「etching manufacturing」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for improving the selection ratio of a low dielectric constant insulating film and an etching mask layer without increasing the thickness of the etching mask layer such as an etching stopper film.例文帳に追加

エッチングストッパ膜などのエッチングマスク層の厚みを増加することなく、低誘電率絶縁膜とエッチングマスク層との選択比を高めることが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method capable of controlling an etching amount with high accuracy, to provide a manufacturing method of the semiconductor device employing the etching method, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

高精度にエッチング量を制御することのできるエッチング方法、かかるエッチング方法を用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method for performing stable etching treatment, a method for manufacturing a microstructure, and an etching apparatus.例文帳に追加

本発明は、安定したエッチング処理を行うことができるエッチング処理方法、微細構造体の製造方法、およびエッチング処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin-film transistor capable of performing desired etching without dependence of the film thickness of an ohmic contact layer or an etching rate during dry etching.例文帳に追加

オーミックコンタクト層の膜厚やドライエッチング時のエッチングレートに依存せず所望のエッチングが可能となる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method capable of precisely controlling depth in micromachining of not more than a wavelength of light, and to provide a method of manufacturing a mold for nanoimprint utilizing an etching method, an inspection method, and etching equipment.例文帳に追加

光の波長以下の微細加工における深さ制御を高い精度で行うことが可能なエッチング方法と、これを利用したナノインプリント用モールドの製造方法と検査方法およびエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To enhance the speed for etching a sacrifice layer and to diminish the speed for etching an etching stop layer in a manufacturing method of a display device which is formed by transferring thin film transistors.例文帳に追加

薄膜トランジスタを転写して形成する表示装置の製造方法における犠牲層のエッチングの高速化と、エッチング停止層におけるエッチングの低速化。 - 特許庁

To provide an etching method of etching a nitride semiconductor which is excellent in controllability, stability and accuracy, and capable of carrying out etching at a high aspect ratio, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device by the use of the same.例文帳に追加

制御性及び安定性が高く、更に高精度且つ高アスペクト比の加工が可能な窒化物半導体のエッチング方法及び該エッチング方法を利用した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive hydrofluoric acid etching material having excellent resistance against hydrofluoric acid, an optical pattern etching method which makes etching with concentrated hydrofluoric acid possible, and a method for manufacturing a semiconductor device for achieving simplification and a short period.例文帳に追加

フッ酸耐性に優れた感光性フッ酸エッチング材料、濃フッ酸エッチングが可能な光パターンエッチング方法、及び、単純化、短期化を達成できる半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring electrode for an organic EL display device in which formation is possible by wet etching and which is hard to be etched at the time of dry etching of the insulating film since a difference between etching rates of an insulating film is large, the organic EL display device equipped with the wiring electrode, and its manufacturing method.例文帳に追加

ウェットエッチングにより形成が可能であり、絶縁膜のドライエッチング時に絶縁膜のエッチングレートとの差が大きくエッチングされ難い、有機ＥＬ表示装置用の配線電極を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device provided with an etching process capable of avoiding drop of an etching selection rate, in the case of being accompanied by the formation of two or more kinds of oxide films whose etching characteristics are different from each other.例文帳に追加

互いにエッチング特性が異なる２種以上の酸化膜の形成を伴う場合に、エッチング選択比の悪化を回避しうるエッチング工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit board and a manufacturing method thereof, where the adverse effects of wet etching on an environment or human bodies are lessened and a board can be improved in degree of freedom of processing by a method wherein etching by the use of gas is employed in place of wet etching.例文帳に追加

ガスを用いたエッチングにより、ウエットエッチングでは不可能な環境や人体への負荷低減及び基板に対する加工自由度の向上を図ること。 - 特許庁

To provide an etching method which can reduce deposition of particles on a liquid crystal display panel, in an etching apparatus to be used in a step of manufacturing the panel, and the etching apparatus.例文帳に追加

液晶表示パネルの製造工程で使用されるエッチング装置において、パーティクル付着を低減させるエッチング方法及びエッチング装置を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of an aluminum electrode foil for electrolytic capacitors, a cleaning process for cleaning an etching foil of each electrolytic capacitor by a cleaning liquid is performed, after an etching process for its aluminum foil and before an post-processing for forming a post-processing coating on the surface of its etching foil.例文帳に追加

