「high frequency power source」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

A plurality of induction coils IC1-ICn are arranged adjacent to each other in a heating roller HR and are energized by a high frequency power source HFS.例文帳に追加

加熱ローラＨＲ内に複数の誘導コイルＩＣ１〜ＩＣｎを相互に近接配置し、この誘導コイルＩＣ１〜ＩＣｎを高周波電源ＨＦＳにて付勢する。 - 特許庁

The high frequency power source is pulse-modulated, for example to become 100-250 μs on-time and ≤10 μs off-time, through a pulse circuit 14 by a function generator 16 to be supplied.例文帳に追加

このとき、その高周波電源の供給は、ファンクションジェネレータ１６からパルス回路１４を介して、例えばオン時間１００〜２５０μｓ、オフ時間１０μｓ以下となるようにパルス変調される。 - 特許庁

Moreover, the discharge current supply source 11 is comprised of, for example, film capacitors and electrolytic capacitors, and as a substantial power supply, a high frequency current is supplied to the PDP 51.例文帳に追加

なお、放電電流供給源１１は例えばフィルムコンデンサや電解コンデンサから成り、実質的な電源としてＰＤＰ５１に高周波電流を供給する。 - 特許庁

Next, a shower head section 40 connected to a high-frequency power source R is passed through respective chambers 4 of a treatment equipment 1 in which Si wafers W are housed and gaseous SiH_4, gaseous N_2O, etc., are fed to deposit the films to be treated.例文帳に追加

次に、ＳｉウェハＷが収容された処理装置１の各チャンバ４に、高周波電源Ｒに接続されたシャワーヘッド部４０を通してＳｉＨ_4ガス、Ｎ_2Ｏガス等を供給して被処理膜を成膜する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus which can improve the plasma density in a relatively easy manner without using any high frequency power source circuit which is expensive and requires a space for a matcher.例文帳に追加

高価でマッチャなどのスペースを要する高周波電源回路を用いなくても、比較的容易にプラズマ密度向上を図り得るようにする。 - 特許庁

A section of the piping 12 to be closed is heated by a high frequency power source 40 and heating coils 24A, 24B so as to be kept around 900-1,100°C.例文帳に追加

そして高周波電源４０及び加熱コイル２４Ａ、２４Ｂにより配管１２の閉止すべき部位を９００〜１１００℃前後に保つように加熱する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is operated at a high speed under low power source voltage, in which output of each gate is confirmed even in a standby state, and a delay time is not affected by a frequency of an input signal.例文帳に追加

低電源電圧下で高速動作し、スタンバイ状態でも各ゲートの出力が確定し、入力信号の周波数で遅延時間が影響されない半導体装置を提供する。 - 特許庁

An inverter circuit 11 converts the direct current of a D.C. power source E into a high-frequency alternating current, equalizes lamp currents by using a balancer L3 and lights fluorescent lamps FL1, FL2 while preheating filaments FL1a, FL1b, FL2a, FL2b of the fluorescent lamps FL1, FL2.例文帳に追加

インバータ回路11は直流電源Ｅの直流を高周波交流に変換し、蛍光ランプFL1 ，FL2 のフィラメントFL1a，FL1b，FL2a，FL2bを予熱しつつ、バランサL3でランプ電流を均等にして蛍光ランプFL1 ，FL2 を点灯する。 - 特許庁

The steam superheater 11 operates as a water level of water 13 of an under-water zone in each tube body 12a is adjusted and a high-frequency current is supplied from a power source part 21 to an induction coil 15.例文帳に追加

各管体１２ａにおける滞水ゾーンの水１３の水位が調整され、誘導コイル１５に電源部２１から高周波電流が供給されて過熱水蒸気発生装置１１が稼働する。 - 特許庁

To increase the number of substrates treated per unit time, without raising the output of a high frequency power source.例文帳に追加

高周波電源の出力を大きくすることなく、基板の単位時間当たりの処理枚数を増加することができるプラズマ洗浄装置およびその運転方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To enable containing of a decoupling capacitor, having a large capacity by reducing a power source noise of an LSI which has high drive frequency in a semiconductor device, having an integrated circuit and the decoupling capacitor.例文帳に追加

集積回路とデカップリングキャパシタを備えた半導体装置に関し、高駆動周波数のＬＳＩの電源ノイズを低減し、大容量のデカップリングキャパシタの内蔵を可能にすること。 - 特許庁

