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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > high frequency power sourceの意味・解説 > high frequency power sourceに関連した英語例文

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high frequency power sourceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 659



例文

The high-frequency power source 32 supplies high-frequency power to the ICP electrode 24 and the flat electrode 26, and thereby inductively-coupled plasma of the processing gas is generated in the vacuum chamber 10.例文帳に追加

高周波電源32がICP電極24及び平面状電極26に高周波電力を供給することで、真空チャンバ10内に処理ガスの誘導結合プラズマが発生する。 - 特許庁

Providing a high-frequency power from a high-frequency power source 5 to a coil 7 provided in the vicinity of an dielectric window 8 facing to a sample electrode 6 generates an inductively-coupled plasma in the vacuum vessel 1.例文帳に追加

高周波電源5によりの高周波電力を試料電極6に対向した誘電体窓8の近傍に設けられたコイル7に供給することにより、真空容器1内に誘導結合型プラズマを発生させる。 - 特許庁

A plasma processing apparatus includes a plasma generating mechanism (for example, a pair of opposing electrodes 11 and 12 and a high-frequency power source 2) for generating plasma by high frequency power.例文帳に追加

高周波電力によってプラズマを発生させるプラズマ発生機構(例えば、一対の対向電極11、12及び高周波電源2)を備える。 - 特許庁

A high-frequency power source 23 supplies high-frequency power to the shower head 11 to dissociate the film-forming gas, thereby generating the plasma of the film-forming gas in the treatment vessel 1.例文帳に追加

高周波電源23からシャワーヘッド11に高周波電力を供給することにより、成膜ガスを解離させ、処理容器1内に成膜ガスのプラズマを生成させる。 - 特許庁

例文

An increase in high-frequency power applied by a high-frequency power source 9 expands the volume of a plasma P for the plasma P to infiltrate the trench-like cavity 31, and this suppresses the generation of plasma leakage.例文帳に追加

高周波電源9から印加する高周波電力を増大させると、プラズマPが溝状空隙31内に侵入するように容積が拡大し、これによって、プラズマリークが発生することを抑制することができる。 - 特許庁


例文

High-frequency output power from a high-frequency power source 1 is supplied to a current splitter 3 via an impedance matching box 2; and a plurality of output currents from the current splitter 3 are supplied to a plurality of electrodes 4.例文帳に追加

高周波電源1からの高周波出力をインピーダンス整合器2を介して電流スプリッタ3に供給し、電流スプリッタ3からの複数の出力電流を複数の電極4に供給している。 - 特許庁

The connection part with a feeding rod 35 of an upper electrode 28 connected through the feeding rod 35 to a second high frequency power source 37 and capable of impressing high frequency power, and the surface of the feeding rod 35, are covered with an insulation film 41.例文帳に追加

第2の高周波電源37に、給電棒35を介して接続され、高周波電力を印加可能な上部電極28の給電棒35との接続部、および、給電棒35の表面を、絶縁膜41で覆う。 - 特許庁

The transistors Q1, Q2 alternately operate in the on and off conditions to resonate a first resonance circuit 19 with the high-frequency signal for power supply and thereby the base potion 9 emits electromagnetically the high-frequency signal for power source to the external circuit.例文帳に追加

トランジスタQ1、Q2は交互にオンオフ動作して第1の共振回路19をその電源用高周波信号で共振させ、ベース部9から外部へ電源用高周波信号を電磁的に発射する。 - 特許庁

An insulation film 41 covers a connection part, which is connected to a feeding rod 35 of an upper electrode 28 that is connected to a second high frequency power source 37 via the feeding rod 35 and capable of applying high frequency power, and the surface of a feeding rod 35.例文帳に追加

第2の高周波電源37に、給電棒35を介して接続され、高周波電力を印加可能な上部電極28の給電棒35との接続部、および、給電棒35の表面を、絶縁膜41で覆う。 - 特許庁

例文

At this time, the thin films can be deposited with the additionally decreased variations by using the deposition system 10 to which high-frequency electric power is supplied from one high-frequency power source section 30 for a plurality of deposition chambers 20.例文帳に追加

この際、複数の成膜チャンバ20に対して、1つの高周波電源部30から高周波電力が供給される成膜装置10を使用することにより、より一層ばらつきなく成膜できる。 - 特許庁

例文

A gaseous starting material is introduced from gaseous starting material introduction tubes 106 into the reaction vessel 100, and high frequency electric power is fed from a high frequency power source 109 via a discharge electrode, so as to crack the gaseous starting material, thus a deposited film is formed on the cylindrical substrates 107.例文帳に追加

