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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > high frequency power sourceの意味・解説 > high frequency power sourceに関連した英語例文

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high frequency power sourceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 659



例文

The AC variable speed driver for driving an AC motor 16 comprises a high-frequency filter 11 for circulating the leakage current from the motor 16 not to return to a three-phase AC power source 15.例文帳に追加

ACモータ16を駆動するAC可変速駆動装置において、ACモータ16からの漏れ電流を三相交流電源15に戻らないように循環させる高周波フィルタ11を有する。 - 特許庁

An etching chamber 10 includes the mounting table 11 of a semiconductor wafer W and a gas feeding head 12 to be used as an upper electrode and a lower electrode for plasma induction by a high frequency power source RF in common inside.例文帳に追加

エッチングチャンバ10は、内部に高周波電源RFによるプラズマ誘導のための上部電極及び下部電極を兼ねる半導体ウェハWの載置台11及びガス供給ヘッド12を含む。 - 特許庁

The output of two high frequency power sources being in mutually independent relation is supplied to the double-sided discharge type plasma source; thus plasma on both the sides can be generated uniformly without any unbalance.例文帳に追加

両面放電型のプラズマ源に、互いに独立の関係にある2つの高周波電源の出力を供給することにより、両側のプラズマをアンバランス無く、均一に生成することを可能とする。 - 特許庁

The plasma treatment device is provided with: an antenna 16 provided inside a vacuum vessel 12 having an exhaust mechanism 11 and a gas introduction mechanism 13; and a high frequency power source 17 feeding electromagnetic waves in a microwave region to the antenna.例文帳に追加

このプラズマ処理装置は、排気機構11とガス導入機構13を有する真空容器12の内部に設けられるアンテナ16と、アンテナにマイクロ波領域の電磁波を供給する高周波電源17とを備える。 - 特許庁

例文

This plasma treatment equipment has a cathode 2, a high-frequency power source 5 connected thereto, a magnetron magnetic field generating means (magnet 20) near the cathode 2 and means (coil 21) of decreasing a cathode sheath voltage VS.例文帳に追加

陰極2と、これに接続された高周波電源5と、陰極2近傍にマグネトロン磁場発生手段(磁石20)と、陰極シース電圧V_Sを減少させる手段(コイル21)とを有するプラズマ処理装置。 - 特許庁


例文

The discharge auxiliary means 50 includes a conductor 52 arranged to surround a virtual line L extending forward from the tip 10A of the discharge electrode 10, and a high-frequency power source 56 connected to the conductor 52.例文帳に追加

放電補助手段50は、放電電極10の先端10Aから前方に延びる仮想線Lを囲むように配置された導電体52と、導電体52に接続された高周波電源56とを含む。 - 特許庁

In a capacity coupling type plasma etching device, a high-frequency power source 28 is electrically connected to a susceptor 12 mounted with a semiconductor wafer W in a chamber 10 through a matching unit 30 and a feed rod 32.例文帳に追加

容量結合型プラズマエッチング装置において、チャンバ10内で半導体ウエハWを載置するサセプタ12には、高周波電源28がマッチングユニット30および給電棒32を介して電気的に接続されている。 - 特許庁

Therefore, the bias circuit can suppress the power consumption by the static current and the noise from the source voltage, improve the stability at the high frequency region and remove the possibility of oscillation.例文帳に追加

したがって、バイアス回路は、電源電圧からのノイズおよび静的電流による電力消費を抑え、高周波領域における安定性が改善され発振可能性を除去することができる。 - 特許庁

The fixing device is provided with a coil 11 for induction heating a heating roller 2 providing a heat source for fixing the toners imparted to paper and heating control circuits 31 and 104 for supplying high-frequency electric power to the coil 11.例文帳に追加

定着装置は用紙に付与されたトナーを定着させる熱源となる加熱ローラ2を誘導加熱するコイル11と、コイル11に高周波電力を供給する加熱制御回路31,104とを備える。 - 特許庁