Either of the main exciting coil 207 and the auxiliary exciting coil 215 is connected to a high frequency power source according to the size of the recording sheet or the like, the fixing belt 206 is heated by electromagnetic induction heating, and the toner image is fused and fixed to the recording sheet.例文帳に追加

記録紙のサイズ等に応じて、メイン励磁コイル２０７と補助励磁コイル２１５の何れかを高周波電源に接続して、定着ベルト２０６を電磁誘導加熱して、記録紙にトナー像を融着する。 - 特許庁

To provide a bipolar charging/discharging LED drive method capable of reducing heat loss, saving electricity, and reducing cost when applied to a high-frequency bidirectional electric energy power source, and to provide a circuit thereof.例文帳に追加

高周波二方向性電気エネルギーの電源に応用するとき、熱損失の低減、電気節約及びコストダウンが可能な双極性充放電のＬＥＤ駆動方法及び回路を提供する。 - 特許庁

To provide a fixing device where a toner image is properly heated and pressured by restraining abnormal temperature rise in a paper non-passing area, reducing the load fluctuation of an inverter power source and supplying a stable high frequency current to an exciting coil.例文帳に追加

非通紙領域の異常な温度上昇を抑えるとともに、インバータ電源の負荷変動を軽減し、励磁コイルへ安定した高周波電流を供給して適切なトナー像の加熱及び加圧を行う定着装置を提供する。 - 特許庁

An inverter circuit 3 converts the DC voltage of a DC power source 2 into a high frequency voltage by switching it by a switching element and outputs the resulting voltage to a resonance circuit 4 and a discharge lamp 5.例文帳に追加

インバータ回路３は直流電源２の直流電圧をスイッチング素子でスイッチングすることにより高周波電圧に変換して共振回路４および放電灯５に出力する。 - 特許庁

A PWM signal of a microcomputer for controlling a high-frequency output can be changed based on information obtained from an input power source voltage detection circuit back to the original.例文帳に追加

高周波出力をコントロールするマイコンのＰＷＭ信号において、入力電源電圧検出回路部より得た情報を元に可変とする。 - 特許庁

A plasma generator 22 has a constitution the same as the plasma generator 12 provided with two electrode plates 23, 24, a high-frequency power source 26, and a NO_x-occluding composition 25 placed between the electrode plates 23, 24.例文帳に追加

プラズマ発生装置２２は、プラズマ発生装置１２と同じ構成であり、２つの電極板２３，２４と、高周波電源２６と、電極板２３，２４間に設けられたＮＯＸ吸蔵材２５とを備えている。 - 特許庁

In the induction heating apparatus provided with a slender highly conductive inductor 34, a high frequency power source 32 and a control unit 31, a zigzag cable way part 35 having repeated turning-over bending shape, is included in the inductor 34.例文帳に追加

細長い良導体の誘導子３４と、高周波電源３２と、制御装置３１とを備えた誘導加熱装置において、繰り返し反転曲折した形状のジグザグ電路部３５を誘導子３４に含ませる。 - 特許庁

To make an input current an intermittent current of high frequency, so that it can reduce the harmonic distortion of the input current on the side of a commercial power source, in an inverter device.例文帳に追加

インバータ装置において、商用電源側の入力電流の高調波歪を低減することができるように、入力電流を高周波の断続電流とする。 - 特許庁

An choke input type power source device is installed on this device, of which the high frequency currents are suppressed by performing on-control after fully energizing the fixing heater.例文帳に追加

チョークインプット型の電源装置を搭載し、かつ、定着ヒータ全点灯後、オン制御を行うことにより、本装置の高調波電流を抑える。 - 特許庁

In this method, a film is formed on the substrate 6 with a process gas plasma excited in a process chamber 4 by means of a high-frequency power source 5 for excitation connected to a cathode 2.例文帳に追加

カソード２に接続された励起用高周波電源５によりプロセスチャンバ４内で励起されたプロセスガスプラズマにより基板６上に成膜を行う。 - 特許庁

Secondary coating concrete layers 20 on the front end side of joint plates 14 are removed and an induction heating device 22 having a heating coil 24 and a power source 26 for supplying high-frequency current to the coil 24 is installed thereto.例文帳に追加