反応容器100内に、原料ガス導入管106から原料ガスを導入し、高周波電源109から放電電極を介して高周波電力を供給して、原料ガスを分解し、円筒状基体107上に堆積膜を形成する。 - 特許庁

A high-frequency heating device comprises: a heating chamber 2; microwave generating means 9; a high-frequency power source 10; microwave transmitting means 11; reflection power detecting means 12 arranged next to the microwave transmitting means 11; and control means 14.例文帳に追加

加熱室2と、マイクロ波発生手段9と、高周波電源10と、マイクロ波伝送手段11と、マイクロ波伝送手段11に併設した反射電力検知手段12と、制御手段14を備えたものである。 - 特許庁

An induction hardening and tempering device 1 comprises a common heating coil 4 for hardening and tempering, and a high-frequency power source 5 to heat a rack shaft 2 for hardening or tempering by supplying the high-frequency power to the heating coil 4.例文帳に追加

本高周波焼入焼戻装置1は、焼入および焼戻のための共通の加熱コイル4と、高周波電力を加熱コイル4に供給してラック軸2を焼入加熱または焼戻加熱する高周波電源5とを備える。 - 特許庁

In this plasma treatment method, an object 9 to be treated arranged in a chamber 1 is treated with a plasma by causing plasma discharge by impressing high-frequency power upon an electrode 5 from a high-frequency power source 15.例文帳に追加

高周波電源15から電極5に高周波電力を印加してプラズマ放電を発生させ、チャンバー1内に配置された被処理物9をプラズマ処理する。 - 特許庁

The induction coupling type plasma source has a high frequency power supply 8 which supplies high frequency power to the both ends parts 25 of the antenna 20 and generates induction coupling type plasma P inside the plasma generating chamber 2.例文帳に追加

誘導結合型プラズマ源は、アンテナ20の両端部25に高周波電力を供給してプラズマ生成室2の内部に誘導結合型プラズマPを生成する高周波電源8を備えている。 - 特許庁

When high-frequency power is impressed upon a lower electrode 32 from a high-frequency power source 120, fine particles are produced and electrostatically charged in negative polarity by means of an electronic sheath provided on the lower electrode 32.例文帳に追加

高周波電源120から下部電極32に高周波電力が印加されると、微粒子が生じ、下部電極32上の電子鞘により負に帯電する。 - 特許庁

A vapor depositing source 14 is arranged at the lower part of a vacuum tank 12, a high-frequency ring 16 applied with high-frequency from a high-frequency power source 26 is arranged on the upper part thereof, and moreover, a substrate dome 18 holding a substrate 20 as the object for film formation is arranged on the upper part thereof.例文帳に追加

真空槽12内の下部に蒸着源14を配置し、その上部に高周波電源26からの高周波を印加する高周波リング16を配置し、さらにその上部には成膜対象である基板20を保持する基板ドーム18が配置されている。 - 特許庁

The power factor of the high-frequency power outputted from the power source can be made nearly equal to '1', and the efficiency of power consumed in the load with respect to apparent power (voltage × current) which the power source supplies is increased, so that effective power transmission is enabled.例文帳に追加

本発明によれば、高周波電源部から出力される高周波電力の力率をほぼ「1」近くにすることができ、高周波電源部が供給する皮相電力(電圧×電流)に対して負荷で消費される電力の効率が高くなり、効率的な電力伝送を行うことができる。 - 特許庁

A high-frequency power source 18 is connected between a base electrode 16 and an emitter electrode 17, and a direct current power source 19 is connected between the collector 11 and the gate electrode 13, so that the electron beam of high output modulated by the high frequency is emitted efficiently from the cathode chip 11a.例文帳に追加

ベース電極16とエミッタ電極17との間に高周波電源18を接続すると共にコレクタ11とゲート電極13との間に直流電源19を接続することにより高周波で変調された電子ビームが高出力かつ高効率で陰極チップ11aから放射される。 - 特許庁

To provide a high frequency measurement system that can be calibrated in a prescribed frequency range by calibration data generated from calibration data to a holding partial frequency even in a plasma treatment system using a high frequency power source device changing a frequency.例文帳に追加

周波数が変化する高周波電源装置を使用するプラズマ処理システムでも、保持している一部の周波数に対する校正データから生成する校正データにより、所定の周波数範囲で校正を行うことができる高周波測定装置を提供する。 - 特許庁

