「etching manufacturing」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a metal etching product with an insulating treatment applied capable of easily and cheaply manufacturing metal etching products with high insulation reliability, and a metal etching product with an insulating treatment applied.例文帳に追加

絶縁信頼性の高い金属エッチング製品を、容易かつ安価に製造することが可能な絶縁処理を施した金属エッチング製品の製造方法および絶縁処理を施した金属エッチング製品を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ETCHING RESIST, METHOD OF MANUFACTURING PATTERN, MEMS STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, DRY ETCHING METHOD, WET ETCHING METHOD, MEMS SHUTTER DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

エッチングレジスト用感光性樹脂組成物、パターン作製方法、ＭＥＭＳ構造体及びその作製方法、ドライエッチング方法、ウェットエッチング方法、ＭＥＭＳシャッターデバイス、並びに、画像表示装置 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which comprises an etching process which is unavoidable of the deterioration of an etching selection ratio of each oxide film, when the method of manufacturing the semiconductor device is accompanied by the formation of two kinds of oxide films or more, having etching characteristics different from each other.例文帳に追加

互いにエッチング特性が異なる２種以上の酸化膜の形成を伴う場合に、エッチング選択比の悪化を回避しうるエッチング工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR PATTERNING INDIUM TIN OXIDE, AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME ETCHING SOLUTION例文帳に追加

インジウム錫酸化物のパターニングのためのエッチング溶液及び該エッチング溶液を利用した液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

To prevent the fluctuation of an etching rate and to perform etching with satisfactory reproducibility in the manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、エッチングレートの変動を防止して再現性の良好なエッチングを行う。 - 特許庁

ETCHING LIQUID OF COMPOUND SEMICONDUCTOR FILM, MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND ETCHING METHOD OF COMPOUND SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加

化合物半導体膜のエッチング液およびその製造方法ならびに化合物半導体膜のエッチング方法 - 特許庁

WET ETCHING DEVICE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT AND WET ETCHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

半導体素子製造用湿式エッチング装置及びこれを用いた半導体素子の湿式エッチング方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING METHOD, MANUFACTURING OF ELECTRONIC DEVICE, PLASMA ETCHING DEVICE AND PLASMA PROCESSOR例文帳に追加

プラズマエッチング方法および電子デバイスの製造方法並びにプラズマエッチング装置およびプラズマ処理装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING HEXAVALENT IRON ION SOLUTION, ETCHING TREATMENT AGENT FOR NONCONDUCTIVE MEMBER, AND METHOD FOR ETCHING NONCONDUCTIVE MEMBER例文帳に追加

六価鉄イオン溶液製造方法及び非導電性部材のエッチング処理剤並びに非導電性部材のエッチング処理方法。 - 特許庁

To conduct an etching having an excellent reproducibility by using a trend at a previously measured etching rate regarding a manufacturing method for a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、予め計測したエッチングレートのトレンドを用いて再現性の良いエッチングを行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light emitting device, where abnormal side etching is prevented so as to obtain a mesa in superior shape by etching.例文帳に追加

異常なサイドエッチの発生を阻止して、良好なメサエッチ形状を得ることができる半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing anisotropic etching is carried out on a substrate, isotropic etching is performed.例文帳に追加

本発明は、マスクを形成し、基板に異方性エッチングを行った後、等方性エッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁

METHOD OF CLEANING PLASMA ETCHING SYSTEM, METHOD OF PLASMA ETCHING AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマエッチング装置のクリーニング方法、プラズマエッチング方法及び半導体装置の作製方法 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor devices which constitutes a method of etching that replaces selective etching of SiN film that uses phosphoric acid.例文帳に追加

ＳｉＮ膜の燐酸を用いた選択的エッチングに代替するエッチング方法を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric device, in which good etching selectivity for a mask can be obtained while securing an etching rate.例文帳に追加

エッチングレートを確保しつつ、マスクに対する良好なエッチング選択性を得ることができる誘電体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of optical element without using dry etching and without performing a plurality of times of etching steps.例文帳に追加

ドライエッチングを使用することなく、かつ、エッチング工程を複数回行わずに、光学素子を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The etching of the guard bands may be easily incorporated during the etching of the integrated circuit patterns of a manufacturing protocol.例文帳に追加