アルミニウム箔に対するエッチング工程の後、エッチング箔表面に後処理皮膜を形成する後処理工程の前に、エッチング箔を洗浄液で洗浄する洗浄工程を行う。 - 特許庁

To provide an apparatus for coating an etching-resistant layer for manufacturing a quality-enhanced shadow mask by forming the etching-resistant layer while removing air bubbles from a coating solution for the etching- resistant layer.例文帳に追加

耐エッチング層塗布液の気泡を除去して耐エッチング層を形成し品位を向上するシャドウマスク製造用耐エッチング層塗布装置を提供する。 - 特許庁

To provide an etching solution having excellent wettability improving effect and excellent antifoaming property in etching, and providing a BM (Black Matrix) free from etching residue, and also to provide a method of manufacturing the BM.例文帳に追加

エッチングの際に、濡れ性向上の効果および消泡性が優れており、エッチング残りのないＢＭが得られるエッチング液およびＢＭの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a dry etching method for preventing borderless etching by using new materials as an etching reducing film in the selective etching method of a silicon oxide film, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

シリコン酸化膜の選択エッチング方法において、エッチング抑制膜として新規な材料を用いることにより、ボーダレスなエッチングにならないドライエッチング方法及びこの方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the etching parts by etching the metallic base material consisting of the iron-nickel alloy containing 30 to 50 wt.% nickel by using a ferric chloride solution comprises etching the metallic base material in the state that the potential of the metallic base material in etching exceeds 150 mV.例文帳に追加

ニッケルを３０〜５０重量％含有する鉄−ニッケル合金からなる金属基材を、塩化第二鉄溶液にてエッチング加工するエッチング部品の製造方法において、エッチング加工時の前記金属基材の電位が１５０ｍＶを越える状態でエッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device removes semiconductor burr 74 by dry etching using an etching gas having a longitudinal direction etching rate R2 larger than a depth direction etching rate R1 (namely, R1/R2 is smaller than 1) in a word line parallel direction cross section of a groove 72.例文帳に追加

溝７２のワード線平行方向断面における深さ方向エッチレートＲ１よりも横方向エッチレートＲ２が大きい（Ｒ１／Ｒ２が１より小さい）エッチングガスを用いて、半導体バリ７４をドライエッチングにより除去することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for mounting the chip comprises the steps of providing an etching resist 3 for covering the copper wiring 2 formed on the surface of the substrate 1; removing the etching resist 3, until the surface of the copper wiring 2 is exposed; etching the copper wiring 2 partway; and exfoliating the etching resist 3.例文帳に追加

基板１表面に形成した銅配線２を覆うエッチングレジスト３を設ける工程と、前記銅配線２表面が露出するまで前記エッチングレジスト３を除去する工程と、前記銅配線２を途中までエッチングする工程と、前記エッチングレジスト３をはく離する工程とを有する。 - 特許庁

A method of manufacturing the thin-film magnetic head is characterized in that etching of the sensor film is carried out by switching the incident angle of an etching beam, and when an incident angle in a normal direction with respect to a sensor film surface is 0 degree, etching is carried out under the condition that the incident angle of the etching beam is smaller toward the latter process.例文帳に追加

センサ膜のエッチングはエッチングビームの入射角度を切り替えながら行い、センサ膜面に対する法線方向を入射角度０とすると、そのエッチングビームの入射角度は後になるほど小さくなる条件にてエッチングを行う。 - 特許庁

In the manufacturing method for a structure by anisotropic etching, basic etching masks 101, 102a, 102b, and 103 corresponding to the target shape and compensation etching masks 107a, 107b, 107c, and 107d having a connection section connected with the basic etching masks are formed on a single crystal silicon substrate 100.例文帳に追加

異方性エッチングによる構造体の作製方法では、単結晶シリコン基板100上に、目標形状に対応する基本エッチングマスク101、102a、102b、103、及び基本エッチングマスクに接続する連結部を持つ補正エッチングマスク107ａ、107ｂ、107ｃ、107ｄを形成する。 - 特許庁

To provide an etching component produced by wet etching after forming an etching resist pattern on a metal material, which prevents progress of side etch, that is, to provide an etching component of high aspect ratio and to provide a method for manufacturing the component.例文帳に追加

金属材料上にエッチングレジストのパターンを形成し、ウエットエッチングによって製造したエッチング部品であって、サイドエッチの進行を防いだ、即ち、高アスペクト比のエッチング部品、及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a dry etching apparatus reducing the dispersion, due to position of etching rate, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device which uses the dry etching apparatus and the semiconductor device manufactured by the method and a method for manufacturing an electrode of the dry etching apparatus used for the dry etching apparatus.例文帳に追加