継手プレート１４の先端側の二次覆工コンクリート層２０を除去し、加熱コイル２４と、コイル２４に高周波電流を供給する電源２６とを備えた誘導加熱装置２２を設置する。 - 特許庁

In a direct current of a DC power source E, a drive circuit 12 alternately turns on and off electric field effect transistors Q1, Q2 according to a control circuit 15, and an inverter circuit 11 outputs a high frequency to start/light fluorescent lamps FL1, FL2.例文帳に追加

直流電源Ｅの直流を、制御回路15に従いドライブ回路12は交互に電界効果トランジスタQ1，Q2をオン、オフし、インバータ回路11が高周波出力し、蛍光ランプFL1 ，FL2 を始動、点灯する。 - 特許庁

To provide a high frequency power source that is limited to a necessary and sufficient level to prevent a wafer stage dielectric film from being electrically broken down, and a semiconductor manufacturing apparatus using the same.例文帳に追加

必要十分な高周波電源の出力を制限することにより、ウエハステージ誘電体膜の絶縁破壊を防止する高周波電源およびこの高周波電源を用いた半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

The electrode section is formed of a pair of electrodes 46 and 48 which are arranged to face each other on both sides of a discharge tube 40 through which a process gas is made to flow, and a lead 30 which connects one electrode 46 to a high-frequency power source.例文帳に追加

処理用気体を流通させる放電管４０を挟むように対向配置された一対の電極４６，４８と、当該一方の電極４６を高周波電源に接続するリード３０とで電極部を形成する。 - 特許庁

As a result, stress being applied to constituting elements such as a high frequency power source A, a matching circuit 4, and a coil 8 can be reduced, and the short life of the elements can be prevented.例文帳に追加

この結果、高周波電源Ａ、マッチング回路４およびコイル８などの構成素子に加わるストレス低減が可能になり、素子の寿命が短くなるのを防止することができる。 - 特許庁

To decrease a capacitor capacity necessary for removing ripples in conversion to a DC power source when a capacitorless mode is used in a means suppressing high frequency in a PWM light control system.例文帳に追加

ＰＷＭ調光方式において、高調波を抑制する手段にコンデンサレス方式とした場合に、直流電源に変換する際にリップル除去として必要なコンデンサ容量を小さくすることを目的とする。 - 特許庁

As compared with the case the resonance frequency is increased to 1.5 times or larger than the power output frequency of the high frequency power source circuit at the starting time of the discharge lamp, a voltage applied to between both ends of the other discharge lamp La is decreased, when one discharge lamp La only is lighted so that the load applied to the circuit can be reduced.例文帳に追加

均衡部共振周波数を放電灯始動時の高周波電源回路の出力の周波数の１．５倍よりも大きくする場合に比べ、一方の放電灯Ｌａのみが点灯したときに他方の放電灯Ｌａの両端間に加わる電圧を小さくして回路への負荷を低減することができる。 - 特許庁

An oscillation wavelength is scanned according to clock frequency by changing the clock frequency of the clock signal to make a wavelength variable at a high speed, and this light source is used to enhance the resolving power and depth of invasion of the optical tomographic image display system.例文帳に追加

このクロック信号のクロック周波数を変化させることによってクロック周波数に応じて発振波長を走査することで、高速で波長を可変でき、この光源を用いることで光断層画像表示システムの分解能、および深達度を向上させることができる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which detection of a commercial voltage and detection of a commercial voltage frequency are made possible with accuracy, without increasing the cost and with reduced arrangement space, and a high-quality image can be formed without being effected by the fluctuations in commercial power source voltage and frequency.例文帳に追加

コストアップせず、配置スペースも少なくできて精度のよい商用電圧の検出と商用電圧周波数の検知を可能とし、商用電源電圧と周波数の変動とに左右されずに高品質な画像を形成することのできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The fixing apparatus is provided with the fixing member 1 with transported sheet 90 brought into a press contact with an outer circumferential surface 1a, an exciting coil 31 for carrying out induction heating of a heat generating layer of the fixing member and a high frequency power source circuit 4 applying voltage of a certain driving frequency to the exciting coil 31.例文帳に追加

搬送されるシート９０が外周面１ａに圧接される定着部材１と、定着部材の発熱層を誘導加熱するための励磁コイル３１と、励磁コイル３１に或る駆動周波数の電圧を印加する高周波電源回路４とを備える。 - 特許庁

only by control to enlarge the line inductance of the print pattern p10 without increasing the number of components, the frequency of the ringing noise can be reduced, so that the printed circuit board wherein high-frequency ringing is suppressed, and the inexpensive switching power source can be configured.例文帳に追加

