「etching manufacturing」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing an electrostatic actuator or the like capable of preventing the yield from decreasing caused by invasion of an etching liquid and an etching gas into a gap in the midway of a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程途中において、エッチング液やエッチングガスのギャップへの侵入に起因する歩留まり低下を防止することが可能な静電アクチュエータの製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device where an etching residue is not generated in etching an inorganic insulating film covered with an organic insulating film, and to provide its manufacturing method, and a photosensitive resin composition to be used for the manufacturing method.例文帳に追加

有機絶縁膜を被覆した無機絶縁膜のエッチング時にエッチング残渣が生成しない半導体装置、その製造方法及び当該製造方法に使用する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a dry etching device and a in which etching deflection in a wafer surface to be plasma-treated can be adjusted, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device and an Si ring.例文帳に追加

プラズマ処理されるウェハ面内のエッチング偏向が調整可能なドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法、Ｓｉリングを提供する。 - 特許庁

COPPER OXIDE FILM FORMING METHOD, COPPER FILM ETCHING METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS AND THE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

銅酸化膜の形成方法、銅膜のエッチング方法、半導体装置の製造方法、半導体製造装置及び半導体装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ETCHING MASK FOR SILICON STRUCTURE HAVING OPENING OF HIGH ASPECT RATIO, ITS DEVICE AND ITS MANUFACTURING PROGRAM例文帳に追加

高アスペクト比の開口を有するシリコン構造体用エッチングマスクの製造方法及びその装置並びにその製造プログラム - 特許庁

MICROLENS ARRAY PLATE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ETCHING METHOD FOR SUBSTRATE, OPTOELECTRONIC DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

マイクロレンズアレイ板及びその製造方法、基板のエッチング方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器 - 特許庁

In the manufacturing method of the semiconductor device, an etching stop layer is provided selectively between the layers of a multilayer circuit in consideration of degassing impurities during its continuous manufacturing processes.例文帳に追加

連続する製造過程中に不純物のガス抜けを考慮して多層回路の層間にエッチング阻止層が選択的に提供される。 - 特許庁

MOLDING WITH MULTI-COLOR DESIGN AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR AND LASER ETCHING TRANSFER FOIL USED IN THIS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

多色意匠を有する成形品とその製造方法、およびその製造方法に用いるレーザーエッチング転写箔 - 特許庁

WET ETCHING METHOD, DAMAGED LAYER REMOVING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ウェットエッチング方法、ダメージ層除去方法、半導体装置の製造方法、および半導体基板の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF FLUID INJECTION HEAD, MANUFACTURING METHOD OF FLUID INJECTOR AND ETCHING METHOD OF SILICON SUBSTRATE例文帳に追加

流体噴射ヘッドの製造方法、流体噴射装置の製造方法、及びシリコン基板のエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING ETCHING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THREE-DIMENSIONAL STRUCTURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THREE-DIMENSIONAL PHOTONIC CRYSTALLINE LASER ELEMENT例文帳に追加

エッチングマスクの形成方法、３次元構造体の製造方法及び３次元フォトニック結晶レーザー素子の製造方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a wiring board with higher accuracy, an etching apparatus, and an apparatus for manufacturing a wiring board.例文帳に追加

精度が高い配線基板の製造方法、エッチング装置並びに配線基板の製造装置を提供することにある。 - 特許庁

METHOD OF CLEANING DRY-ETCHING SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTIC DEVICE, AND PROGRAM FOR REALIZING THE MANUFACTURING METHOD WITH COMPUTER例文帳に追加

ドライエッチング装置のクリーニング方法、電気光学装置の製造方法およびそれをコンピュータで実現するためのプログラム - 特許庁

To provide a manufacturing method of a display substrate for reducing defects due to excessive etching, a mask for the manufacturing method, and a display substrate.例文帳に追加

過剰なエッチングによる不良を減少させるための表示基板の製造方法、その製造方法のためのマスク、及び表示基板を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an SOI substrate having an etching blocking film, and to provide a method for manufacturing an SOI integrated circuit by using the blocking film.例文帳に追加

エッチング阻止膜を有するＳＯＩ基板の製造方法、及びそれを用いてＳＯＩ集積回路を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method for uniform processing with a proper yield, a manufacturing method for a device, and to provide a manufacturing method for a piezoelectric device.例文帳に追加

歩留まりよく均一に加工することができるエッチング方法、デバイスの製造方法および圧電体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polarizing optical element capable of simplifying a manufacturing process without requiring dry etching, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