例文

To provide a drainage tube dwelling device for endoscopes with an excellent cost performance which enables the arrangement of a high frequency power source connector at the base end of an electroconductive guide wire with a puncture part formed at the tip with a low cost.例文帳に追加

穿刺部が先端に形成された導電性のガイドワイヤの基端に高周波電源接続コネクタを低コストで配置することができるコストパフォーマンスの優れた内視鏡用ドレナージチューブ留置具を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a plasma processing device capable of restraining the peak value of reflected waves appearing at the output of a high-frequency power source without being affected by a load change in discharging plasma.例文帳に追加

放電中のプラズマの負荷の変化に影響されず、高周波電源の出力部に現れる反射波のピーク値を抑えることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To form an impedance added pattern for separating a circuit of a noise generating source and a power supply circuit in high frequency manner, in a less occupation area.例文帳に追加

ノイズ発生源となる回路と電源回路とを高周波的に分離するためのインピーダンス付加パターンを少ない占有面積により構成する。 - 特許庁

The inside of a shield space formed by an earth shield 19 is provided with a cathode electrode 1 connected to a high frequency power source 20 and plural reaction vessels 6 in which at least a part is formed of dielectrics.例文帳に追加

アースシールド19によって形成されたシールド空間内に、高周波電源20に接続されたカソード電極1と、少なくとも一部が誘電体で形成された複数の反応容器6とが設けられている。 - 特許庁

This method includes a step in which a high frequency pulse power source used for generating TEOS oxide plasma is fed to control the deposition rate of silicon dioxide on a substrate.例文帳に追加

該方法には、TEOS酸化物プラズマを生成するために用いられる高周波パルス電源を供給することにより、基板上の二酸化ケイ素の堆積速度を制御するステップが含まれる。 - 特許庁

A high-frequency power source 2 is used by connecting a plurality of bipolar forceps and bipolar forceps each having a cutting blade with connector parts 5 (5a - 5f).例文帳に追加

高周波電源装置2は、バイポーラ鉗子及び切開刃付きバイポーラ鉗子をコネクタ部5(5a〜5f)に複数接続して使用可能に構成されている。 - 特許庁

A high-frequency power source 32 is connected to the ICP electrode 24, and also connected to the flat electrode 26 through a variable capacitor 36 (variable capacitance element).例文帳に追加

高周波電源32が、ICP電極24に接続され、かつ可変コンデンサ36(可変容量素子)を介して平面状電極26にも接続されている。 - 特許庁

To provide a high-frequency power source device for dielectric heating capable of continuing welding operations, in case breakdown or corona discharge generated during a welding operation temporarily occurs without affecting quality of a heated body.例文帳に追加

溶着作業中に発生する絶縁破壊やコロナ放電が、被加熱体の品質に影響を与えない一時的な場合には、溶着作業を継続することが可能な誘電加熱用高周波電源装置を提供する。 - 特許庁

This grinding stone machining device machines the grinding stone S by generating corona discharge by impressing voltage between the grinding tool S supported on a table 10 and a main electrode 22 by a high frequency power source 30.例文帳に追加

砥石加工装置は、テーブル10上に支持した砥石Sと本電極22との間に高周波電源30により電圧を印加してコロナ放電を発生させることにより砥石Sを加工する。 - 特許庁

The power source control device 3 is composed of an inverter 15 converting input voltage into high frequency voltage, and a transformer 16 boosting the primary side input voltage and outputting a secondary voltage to a secondary circuit.例文帳に追加

また、電源制御装置3は、入力電圧を高周波電圧に変換出力するインバータ15と、1次側の入力電圧を昇圧してその2次電圧を2次回路に出力するトランス16とを備えている。 - 特許庁

A filter circuit 54 is inserted into the closed circuit and configured to have a low impedance for a power source frequency and a high impedance for other frequencies.例文帳に追加