部品点数を増やすことなくプリントパターンｐ１０のラインインダクタンスを大きくするよう調節するだけで、リンギングノイズの周波数を低減できるので、高周波リンギングが抑制されたプリント基板および安価なスイッチング電源を構成できる。 - 特許庁

A relay part 6 is connected to a power source 1 in series in such a way to have a mechanical contact point 16 and generates signals containing high frequency by turning on and off the mechanical contact point continuously when a commercial frequency synchronous generating part 3 generates a synchronizing signal.例文帳に追加

電源１と直列に接続され、機械的接点１６を有し、商用周波同期発生部３が同期信号を発生したときに、前記機械的接点を連続的にオンオフして高周波成分を含む信号を発生するリレー部６が設けられる。 - 特許庁

A vacuum ultraviolet source 19 and cylindrical lens 20 are installed on the side face of the chamber 10, and when the high frequency power for plasma generation remains off, vacuum ultraviolet rays are cast onto a plasma generating region 18 from the ultraviolet source 19 through the cylindrical lens 20.例文帳に追加

チャンバー１０の側面には真空紫外光源１９及びシリンドリカルレンズ２０が設けられており、プラズマ発生用の高周波電力がオフであるときに、シリンドリカルレンズ２０を介して真空紫外光源１９からプラズマ発生領域１８に真空紫外光が照射される。 - 特許庁

The straight pipe part 43 thereof is connected with an electric circuit in the movable body 14 through a conductive pipe joint 45 and piping 46 and further is connected with a high-frequency power source installed at the outside and with a cooling water supply source through the pipe joint 45 and the piping 46.例文帳に追加

その直管部43は、導電性の管継手45および配管46を介し可動本体部14内の電気回路に、さらに外部に設置された高周波電源に接続するとともに、管継手45および配管46を介して冷却水供給源に接続されている。 - 特許庁

When high frequency power is applied from the electrode 12 to the gas 20 for electric discharge, and plasma for the gas 20 for electric discharge is generated, the solid source 18 is struck by the plasma, components of the solid source 18 are integrated into gas, and reactive etching gas is generated.例文帳に追加

電極１２から放電用ガス２０に高周波電力が印可されて放電用ガス２０のプラズマが発生すると、このプラズマにより固体ソース１８がたたかれ、固体ソース１８の成分がガス化し、反応性エッチングガスとなる。 - 特許庁

While a discharge lamp 12 of a thermionic cathode type is lit, an auxiliary light source 16 with a better optical output response than the discharge lamp 12 is lit with a filament-heated power from a high-frequency power source device 1 for heating filaments of the discharge lamp, and an optical output signal from the auxiliary light source 16 is utilized as a transmission signal.例文帳に追加

熱陰極形の放電灯１２を点灯するとともに、この放電灯のフィラメントを加熱する高周波電源装置１からのフィラメント加熱電力にて、放電灯１２よりも光出力応答性がよい補助光源１６を点灯し、この補助光源１６からの光出力信号を伝送信号として利用する。 - 特許庁

A plasma etching device includes a processing vessel 100 for subjecting a wafer W to plasma processing in the inside thereof; an upper electrode 105 and a lower electrode 110, facing each other inside of the processing vessel 100 for forming a processing space between them; and a high-frequency power source 150 connected to at least either of the upper electrode 105 and the lower electrode 110 for outputting high-frequency power to the inside of the processing vessel 100.例文帳に追加

プラズマエッチング装置は、内部にてウエハＷをプラズマ処理する処理容器１００と、処理容器１００の内部にて互いに対向し、その間に処理空間を形成する上部電極１０５及び下部電極１１０と、上部電極１０５及び下部電極１１０の少なくともいずれかに接続され、処理容器１００の内部に高周波電力を出力する高周波電源１５０と、を有する。 - 特許庁

When a high frequency electric power of 100 MHz is supplied to an antenna 5 which is provided in a vacuum vessel 1 by a high frequency power source 4 for the antenna, plasma is generated in the vacuum vessel 1 and plasma processing such as etching, deposition surface improvement and so on for a substrate 7 which is mounted on a substrate electrode 7 can be performed.例文帳に追加