ドライエッチングを必要とせずに製造工程を簡略化することができる偏光光学素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of an inkjet recording head having a protective film forming step forming the etching protect film 9 for protecting a device face formed constituting the inkjet recording head for discharging an ink on a substrate from an etching liquid and an etching step etching the substrate using the etching liquid after the protective film forming step, the etching protect film 9 including a filler is used as the etching protective film 9.例文帳に追加

インクを吐出するためのインクジェット記録ヘッドを構成する基板上に形成されたデバイス面をエッチング液から保護するためのエッチング保護膜９を形成する保護膜形成工程と、保護膜形成工程の後に、基板をエッチング液を用いてエッチングするエッチング工程とを有するインクジェット記録ヘッドの製造方法において、前記エッチング保護膜９にフィラーを含むエッチング保護膜９を用いる。 - 特許庁

In the manufacturing method, an etching rate of the second guide layer 22 is calculated on the basis of a change in AlCl emission intensity in the etching of the monitor layer 20 and the second guide layer 22 by dry etching using a chlorine type gas.例文帳に追加

本製造方法では、塩素系ガスによるドライエッチングによってモニタ層２０及び第２ガイド層２２がエッチングされる際のＡｌＣｌの発光強度の変化に基づいて、第２ガイド層１８のエッチングレートが算出される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate with recessed parts for a microlens which can fully promote isotropic etching by preventing an etching mask film from being removed or broken at the time of wet etching.例文帳に追加

本発明は、ウェットエッチングの際にエッチングマスク膜が除去されたり破れたりするのを防止して、十分に等方性エッチングを進行させることのできる、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device having a dual damascene wiring capable of etching a wiring groove while protecting a lower layer wiring and keeping the shape of a via hole good without using an etching stopper in the case of etching the wiring groove.例文帳に追加

配線溝エッチング時に、エッチングストッパ層を用いず、下層配線を保護しつつ、かつビア孔形状を良好に保って、配線溝のエッチングを行なえる、デュアルダマシン配線を有する半導体集積回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a microneedle includes a step of forming an island-like etching mask, which has a thickness distribution, on a substrate, and a step of processing the substrate into needle shape by using a difference between the etching rate of the etching mask and that of the substrate.例文帳に追加

基板上に厚み分布をもつ島状のエッチングマスクを形成する工程と、前記エッチングマスクと基板とのエッチングレートの差を利用して前記基板を針状に加工する工程とを含むことを特徴とするマイクロニードルの製造方法。 - 特許庁

To obtain a method for forming patterns and a method for manufacturing semiconductor devices, which reduce the lowering of an etching rate accompanying the advance of dry etching and can form an etching pattern with an enhanced aspect ratio for a member to be processed.例文帳に追加

ドライエッチングの進行に伴うエッチング速度の低下を抑え、被加工部材に対しよりアスペクト比の高いエッチングパターンの形成を行うことのできるパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which removes etching residues resulting from a selective etching of a silicon nitride film or a silicon oxide film formed as a hard mask, without giving damage to the base and without greatly etching the remaining hard mask.例文帳に追加

ハードマスク用として形成されたシリコン窒化膜またはシリコン酸化膜を選択的にエッチングした際の残渣を、下地にダメージを与えず、かつ残存しているハードマスクを大きくエッチングすることなく除去することができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A method for manufacturing a micromechanical sound transducer includes depositing successive layers of first and second membrane support material on a first main surface of a substrate arrangement with a first etching rate and a second etching rate lower than the first etching rate, respectively.例文帳に追加

微小機械音響トランスデューサの製造方法は、基板構成の第１主面上に、第１のエッチング速度およびこれより低い第２のエッチング速度をそれぞれ有する第１および第２の膜支持材料の連続的な層を堆積させるステップを含んでいる。 - 特許庁

To provide an etching solution which is improved in etching characteristics and used for single crystal silicon, and to provide a method of manufacturing a silicon deposition mask which is capable of stably mass-producing silicon deposition masks of high accuracy by using the above etching solution for single crystal silicon.例文帳に追加

エッチング特性を改善する単結晶シリコン用エッチング液を提供するとともに、この単結晶シリコン用エッチング液を用いることにより、高精細な蒸着マスクを安定して大量に製造することができるようにした、シリコン蒸着マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a plasma etching system which can suppress fluctuation in TFT reliability among lots while preventing so-called trailing phenomenon, and to provide a method of plasma etching and a method of manufacturing a semiconductor device using the method of plasma etching.例文帳に追加