フィルタ回路54は、閉回路中に挿入されており、かつ、電源周波数に対して低インピーダンスとなり、それ以外の周波数に対して高インピーダンスとなる構成とされている。 - 特許庁

In a conventional electric discharge machining apparatus, in particular, in achieving the machining using the high frequency power source, the impedance of the load is fluctuated, and the machining cannot be stably achieved.例文帳に追加

従来の放電加工装置では、特に高周波電源を用いて加工を行なう場合、負荷や加工の状況によって、負荷のインピーダンスが変動し、加工を安定して行なうことができなかった。 - 特許庁

In the plasma forming step, a high frequency power is applied to the plasma generation chamber 2 by a plasma source 3 while hydrogen H_2 is supplied to the plasma generation chamber 2 by a mass flow controller 21, to cause the hydrogen H_2 to be plasma.例文帳に追加

前記プラズマ化工程は、マスフローコントローラ21により水素H_2をプラズマ発生室2に供給しながら、プラズマ源3によりプラズマ発生室2に高周波電力を印加することで水素H_2をプラズマ化する。 - 特許庁

The induction coil 12 is wound on a synthetic resin-made bobbin 11, which supports the bulb and includes a terminal part 15 for connecting the terminal part of the induction coil 12 to the high frequency power source.例文帳に追加

誘導コイル12は、バルブを支持しかつ誘導コイル12の末端部分を高周波電源に接続する端子部15を備えた合成樹脂製のボビン11に巻装される。 - 特許庁

A vacuum chamber 1 has a plurality of connectors which can be electrically connected to a high frequency power source, and an array antenna unit 30 having a plurality of electrode bars which can be connected to the connectors provided therein.例文帳に追加

真空チャンバ1には、高周波電源に電気的に接続可能な複数のコネクタと、これらコネクタに接続可能な複数本の電極棒を有するアレイアンテナユニット30と、が設けられている。 - 特許庁

Reactive gas passes through a valve 6 and a flow meter 7 from a doping system 1 and is introduced into a reaction system 8, electrodes 11 and 12 lie in the reaction system, and plasma is generated by a high frequency power source 13 or the like.例文帳に追加

反応性気体はドーピング系1よりバルブ6、流量計7をへて反応系8中に導入される、反応系には電極11,12があり、高周波電源13等によりプラズマが発生する。 - 特許庁

The thin film manufacturing apparatus comprises a film manufacturing chamber 6, a discharge electrode 3, a counter electrode 2, a high frequency power source 60, a matching unit 13, and an electrode impedance adjustment unit 40.例文帳に追加

製膜室6と放電電極3と対向電極2と高周波電源60と整合器13と電極インピーダンス調整部40とを具備する薄膜製造装置を用いる。 - 特許庁

To provide an RF impedance measuring device capable of accurately measuring RF impedance (S parameter) especially of a power source/GND system line of a package substrate to a high frequency region.例文帳に追加

パッケージ基板の特に電源/GND系線路のRFインピーダンス(Sパラメータ)を高周波領域まで精度良く測定することのできるRFインピーダンス測定装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a small-type and inexpensive LCD backlight power source device which surely turns on backlight, is easy to alter setting of a lighting frequency, and has high reliability.例文帳に追加

確実に点灯し、点灯周波数設定の変更が容易であり、信頼性が高く、小型且つ安価なLCDバックライト電源装置を提供すること。 - 特許庁

To prevent the deterioration of life of magnetron by being stabilized in a state of moding oscillation at the time of transition from start up to the normal operation when a direct current is made an input power source in a high frequency heating device.例文帳に追加

高周波加熱装置において、直流電源を入力電源とした場合に、起動から定常への遷移時にモーディング発振の状態で安定することがあり、マグネトロンが寿命劣化すること。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring board together with its manufacturing method wherein the high-frequency characteristics of a ground line and power source line are improved to prevent malfunction of an IC chip.例文帳に追加