アンテナ用高周波電源４により１００ＭＨｚの高周波電力を真空容器１内に設けられたアンテナ５に供給することにより、真空容器１内にプラズマが発生し、基板電極６上に載置された基板７に対してエッチング、堆積、表面改質等のプラズマ処理を行うことができる。 - 特許庁

While a specified gas is introduced from a gas feeder 2 into a vacuum chamber 1, a pump 3 being evacuating means evacuates this chamber to keep a fixed pressure therein, a high-frequency power source 4 feeds an antenna 5 projecting in the vacuum chamber 1 with a high-frequency power of 100 MHz, to generate a plasma in the chamber 1.例文帳に追加

真空容器１内に、ガス供給装置２から所定のガスを導入しつつ、排気装置としてのポンプ３により排気を行い、真空容器１内を所定の圧力に保ちながら、アンテナ用高周波電源４により１００ＭＨｚの高周波電力を真空容器１内に突出して設けられたアンテナ５に供給することにより、真空容器１内にプラズマが発生する。 - 特許庁

A Faraday shield 9 shielding a capacity coupling between the high frequency induction antennas and the plasma and making an inductive coupling is endowed with a power supply of an output from a high frequency power source 45 for the Faraday shield controlled by a phase controller 44 via a matching unit 46, based on monitoring by a phase detector 47-2.例文帳に追加

高周波誘導アンテナとプラズマ間の容量結合を遮断し誘導結合させるファラデーシールド９には、位相検出器４７−２による監視の基に、位相制御器４４から制御を受けたファラデーシールド用高周波電源４５からの出力が整合器４６を介して電源供給される。 - 特許庁

A single plus voltage variable power source is inputted to a single high frequency transformer to turn on/off a power MOS FET corresponding to required AC voltage and current, thereby a high frequency AC pulse in which a negative voltage generation pulse time is longer than a positive voltage generation pulse time can be outputted to a load for example.例文帳に追加

本発明によれば、単一の＋電圧可変電源を単一の高周波トランスに入力し、必要とする交流電圧、電流に対応したパワーMOS FETをON／OFFし、一例として負荷に負の電圧発生パルス時間が正の電圧発生パルス時間よりも長い高周波交流パルスを出力することができる。 - 特許庁

Exhaust is performed by a pump 3 as an exhaust device while prescribed gas is introduced from a gas supply device 2 to the inside of a vacuum vessel 1, and plasma is generated in the inside of the vacuum vessel 1 by supplying high frequency electric power of 100 MHz by an antenna high frequency power source 4 to an antenna 5 provided to be protruded to the inside of the vacuum vessel 1.例文帳に追加

真空容器１内に、ガス供給装置２から所定のガスを導入しつつ、排気装置としてのポンプ３により排気を行い、真空容器１内を所定の圧力に保ちながら、アンテナ用高周波電源４により１００ＭＨｚの高周波電力を真空容器１内に突出して設けられたアンテナ５に供給することにより、真空容器１内にプラズマが発生する。 - 特許庁

Next, a high frequency electric power is fed to working electrodes 3 and 4 from a high frequency power source 5 to generate plasma, charged particles in a reaction gas present in the plasma are allowed to collide against the surface of the work 1 by self-bias effect, and the surface of the work 1 is subjected to physico-chemical surface treatment by the chemical reaction between the radical and the work 1.例文帳に追加

次に、加工電極３、４に対して高周波電源５より高周波電力の供給を行ってプラズマが発生させ、自己バイアス効果により、プラズマ中に存在する反応ガス中の荷電粒子を被加工物１の表面に衝突させ、また、ラジカルと被加工物１表面との化学反応により、被加工物１表面に物理化学的な表面加工を行う。 - 特許庁

A housing 7 practically covers a projected part of a conductive rotary shaft 6 which is projected from a through hole 1a of a chamber 1 to the outside and a brush 9 brought into contact with the projected part of the rotary shaft 6 and for transmitting high frequency power supplied from the high frequency power source 15 to the rotary shaft 6.例文帳に追加

チャンバ１の貫通穴１ａから外部に突出した導電性の回転軸６の突出部と、この回転軸６の突出部に接触して高周波電源１５から供給された高周波電力を回転軸６に伝達するブラシ９とを実質的に覆うようにハウジング７が形成されたものである。 - 特許庁