裾引きと呼ばれる現象を防ぎ、なおかつロット間におけるＴＦＴの信頼性のバラツキを抑えることができる、プラズマエッチング装置のクリーニング方法、プラズマエッチング方法及び該プラズマエッチング方法を用いた半導体装置の作製方法の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a method for removing a hard etching mask capable of removing the hard etching mask containing a silicon oxide film or a silicon nitride film while inhibiting the corrosion and etching of a layer to be etched, and to provide a manufacturing method for a semiconductor device.例文帳に追加

被エッチング層の腐食やエッチングを抑制しつつ、シリコン酸化膜あるいはシリコン窒化膜を含むハードエッチングマスクを除去することができるハードエッチングマスクの除去方法および半導体装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a dry etching equipment and a semiconductor device, in which uniform etching is realized in a wafer surface, by making the amount of incidence of an etching reaction product in a wafer peripheral part and a wafer central part uniform, even when a wafer having a large diameter is used.例文帳に追加

大口径のウエハを用いた場合でも、ウエハ周辺部とウエハ中心部とのエッチング反応生成物の入射量を均一にして、ウエハ面内で均一なエッチングを実現するドライエッチング装置および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the processing method of a thin film, the manufacturing method of a thin film transistor and a high density plasma etching device superior in an etching rate and a shape while securing a selection ratio with a substrate material in the dry etching of a metal material mainly comprising Mo.例文帳に追加

Moを主成分とする金属材料のドライエッチングにおいて、下地材料との選択比を確保しつつエッチングレートおよび形状に優れる薄膜の加工方法と薄膜トランジスタの製造方法および高密度プラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To facilitate control of the etching rates of a movable part and a fixed part in sacrifice layer etching, in a manufacturing method of a semiconductor dynamic quantity acceleration sensor for forming a groove for partitioning the movable part and fixed part in a second silicon layer and then performing the sacrifice layer etching via a groove.例文帳に追加

第２のシリコン層に可動部と固定部とを画定する溝を形成した後、この溝を介して犠牲層エッチングを行う半導体加速度センサの製造方法において、犠牲層エッチングにおける可動部および固定部のエッチングレートの制御を容易にする。 - 特許庁

To obtain a circuit pattern reducing the dispersion of etching quantity by reducing the influence of etching from the side face direction of a 2nd metallic conductive layer at the time of removing a 1st metallic conductive layer by etching, in a printed board manufacturing method using a semi-additive method.例文帳に追加

セミアディティブ法によるプリント配線板の製造方法において、第一金属導電層をエッチング除去する際の第二金属導電層の側面方向からのエッチングの影響を少なくし、エッチング量のばらつきが少ない回路パターンを得る。 - 特許庁

To attain both detachability from a die of an original disk substrate for transfer and transfer accuracy of the original disk for a body to be transferred, and to balance etching accuracy/etching efficiency/fineness of formed pattern in an etching process of a flat substrate, in a manufacturing method of a die of the original disk substrate for transfer.例文帳に追加

転写用原盤基板の型の製造方法において、転写用原盤基板の型からの剥離性と、転写用原盤の被転写体への転写精度の両立を図ると共に、平坦基板のエッチング工程におけるエッチング精度／エッチング効率／形成されるパターンの精細化のバランスを図る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid jet head in which discharge characteristics are stabilized by preventing occurrence of projecting etching residues on an etching face of a vibrating plate manufactured by etching, and a liquid jet device provided with the liquid jet head.例文帳に追加

エッチングによって作製される振動板のエッチング面状における凸状エッチング残りの発生を防止することで吐出特性を安定させた液体噴射ヘッドの製造方法、及び、その液体噴射ヘッドを備えた液体噴射装置を提供する。 - 特許庁

Since the TiN film 102 can be readily removed after anisotropic etching, it is possible to eliminate the need for additional process for removal of an etching mask which remains in eaves shape after anisotropic etching, thus realizing micromirror formation of high quality without increasing manufacturing process.例文帳に追加

ＴｉＮ膜１０２は、異方性エッチング後の除去を容易に行うことが可能なため、異方性エッチング後にひさし状に残るエッチングマスク除去のための工程を追加する必要がなく、製造工程の増加を招くことなく高品位のマイクロミラー形成が実現可能となる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an oscillator in sufficient yield by preventing a damage of a crystal chip during etching by exactly finishing contours of a plurality of oscillation legs projected from a base part without etching residue by a process of a crystal oscillator in which electrodes are provided by forming the oscillation legs with thin groove parts by the etching.例文帳に追加