接地線及び電源線の高周波特性を改善しICチップの誤動作を防止させ得る多層プリント配線板及び該多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the plasma ion injection method, a pulse bias voltage of -15 to -3 kV is preferably applied to a high-frequency power source.例文帳に追加

プラズマイオン注入法においては、高周波電源に対しマイナス15kV以上マイナス3kV以下のパルスバイアス電圧を印加して行なうと、より好ましい。 - 特許庁

To provide a high frequency plasma ignition device meeting a down-sizing demand in recent years, moreover utilizing effectively a limited supply energy from a power source, and capable of igniting a combustion engine having difficult ignitability.例文帳に追加

近年の小型化要求に適合し、かつ、限られた電源からの供給エネルギを有効に利用し、難着火性の燃焼機関の点火を可能とする高周波プラズマ点火装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a high-frequency signal amplification circuit with constant current consumption irrespective of variations in the current amplification factor of a transistor caused by fluctuations in a power source voltage, changes in ambient temperature, or manufacturing variations.例文帳に追加

電源電圧の変動、また周囲温度の変化や製造バラツキによるトランジスタの電流増幅率のバラツキによらず、高周波信号増幅回路の消費電流を安定化することである。 - 特許庁

To provide an electrodeless discharge lamp lighting device capable of shortening starting time at a dark place and reducing voltage stress added to circuit components structuring a high-frequency power source circuit, and to provide an illumination fixture.例文帳に追加

暗所における始動時間を短縮できるとともに、高周波電源回路を構成する回路部品に加わる電圧ストレスを低減できる無電極放電灯点灯装置および照明器具を提供する。 - 特許庁

The deposition of the film is performed in such a manner that the range of an electric field formed by being applied with voltage by the high frequency power source part in the film deposition electrode is made wider than the range supplied with a sufficient amount of reaction gas upon film deposition.例文帳に追加

膜の形成は、成膜電極に高周波電源部により電圧が印加されて形成される電界の範囲を、成膜に十分な量の反応ガスが供給された範囲よりも広くして行う。 - 特許庁

An electrode 9 connected to a high frequency power source 10 is provided in the cylindrical body 8.例文帳に追加

筒体8内には高周波電源10に接続される電極9があり、また筒体8内は真空ポンプ12で減圧され、またガス供給部14から動作ガスが供給される。 - 特許庁

The plasm generating source and the high-frequency power applying electrode are provided so as to vertically (in a width direction) extend in the direction of movement of the work, and thus, uniform treatment can be applied to the direction of movement of the work.例文帳に追加

ワークの移動方向に垂直(幅方向)に延出するようにプラズマ発生源及び高周波電力印加電極を設けたことによって、ワークの移動方向に対して均一な処理を行うことができる。 - 特許庁

By noting that in a GaAsFFT used for a local oscillation its low phase-noise and its power are made more important than its high-frequency characteristic, its gate and its source are so made to intersect each other in their coupling portion as to give it a two-layer wiring structure.例文帳に追加

局部発振用GaAsFETでは高周波特性よりも低位相雑音やパワーが重要であることに着目し、ゲートとソースの連結部で交差させ、2層配線にする。 - 特許庁

On the other hand, the harmonics (for instance 100 MHz or more) generated by the high-frequency power source part 2 are generally perfectly attenuated by the shield plate 5 and hence, do not leak outside.例文帳に追加

一方、高周波電源部2で発生する高調波(例えば100MHz以上)の電磁波は遮蔽板5でほぼ完全に減衰されるので外部へ漏洩しない。 - 特許庁

The low-impedance terminal has characteristics as a grounding electrode in the high-frequency circuit, and is, e.g., either the grounding terminal 18 connected with a reference potential (GND) or a terminal 20 for a power source connected with a capacitor.例文帳に追加

ローインピーダンス端子は、高周波回路内で接地極としての特性を有するものであり、例えば基準電位(GND)に接続された接地端子18又はコンデンサに接続された電源用端子20である。 - 特許庁