To the lower electrode 106, a high-frequency power supplying mechanism 114 comprising a first filter 118, a first matching device 120 and a first power source 122, and a low-frequency power supplying mechanism 116 comprising a second filter 124, a second matching device 126 and a second power source are connected.例文帳に追加

下部電極106には,第1フィルタ118と第1整合器120と第1電源122から成る高周波電力供給機構114と,第2フィルタ124と第2整合器126と第2電源128から成る低周波電力供給機構116が接続される。 - 特許庁

In this traveling wave tube amplifier, a power source is supplied from a high voltage power source 1 to the respective electrodes of a traveling wave tube 2 so that a high frequency signal Pi can be amplified to Po by the traveling wave tube 2.例文帳に追加

この進行波管増幅器は、高圧電源1から進行波管2の各電極に電源を供給して進行波管2に高周波数信号PiをPoに増幅させる。 - 特許庁

To stably feed the electric power of a d.c. power source and a high-frequency power source to a substrate dome, respectively and to form a desired dense vapor deposition film free from damage.例文帳に追加

基板ドームに直流電源と高周波電源の電力をそれぞれ安定供給して、緻密で損傷の無い所望の蒸着膜を形成するようにする。 - 特許庁

The image forming apparatus includes: a heating roller; an exciting coil arranged near the heating roller; an inductive heating power source for supplying high frequency power to the exciting coil; and a pulse generating part for transmitting a control pulse signal to the inductive heating power source.例文帳に追加

加熱ローラ、加熱ローラ近傍に配置された励磁コイル、励磁コイルに高周波電力を供給する誘導加熱電源、誘導加熱電源に制御パルス信号を送出するパルス生成部。 - 特許庁

To provide a power source device capable of removing a low frequency noise caused by the use of a plurality of switching power sources and a magnetic resonance imaging device using this power source device which can provide a MRI image of high quality.例文帳に追加

複数のスイッチング電源を用いることによって起こる低周波ノイズを除去できる電源装置及び高画質のMRI画像を得る前記電源装置を用いた磁気共鳴イメージング装置を提供する。 - 特許庁

Further a DC power source converting circuit 75 converts AC power to DC power, and an invertor 76 converts the DC power to high-frequency AC power.例文帳に追加

また、直流電源変換回路75は、交流電力を直流電力に変換し、インバータ76は、この直流電力を高周波交流電力に変換する。 - 特許庁

For the neon lamps 3, one terminal is connected through a Tesla coil 6 for generating the vibration current of a high frequency and high voltage to a high frequency AC power source 7 and the other terminal is grounded.例文帳に追加

ネオン球3は、一方の端子を高周波高電圧の振動電流を発生するテスラコイル6を介して高周波交流電源7に接続し、他方の端子を接地する。 - 特許庁

The auxiliary light source 510 is connected between output terminals of a direct-current power source circuit E, and the start control circuit 1001 makes the auxiliary light source 510 light up by the auxiliary light source control means 1006 before starting a starting operation by the high-frequency power source circuit 9.例文帳に追加

補助光源510が、直流電源回路Eの出力端間に接続され、始動制御回路1001が、高周波電源回路9が始動動作を開始する前に補助光源制御手段1006により補助光源510を点灯させる。 - 特許庁

By using a high-frequency power source device for plasma generation, argon gas is dissociated into argon plus ion (Ar^+) and electron.例文帳に追加

プラズマ発生用高周波電源装置を用い、アルゴンガスをアルゴンプラスイオン(Ar^+)と電子に解離させる。 - 特許庁

The inverter circuit 1 converts the DC voltage of the DC power source E1 into a high frequency AC voltage and supplies to the discharge lamp La.例文帳に追加

インバータ回路1は第1の直流電源E1の直流電圧を高周波の交流電圧に変換して放電灯Laに供給する。 - 特許庁

A high-frequency power source 21 causes corona a discharge between a first electrode 22 and a second electrode 24.例文帳に追加

この処理方法では、高周波電源21により第1電極22及び第2電極24間にコロナ放電を発生させる。 - 特許庁

An IH power source comprises a semiconductor switching element to switch an AC voltage for generating a high-frequency current.例文帳に追加

IH電源は半導体スイッチング素子を備え、交流電圧をスイッチングして高周波電流を生成する。 - 特許庁

A full wave rectified current is obtained by connecting an AC power source 9 to an input rectifier 2 through a high frequency filter 1.例文帳に追加

商用交流電源9を高周波フィルタ1を介して入力整流器2に接続して、両波整流波を得る。 - 特許庁

An output unit 36 outputs the result that the plasma processing has reached the endpoint, to a high frequency power source 12 of an etching device 10.例文帳に追加