基部から突き出した複数の振動脚に、細い溝部を形成して電極を設けた水晶振動子のエッチングによる製法にて、振動脚外形をエッチング残渣なく正確に仕上げ、エッチング中の水晶片の破損を防いで振動子を歩留まりよく製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a thin film pattern which is capable of preventing a thin film that is not an object of etching from being etched even when thin films is subjected to etching under the condition that etching selectivity is set low, and to provide an electro-optical device, its manufacturing method, and an electronic apparatus.例文帳に追加

同一基板上に形成された薄膜をエッチング選択性の低い条件でエッチングする場合でも、エッチング対象とされない薄膜がエッチングされることを防止可能な薄膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

As a result, these mixtures were roughly equal with the mixture prepared by the conventional techniques in the flatness of an etching surface, but the smell of acetic acid disappeared and it has been found that the working environment for manufacturing the etching liquid can be improved because of it and at the same time, recycling becomes easy to promote also about the disposal of the waste fluid of the etching liquid.例文帳に追加

その結果、エッチング面の平滑度ではほぼ同等であったが、酢酸臭が全くなくなり、そのために作業環境が改善出来ることがわかったこと、同時にエッチング液の廃液処理についても再利用が進めやすくなった。 - 特許庁

To provide a silica glass plate for a fluid circulation and its manufacturing method, wherein in particular in a plasma etching device, a reaction efficiency of a plasma etching or the like is good, and it is intended to miniaturize an assembly device of the plasma etching device or the like, and also a perforation process is facilitated.例文帳に追加

特に、プラズマエッチング装置において、プラズマエッチング等の反応効率がよく、プラズマエッチング装置等の組込み装置の小型化が図れ、かつ、孔明け加工が容易な流体流通用シリカガラス板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device by an etching process using laser beam irradiation, which can applied for production of a semiconductor device in wide range requiring the etching process for a complicated shape, deep and large removal region or the like, and can obtain high etching rate.例文帳に追加

レーザ光の照射を利用したエッチング加工による半導体装置の製造方法であって、複雑形状や深くて大きい除去領域等のエッチング加工が必要な広範囲の半導体装置の製造に適用可能で、高いエッチング速度が得られる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method of manufacturing the semiconductor device, a step of finely working a resist pattern, formed in a lithography step by isotropic etching using ozone and another step of etching a work by using the finely worked resist pattern as a mask are performed by means of the same etching system EM1.例文帳に追加

オゾンを用いた等方性エッチングによってリソグラフィ工程で形成されたレジストパターンを細く加工する工程と、細く加工されたレジストパターンをマスクとして被加工材をエッチングする工程とを同一のエッチング装置ＥＭ１で行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device that performs anisotropic dry-etching on an insulating film allowing for high selectivity with a photo-resist film and without causing an etching stop, the anisotropic dry-etching done when forming an upper contact with a large radius and a lower contact with a small radius.例文帳に追加

上部の径が大きく、下部の径が小さなコンタクトを形成する際に行う絶縁膜の異方性ドライエッチングを、フォトレジスト膜との選択性が高く且つエッチストップを生ずることなくエッチングする、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

According to the manufacturing process, an inter-layer insulating film 9 is subjected to wet etching with 10:1 BHF followed by dry etching using the same resist mask 10 for the wet etching, to form contact holes 11, 12 consecutively on the inter-layer insulating film 9 and a gate insulating film 4.例文帳に追加

層間絶縁膜９に対する１０：１ ＢＨＦによるウェットエッチングに続いて、同一レジストマスク１０を用いたドライエッチングを行うことにより、層間絶縁膜９およびゲート絶縁膜４にコンタクトホール１１，１２を連続して形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an inverse prevention type IGBT equipped with an inclined side surface, causing little unwanted etching that reaches the lower side of an etching mask at the time when forming a slope on the side surface of a semiconductor chip, resulting in no contamination with etching liquid.例文帳に追加

半導体チップ側面に傾斜面を形成する際に、エッチングマスクの下側に及ぶ不必要なエッチングがほとんど無く、エッチング液による汚染も生じない傾斜状の側面を備える逆阻止型ＩＧＢＴの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a method for manufacturing the tuning fork type quartz oscillator using the photolithography technique, etching pattern width of a crystal orientation side that causes etching residue of a tuning fork branch part of the tuning fork type quartz oscillator is uniformly set to perform etching.例文帳に追加

フォトリソグラフィ技術を用いた音叉型水晶振動子の製造方法において、音叉型水晶振動子の音叉枝部のエッチング残りを生じる結晶方位側のエッチングパターン幅を均一に設定しエッチングする事を特徴とする音叉型水晶振動子の製造方法とする。 - 特許庁