To make knowable the presence/absence of high frequency noises included in a commercial AC power source without using an expensive measuring device hard to handle such as a noise-measuring device, an oscilloscope or the like.例文帳に追加

ノイズ測定器やオシロスコープなどの高価で取り扱いにくい測定機器を用いることなく、商用交流電源に含まれている高周波ノイズの有無を知ることができるようにする。 - 特許庁

When the commercial A.C. power source (e) is interrupted, the lighting circuit is connected to the fluorescent lamp, and the fluorescent lamp is lit with high-frequency waves through the lighting circuit from the battery.例文帳に追加

商用交流電源eの停電時には点灯回路と蛍光ランプとを接続し、バッテリから点灯回路を介して蛍光ランプを高周波点灯させる。 - 特許庁

Thereby, the delay in the rise time due to the spurious frequency is prevented from when the control signal at turning on a high voltage power source is input in the operational amplifier until when the control signal is risen up to a desired set voltage value.例文帳に追加

これにより、高電圧電源オン時の制御信号がオペアンプに入力された時点から所望の設定電圧値に立ち上がるまでの間に、スプリアス周波数に起因する立ち上がり時間の遅延の発生が防止される。 - 特許庁

An inverter 12 instantaneously start a discharge lamp 20 to light it, by rectifying and smoothening an ac voltage from an ac power source 11 and converting it to a high frequency voltage to supply to the discharge lamp 20.例文帳に追加

インバータ12は、交流電源11からの交流電圧を整流平滑し、高周波電圧に変換して放電灯20に供給することにより、放電灯20をインスタントスタートで始動し点灯を行う。 - 特許庁

To provide a heating electrode capable of matching a load and the impedance of a high-frequency power source without decreasing efficiency of heating the material to be heated, and to provide a method for heating the material to be heated using the heating electrode.例文帳に追加

被加熱材に対する加熱効率を低下させることなく、負荷と高周波電源のインピーダンスの整合をとることが可能な加熱電極及びそれを用いた被加熱材の加熱方法を提供する。 - 特許庁

A mount table 11 and a gas supply head 12 in the reaction chamber 10 serve as an upper electrode and a lower electrode which are used for generating plasma by using a high frequency power source RF.例文帳に追加

反応チャンバ10の内部の載置台11及びガス供給ヘッド12は、それぞれ高周波電源RFによるプラズマ発生のための上部電極、下部電極を兼ねる。 - 特許庁

To provide a bias circuit having a start-up circuit in which a noise from a source voltage and the power consumption by the static current are suppressed and the stability characteristic at a high-frequency region is improved.例文帳に追加

電源電圧からのノイズおよび静的電流による電力消費を抑えながら、高周波領域における安定度特性を改善させたスタートアップ回路を有するバイアス回路を提供する。 - 特許庁

The stage for the substrate is connected to a high-frequency power source, and a plasma treatment is performed to the IC chip held by the holding part 34a for mounting the mounting mechanism 34 and the substrate.例文帳に追加

基板用ステージは高周波電源に接続され、装着機構34の装着用保持部341に保持されたICチップおよび基板にプラズマ処理を行う。 - 特許庁

To provide a plasma source and a cleaning method of the same, capable of cleaning deposits accumulating on a dielectric window from which a high-frequency electric power is introduced without having to open a vacuum chamber to the atmospheric pressure.例文帳に追加

高周波電力を導入する誘電体窓に堆積した堆積物を真空室を大気開放せずにクリーニングできるプラズマ源及びそのクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

例文

In order to lower a load of a plasma-generating power source 8 while controlling electron temperature of the plasma, a method is used in which drastic changes of outputs are avoided by continuously changing field strength of a high-frequency field as shown in (a), (b).例文帳に追加

プラズマの電子温度を制御しつつ、プラズマ発生用電源8の負担を減らすため、(a),(b)に示すように高周波電界の電界強度を連続的に変化させて急激な出力の変化をさせない方法を用いる。 - 特許庁

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