least the piece substrate and an extra substrate surrounding the piece substrate is formed by an etchable metal.例文帳に追加

少なくとも個片基板と当該個片基板を囲む捨て基板とを繋ぐ連結部をエッチング可能な金属にて形成した。 - 特許庁

An anisotropic etching is carried out via a mask to form a pattern of holes extending through the support layer into the etchable material.例文帳に追加

異方性エッチングを、マスクを介して行い、支持体層を通り上記エッチング可能な材料中にまで伸びている孔パターンを形成する。 - 特許庁

To form microchannels by means of bending processing by subjecting an acid etchable glass to a bending processing, without reducing the diameter size of the microchannels.例文帳に追加

酸性エッチング可能ガラスに曲げ処理を施して、マイクロチャネルの直径を減少させることなく、マイクロチャネルを曲げ処理により形成する。 - 特許庁

A covering layer comprising a noble metal element and an etchable metal element is formed on a substrate and the surface of the covering layer is roughened by etching.例文帳に追加

基材の上に、貴金属元素と、エッチング可能な金属元素とを含む被覆層を形成した後、被覆層の表面をエッチングによって粗面化する。 - 特許庁

Next, anisotropic etching is implemented through the aperture in order to form a hole extending through the support layer to the layer of the etchable material.例文帳に追加

つぎに、異方性エッチングは、支持層を通ってエッチング可能な材料の前記層まで延びる穴を形成するために開口を通して実行される。 - 特許庁

An isotropic etch is conducted through the each hole to form a corresponding cavity in the etchable material under the each hole and expanding under the support layer.例文帳に追加

各孔を通して等方性エッチングを行い、各孔の下のエッチング可能な材料中支持体層の下に広がる対応する空洞を形成する。 - 特許庁

A mechanically stable support layer is formed over a layer of a etchable material, in a method of fabricating a microstructure for micro- fluidics applications.例文帳に追加

マイクロフルイディックス用途用のマイクロ構造体の形成方法において、機械的に安定な支持体層をエッチング可能な材料の層上に形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine inorganic material pattern simply at a high productivity and at a low cost even when the inorganic material is a hardly etchable material.例文帳に追加

無機材料、特に難エッチング性材料においても微細な無機材料パターンを簡易で生産性が高く、低コストで形成できる方法を提供する。 - 特許庁

Another method for forming layers having tapered edges includes the deposition of a layer in which the upper portion is etchable at a faster rate than the lower portion.例文帳に追加

テーパ縁を有する層を形成するための別の一方法は、上方部分が下方部分よりも速い速度でエッチング可能な層を堆積することを含む。 - 特許庁

Then a resist layer 9 is formed (c), and exposed by using a photomask 10 (d), and the exposed resist layer 9 is eliminated to form an etchable part 11 (e).例文帳に追加

次に、レジスト層９を形成した後（ｃ）、フォトマスク１０を用いて露光し（ｄ）、露光されたレジスト層９を除去してエッチング可能な部分１１を形成する（ｅ）。 - 特許庁

A first mesa is formed by removing from the p-type InP window layer 5 to the n-type InP buffer layer 2 by a low selectively etchable Br-based etchant in an inclined forward mesa form.例文帳に追加

そして、ｐ型ＩｎＰ窓層５からｎ型ＩｎＰバッファ層２まで、選択エッチング性の低いＢｒ系エッチャントによって傾斜型順メサ形状に除去して第一のメサを形成した。 - 特許庁

A wet-etchable layer, a ZnO layer 11 for example, is formed on a substrate 10 such as a sapphire substrate, and a plurality of protrusions 12 are formed of a SiO_2 film for example on it.例文帳に追加

サファイア基板などの基板１０上にウエットエッチング可能な層、例えばＺｎＯ層１１を形成し、その上に例えばＳｉＯ_2 膜により複数の凸部１２を形成する。 - 特許庁

The MCP includes a plate having opposing end surfaces formed of acid resistant glass and acid etchable glass, and multiple channels extending longitudinally between the opposing end surfaces.例文帳に追加