エッチングレートの位置によるばらつきが低減されたドライエッチング装置、そのドライエッチング装置を用いた半導体装置の製造方法、および、その製造方法により製造された半導体装置、ならびに、ドライエッチング装置に用いられるドライエッチング装置の電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PLASMA ETCHING CHAMBER SYSTEM例文帳に追加

フォトマスク、フォトマスクの製造方法、及びプラズマエッチングチャンバシステム - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ALUMINUM FOIL FOR ELECTROLYTIC CAPACITOR ELECTRODE HAVING HOMOGENEOUS ETCHING CHARACTERISTIC例文帳に追加

均質エッチング性を有する電解コンデンサ電極用アルミニウム箔の製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING ELECTROLYTIC CAPACITOR ETCHING FOIL, AND ELECTRODE FOIL FOR ELECTROLYTIC CAPACITOR例文帳に追加

電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法、および電解コンデンサ用電極箔 - 特許庁

HYPERBOLIC DRUM TYPE ELEMENT, AND MANUFACTURING METHOD OF THE ELEMENT USING ION BEAM ETCHING例文帳に追加

双曲面ドラム型素子と、イオンビームエッチングを利用したその製造方法 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method in which high-accuracy dry etching can be performed.例文帳に追加

高精度なドライエッチングを行うことができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT, METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

半導体素子の製造方法、半導体基板の加工方法及びドライエッチング装置 - 特許庁

COOLING APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR-MANUFACTURING APPARATUS, AND PLASMA ETCHING APPARATUS HAVING THE COOLING APPARATUS例文帳に追加

半導体製造装置用の冷却装置と同冷却装置を備えたプラズマエッチング装置 - 特許庁

METHOD OF ETCHING GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＩＩＩ族窒化物半導体のエッチング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

PLASMA ETCHING SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND ITS MONITORING METHOD例文帳に追加

プラズマエッチング装置、それを用いた半導体装置の製造方法およびそのモニター方法 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multilayer printed wiring board with excellent etching precision of interlayer connecting holes.例文帳に追加

層間接続穴のエッチング精度に優れた多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTROLYTIC ETCHING APPARATUS AND APPARATUS FOR MANUFACTURED SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体装置の製造方法、電解エッチング装置および半導体製造装置 - 特許庁

ANISOTROPIC ETCHING METHOD FOR SILICON SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING INK JET RECORDING HEAD例文帳に追加

シリコン基板の異方性エッチング方法及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF PIEZOELECTRIC DEVICE AND PIEZOELECTRIC VIBRATION PIECE UTILIZING THE METHOD例文帳に追加

エッチング方法およびこれを利用した圧電デバイスと圧電振動片の製造方法。 - 特許庁

SILICON ANISOTROPIC ETCHING LIQUID AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

シリコン異方性エッチング液及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

CARRIER TAPE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND ETCHING PROCESSING DEVICE THEREFOR例文帳に追加

半導体装置用テープキャリアの製造方法およびそのエッチング処理装置 - 特許庁

WASHER-FORM MEMBER MADE OF TETRAFLUOROETHYLENE RESIN HAVING ONE SURFACE ETCHING-PROCESSED AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

片面をエッチング処理した四フッ化エチレン樹脂製ワッシャ状部材とその製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING ETCHING FOIL FOR ALUMINUM ELECTROLYTIC CAPACITOR例文帳に追加

アルミニウム電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法およびその製造装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF CORRECTING ETCHING WIDTH, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MOS TRANSISTOR例文帳に追加

半導体装置の製造方法、エッチング幅の補正方法、半導体装置およびＭＯＳ型トランジスタ - 特許庁

ETCHANT, ETCHING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID INJECTION HEAD例文帳に追加

エッチング液及びエッチング加工方法並びに液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SUPPORT FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND ALKALI ETCHING TREATING APPARATUS例文帳に追加

平版印刷版用支持体の製造方法およびアルカリエッチング処理装置 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE FORMATION AND DRY ETCHING METHOD例文帳に追加

半導体デバイス形成用基板の製造方法及びドライエッチング方法 - 特許庁

ETCHING PROCESSING DEVICE AND METHOD AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング処理装置及びエッチング処理方法、並びに半導体装置の製造方法及び半導体装置 - 特許庁