出力部36は、プラズマ処理がエンドポイントに至ったことをエッチング装置10の高周波電源12に出力する。 - 特許庁

Meanwhile, the PLC apparatus 3 is provided with a modem for superimposing a high-frequency signal on the power source cable 4, and an isolator.例文帳に追加

尚、PLC機器3は、電源ケーブル4に高周波信号を重畳するモデムとアイソレータを備えている。 - 特許庁

The table 11 and the head 12 are respectively used as an upper electrode and a lower electrode for plasma induction by a high-frequency power source RF in common.例文帳に追加

載置台11及びガス供給ヘッド12は、それぞれ高周波電源RFによるプラズマ誘導のための上部電極、下部電極を兼ねる。 - 特許庁

To make switching to a backup power source for maintaining a predetermined voltage to be valid only when starting an apparatus of high writing frequency.例文帳に追加

書き込み頻度の高い装置起動時においてのみ、所定の電圧を維持するためのバックアップ電源への切り替えを有効とする。 - 特許庁

A plurality of high frequency power source circuits HFU can be driven with a common driving circuit DC through a distribution circuit DIS.例文帳に追加

分配回路DISを介して共通の駆動回路DCによって複数の高周波電源回路HFUを一括して駆動することができる。 - 特許庁

The heating is conducted by disposing an oscillator near the thin film or a transmission line disposed near the film and connected to a high-frequency power source.例文帳に追加

加熱は、薄膜の近傍に発振器を配置するか、薄膜近傍に配置され、高周波電源に接続された伝送線路により行う。 - 特許庁

To provide a lighting control technique for a semiconductor light source that allows supplying a large amount of power at a relatively high switching frequency.例文帳に追加

比較的高いスイッチング周波数で大電力を供給可能とする半導体光源の点灯制御技術を提供する。 - 特許庁

With this, a stable high frequency output is obtained against fluctuation of the commercial power source enhancing reliability.例文帳に追加

これによって商用電源電圧変動に対して安定した高周波出力を得ることができ信頼性が高まる。 - 特許庁

To provide a high frequency amplifier which sets an operation current in a predetermined value even when power source voltage is changed.例文帳に追加

電源電圧を変更した場合でも、動作電流を予め定めた値に設定することができる高周波増幅器を提供する。 - 特許庁

To provide a high frequency amplifier circuit which stably operates using one power source of sub-millimeter wave bands and millimeter wave bands of about 10 GHz or higher.例文帳に追加

略10GHz以上の準ミリ波帯、ミリ波帯以上で1つの電源を用いて安定的に動作する高周波増幅回路を提供する。 - 特許庁

To enable an induction plasma to be generated by only one high frequency power source even in case of generating that of big diameter.例文帳に追加

直径の大きい誘導プラズマを発生させる場合であっても1つの高周波電源で済むようにする。 - 特許庁

At the time of depositing a film, plasma is generated in a processing chamber 2 by applying a high frequency power for source to coils 12t and 12s.例文帳に追加

成膜処理を行うときは、コイル12t,12sにソース用高周波電力を印加して、処理チャンバ2内にプラズマを発生させる。 - 特許庁

A coil 1 and a high-frequency power source part 2 are stored inside a box formed of a shield plate 5 being a metal thin plate.例文帳に追加

コイル1と高周波電源部2とを金属薄板である遮蔽板5で形成した箱内部に納める。 - 特許庁

The logic structure 29 uses the high-frequency power FET structure of the source grounding structure as one of the devices of a CMOS constitution.例文帳に追加

論理構造29はソース接地構造の前記高周波電力FET構造をCMOS構成の1つの装置として使用する。 - 特許庁

The heating is performed by placing an oscillator near the thin film, or by a transmission line placed near the thin film and connected to a high frequency power source.例文帳に追加

加熱は、薄膜の近傍に発振器を配置するか、薄膜近傍に配置され、高周波電源に接続された伝送線路により行う。 - 特許庁

To realize high image quality without increasing a manufacturing cost due to a chip cost and a drive power source by raising a refill frequency.例文帳に追加

リフィル周波数を上げ、チップコスト及び駆動電源による製造コストを増加させることなく、高画質を実現する。 - 特許庁

例文

In another embodiment, the polymerizing chemical provided at a low pressure is applied with a voltage, at relatively lower power by a high-frequency capacitively coupled source.例文帳に追加

更なる実施形態において、低圧で提供される重合化学物質は、高周波容量結合源により比較的低電力で電圧印加される。 - 特許庁

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