ＭＣＰは、耐酸性ガラスおよび酸性エッチング可能ガラスから形成される対向する端部表面を有するプレートと、対向する端部表面の間を縦方向に延伸する複数チャネルと、を具備する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is developable (etchable) with an aqueous alkali solution, without impairing its superior heat resistance, mechanical strength and electric insulating property peculiar to a polyimide and giving an image that is clear even down to minute parts.例文帳に追加

ポリイミドが本来有する優れた耐熱性、機械強度、電気絶縁性を損なうことなく、アルカリ水溶液による現像（エッチング）が可能で、かつ微細部分まで鮮明な像が得られる感光性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

The mask blank includes a transparent substrate 1 and a light-shielding film 2 formed on the transparent substrate, and the light-shielding film made of a material composed mainly of a metal that is dry-etchable with a chlorine-based gas, wherein a resist film is used upon forming a transfer pattern in the light-shielding film 2.例文帳に追加

透光性基板１上に、塩素系ガスでドライエッチング可能な金属を主成分とする材料で形成される遮光膜２を備え、該遮光膜２に転写パターンを形成する際にレジスト膜を用いるマスクブランクである。 - 特許庁

After isotropic etching is implemented through the hole to form microchannels in the etchable material extending beneath the support layer, another layer is bonded onto the support layer until a projecting portion makes contact, thereby closing the microchannels formed beneath the aperture.例文帳に追加

支持層の下に延びるエッチング可能な材料にマイクロチャネルを形成するために穴を通して等方性エッチングを実行した後、他の層は、突き出る一部が接触するまで支持層の上に付着され、それによって開口の下に形成されたマイクロチャネルを閉じる。 - 特許庁

The method of forming the post structure comprises the steps of: forming unit patters 20 on a substrate 10 using a first material; growing a second wet-etchable material on the substrate that is formed with the unit patterns; and wet-etching the substrate where the second material is grown.例文帳に追加

基板１０に第１物質を用いて単位パターン２０を形成する段階と;前記単位パターンが形成された基板上に湿式エッチング可能な第２物質を成長させる段階と;前記第２物質が成長された基板を湿式エッチングする段階と；を含んで柱構造の形成方法を構成する。 - 特許庁

This boule furthermore has preferably a plurality of optical fibers, each of which has a plurality of support rods that are formed each with a cladding layer formed with an unetchable material, a core formed with an etchable material, and an unetchable material positioned between the above flat inner surface and the above optical fiber.例文帳に追加

好ましくは、このブールは、複数の光ファイバーをさらに備え、該光ファイバーの各々が、エッチング不能な材料から形成されるクラッデング層およびエッチング可能な材料から形成されるコア、および該平坦な内表面と該光ファイバーとの間に位置するエッチング不能な材料から形成される複数の支持ロッドを有する。 - 特許庁

In a circuit substrate base material on which a plurality of circuit layers are formed by laminating other circuit components and the like on the top of the circuit base material for this manufacturing method that is laminated with the metal foil having the conductive projection and the insulating resinous layer, the metal foil having the conductive projection has a selectively etchable resist layer at the top of the conductive projection.例文帳に追加

この製造方法用の、導電性突起を有する金属箔と絶縁樹脂層とを積層した回路基材に、他の回路部材等を積層して複数の回路層を形成した回路基板用基材において、導電性突起を有する金属箔は、導電性突起の頂部に選択エッチング可能なレジスト層を有する回路基板用基材。 - 特許庁

In an integrated circuit including a buried layer 13 of a predetermined conductivity type in a plane substantially parallel to a plane of a main circuit surface, it is characterized in that a layer portion 15 made of a selectively etchable material is formed, and the layer portion 15 is removed by isotropic etching, and a median portion of the buried layer 13 is filled with a metal-form material.例文帳に追加

主回路表面の平面にほぼ平行である平面内に、所定の導電型の埋込層１３を有する集積回路において、選択的にエッチングできる材料で作られた層部分１５が形成され、等方向性エッチングによって前記層部分１５が取り除かれ、前記埋込層１３の中央部分が金属型材料で埋められることを特徴とする集積回路。 - 特許庁