ガード・バンドのエッチングは、製造プロトコルの集積回路パターンのエッチング中に容易に組み込むことができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a guide wire satisfying the operability and the strength by taperedly etching a core material by chemical etching.例文帳に追加

化学エッチングによりコア材ワイヤーをテーパ・エッチングして、操作性および強度を満足するガイドワイヤーの製造方法を提供すること。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF METAL ETCHING PRODUCT WITH INSULATING TREATMENT APPLIED AND METAL ETCHING PRODUCT WITH INSULATING TREATMENT APPLIED例文帳に追加

絶縁処理を施した金属エッチング製品の製造方法および絶縁処理を施した金属エッチング製品 - 特許庁

To provide a thin-film multilayer circuit board together with its manufacturing method, wherein no side-etching or resticking of an etching residue takes place.例文帳に追加

サイドエッチングやエッチング残渣の再付着の生じない薄膜多層回路基板の製造方法および薄膜多層回路基板を提供する。 - 特許庁

DISK SUBSTRATE ETCHING METHOD, DISK SUBSTRATE ETCHING DEVICE, AND MAGNETIC DISK MEDIA MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加

ディスクサブストレートエッチング方法、ディスクサブストレートエッチング装置および磁気ディスクメディア製造装置 - 特許庁

WET ETCHING METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR INKJET RECORDING HEAD USING METHOD, AND WET ETCHING DEVICE例文帳に追加

ウエットエッチング方法、該方法を用いたインクジェット記録ヘッドの製造方法、およびウエットエッチング装置 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can perform etching more accurately than the case where termination of etching is managed by time, and to provide a manufacturing method for the device.例文帳に追加

エッチングの終了を時間管理する場合よりも精度良くエッチングできる半導体装置とその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an etching method with an improved etching factor and a method for manufacturing a circuit device by using the above method.例文帳に追加

エッチングファクターを向上させたエッチング方法およびそれを用いた回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

DRY-ETCHING SYSTEM, METHOD OF CLEANING DRY-ETCHING SYSTEM, AND DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRO-OPTIC DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング装置、ドライエッチング装置のクリーニング方法、電気光学装置の製造装置及び電気光学装置の製造方法 - 特許庁

To provide an etching method capable of reducing a manufacturing cost compared to an etching process using acid.例文帳に追加

酸を用いたエッチング処理に比して製造コストを低減することができるエッチング方法を得ること。 - 特許庁

To provide an etching method with an improved etching factor, and a method for manufacturing a circuit device by using it.例文帳に追加

エッチングファクターを向上させたエッチング方法およびそれを用いた回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device manufacturing method removes a required area of the surface of an SOI board by etching by using an oxide film area of the SOI board as an etching stopper.例文帳に追加

本発明はＳＯＩ基板の表面の所望の領域をＳＯＩの酸化膜領域をエッチングストッパとして利用してエッチング除去する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silica fine structure, such that when a silica layer is subjected to dry etching, etching can be stopped at a desired level.例文帳に追加

シリカ層を乾式エッチングする時、希望する位置でエッチングを停止することのできるシリカ微細構造の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor manufacturing apparatus, the pressure in an etching tank never rises to a level higher than required, and no moisture content flows outside the etching tank.例文帳に追加

槽内の圧力が必要以上に上がらず、しかもエッチング槽外へ水分が流れ出ない事を両立できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of color filter which permits the removal of resist as a pattern mask for etching concurrently with dry etching of a colored layer.例文帳に追加

着色層のドライエッチング処理と共にエッチング用パターンマスクをなすレジストの除去を可能とする。 - 特許庁

To obtain a method for manufacturing a semiconductor device which can prevent etching damage of an underlying gate oxide film and have no defect caused by etching residue.例文帳に追加

下地ゲート酸化膜のエッチング損傷を防止し、エッチング残さによる欠陥のない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device comprises an etching process of carrying out an anisotropic etching of a silicon wafer 102 forming an etching mask by using alkali solution; and a breaking process of breaking a projection of the etching mask projecting against the opening 103 of the silicon wafer 102 so as to reside at the corner of the etching mask after the etching process.例文帳に追加

エッチングマスクを形成したシリコンウェハ１０２をアルカリ溶液を用いて異方性エッチングするエッチング工程と、エッチング工程の後に、エッチングマスクのコーナー部に位置するようにシリコンウェハの開口部１０３に対して突出するエッチングマスクの突出部を破断する破断工程と、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いて石英製の基板１０をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板１０に凹凸パターンを有したエッチングマスク２０を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク２０の側壁への保護膜３０の形成と基板１０のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁

ETCHING GAS COMPOSITION FOR ETCHING SILICON OXIDE AND POLYSILICON SIMULTANEOUSLY, ETCHING METHOD BY USE THEREOF AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR MEMORY THEREBY例文帳に追加

シリコン酸化物とポリシリコンを同時にエッチングするためのエッチングガス組成物、これを利用したエッチング方法およびこれを利用した半導体メモリ装置の製造方法 - 特許庁

To provide the manufacturing method of etching foil for aluminum electrolytic capacitor, capable of uniformly etching an aluminum foil, of yielding high electrostatic capacitance, and of obtaining an etching foil having robust folding strength.例文帳に追加

アルミニウム箔のエッチングを均一に行うことができ、高い静電容量が得られ、かつ、折曲強度の強いエッチング箔を得ることができるアルミニウム電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device for improving etching precision and etching controllability and for optimizing different etching conditions according to the state of a wafer, and to provide a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

エッチング精度とエッチング制御性の向上を図ることができるとともに、ウエハ状態によって異なるエッチング条件の最適化を図ることができる半導体装置とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a process for manufacturing a recess-gate type FET, a recess etching process (S105) subjects it to an aqueous solution containing aqueous ammonia for selective etching with GaAs in wet-etching.例文帳に追加

リセスゲート型のＦＥＴ製造工程において、リセスエッチングプロセス（Ｓ１０５）はアンモニア水を含む水溶液でウエットエッチングでＧａＡｓの選択エッチング（リセスエッチング（Ｓ１０５））を行う。 - 特許庁

In the method and the apparatus of the etching manufacturing process of a panel, the panel is placed and fixed flatly in an etching work tank, and a sufficient and appropriate amount of etching liquid for dipping the panel is injected into the tank.例文帳に追加

パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置は、パネルをエッチング作業タンク中に平置き固定し、その後タンク中にそのパネルを浸漬するに充分な適量のエッチング液を注入する。 - 特許庁

To provide a dielectric device manufacturing method and an etching method which enable the enhancement of the etching selectivity between ferroelectric and an electrode, and highly precise etching of ferroelectric.例文帳に追加

強誘電体と電極との間のエッチング選択性を高め、強誘電体を高精度にエッチングすることができる誘電体デバイスの製造方法及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing etching parts which is capable of controlling the surface roughness in etching to a specified value or below in etching a metallic base material consisting of an iron-nickel alloy.例文帳に追加

鉄−ニッケル合金からなる金属基材をエッチングする際エッチング時の表面粗さを一定の値以下に制御することができるエッチング部品の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

An etching device 3 is used in a manufacturing process of a circuit board, and an etching liquid is jetted to a plated substrate material A which is transported horizontally for etching.例文帳に追加

このエッチング装置３は、回路基板の製造工程で使用され、水平搬送されるメッキされた基板材Ａに対し、エッチング液を噴射してエッチングする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an acceleration sensor that performs etching with high accuracy, and also reduces nonuniformity in etching upon etching a plurality of substrates, and to provide the acceleration sensor manufactured by the method.例文帳に追加

高精度にエッチングすることができるとともに複数の基板をエッチングする際のエッチングのバラツキを低減することのできる加速度センサの製造方法及びその製造方法で製造された加速度センサを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device that reduces the amount of side etching of wet etching processing while maintaining cleanness of a chemical, and a wet etching device.例文帳に追加

本発明は、薬液の清浄度を保ちつつ、ウエットエッチング処理のサイドエッチング量を低減させる半導体装置の製造方法及びウエットエッチング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a compact ion gun which can make flat both sides of a substrate, an ion beam etching device equipped with it, an ion beam etching equipment, an etching method using the above, and a manufacturing method of a magnetic recording medium.例文帳に追加

基板の両面を平坦化できるコンパクトなイオンガン、これを備えたイオンビームエッチング装置、イオンビームエッチング設備、これらを用いたエッチング方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