「lb1」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The radiating element 21 has the height of Hb1 and the width of Lb1, and includes a power supply unit 25 at the lower center of it.例文帳に追加

放射素子２１は、高さがＨｂ１、横幅がＬｂ１で下側中央に給電部２５を備える。 - 特許庁

As a result, the intensity of the scanning light LB1 increases and, so does the intensity of the reflected light LB2.例文帳に追加

よって、走査光ＬＢ１の強度が強くなり、反射光ＬＢ２の強度も強くなる。 - 特許庁

The reflection light Lb1 and the reflection light Lb2 interfere with each other, and an interference light Lbi is generated.例文帳に追加

反射光Ｌｂ１と反射光Ｌｂ２は，相互に干渉し合い干渉光Ｌｂｉを生じさせる。 - 特許庁

The laser light source 1 generates the laser beam LB1 having the wavelength λ in accordance with control from the control unit 3 and guides the generated laser beam LB1 to the optical modulator 2.例文帳に追加

レーザ光源１は、制御部３からの制御に従って、波長λを有するレーザ光ＬＢ１を発生し、その発生したレーザ光ＬＢ１を光変調器２へ導く。 - 特許庁

In addition, the incident light beams LB1 made incident to the OFF pixels can be emitted to the micro lenses L1, L5 corresponding to the ON pixels M1, M5.例文帳に追加

そして、ＯＦＦピクセルに入射される入射光ＬＢ１を、ＯＮピクセルＭ１、Ｍ５に対応するマイクロレンズＬ１、Ｌ５に出射可能とした。 - 特許庁

An overvoltage protection block 20 is provided with a resistor R4 and a second Zener diode ZD2 on a first branch line LB1.例文帳に追加

過電圧保護ブロック２０は、第１分岐ラインＬＢ１上に抵抗Ｒ４及び第２ツェナーダイオードＺＤ２が設けられている。 - 特許庁

Moreover, P/S-polarized light waves of the 1st laser beam LB1 are subjected to zero-order transmission with the diffraction gratings 7a and 8a.例文帳に追加

また第１のレーザビームＬＤ１のＰ／Ｓ偏光波は回折格子７ａ，８ａで０次透過させられる。 - 特許庁

Irradiation of the ionized target material 91 with driver laser beams LB1 generates plasma 92 and emits EUV beams LB2.例文帳に追加

イオン化ターゲット物質９１にドライバレーザ光ＬＢ１が照射されるとプラズマ９２が生成され、ＥＵＶ光ＬＢ２を放射する。 - 特許庁

The optical modulator 2 converts the voltage V into the laser beam LB2 by converting intensity of the laser beam LB1 into transmission intensity corresponding to the voltage V.例文帳に追加

光変調器２は、レーザ光ＬＢ１の強度を電圧Ｖに応じた透過強度に変換することにより、電圧Ｖをレーザ光ＬＢ２に変換する。 - 特許庁

A first laminate LB1 comprises first interlayer insulating films ID1a-ID1d having first mechanical strength.例文帳に追加

第１の積層体ＬＢ１は第１の機械的強度を有する第１の層間絶縁膜ＩＤ１ａ〜ＩＤ１ｄを含む。 - 特許庁

In the stacking direction of the insulating sheets 32 and the like, the coils La, Lc are located between the coils Lb1 and Lb2.例文帳に追加

絶縁性シート３２等の積み重ね方向において、コイルＬａ，ＬｃはコイルＬｂ１とコイルＬｂ２との間に位置している。 - 特許庁

One part of a light Lb is reflected on an interface between the photoresist mask layer 316 and a polysilicon film 304, and a reflection light Lb1 can be obtained.例文帳に追加

光Ｌｂの一部は，フォトレジストマスク層３１６とポリシリコン膜３０４の界面で反射し，反射光Ｌｂ１が得られる。 - 特許庁

The pixel circuit 400 is connected to the 1st subordinate power lines Lr1, Lg1, and Lb1 at a pixel connection point Q.例文帳に追加

また画素回路４００は画素接続点Ｑにおいて第１副電源線Ｌｒ１、Ｌｇ１、及びＬｂ１と接続されている。 - 特許庁

A laser beam Lb1 is radiated from a laser beam source 5 and a laser beam La1 is radiated from a laser beam source 3.例文帳に追加

レーザ光源５からレーザ光Ｌｂ１が照射されるとともに、レーザ光源３からレーザ光Ｌａ１が照射される。 - 特許庁

A first region Ra1 comprises a first metal layer L1 and via V1 provided in the first laminate LB1.例文帳に追加

第１の領域Ｒａ１は第１の積層体ＬＢ１内に設けられた第１の金属層Ｌ１とビアＶ１とを有する。 - 特許庁

Light sources 1A, 1B emit each irradiation light LA1, LB1 so that each end of an irradiation domain (inspection domain) is overlapped each other.例文帳に追加

光源１Ａ，１Ｂは互いの照射領域（検査領域）の端部が重なり合うように照射光ＬＡ１，ＬＢ１をそれぞれ照射する。 - 特許庁

A laser marking apparatus 100 is provided with a condensation position display 2 of emitting light beams LA, LB1, LB2.例文帳に追加

レーザマーキング装置１００は、光線ＬＡ，ＬＢ１，ＬＢ２を照射する集光位置表示装置２を備える。 - 特許庁

The raw wood RW is photographed by a camera 20, while the virtual axis TS is irradiated with parallel linear light beams LB1, LB2.例文帳に追加

仮軸芯ＴＳに平行な線状光線ＬＢ１，ＬＢ２を照射した状態で原木ＲＷをカメラ２０で撮影する。 - 特許庁

Guard patterns Lg1 and Lg2 fixed at ground potential are laid out in parallel with the wiring patterns La1 and Lb1, respectively.例文帳に追加

グランド電位に固定されるガードパターンＬｇ１、Ｌｇ２は、それぞれ配線パターンＬａ１、Ｌｂ１と並行した状態でレイアウトされる。 - 特許庁

A light beam LB1 incident along the axis X is reflected on the elements 123 and 125 and focused on a target 101 with the element 127.例文帳に追加

軸Ｘ沿いに入射するビーム光ＬＢ１を素子１２３及び１２５による反射を経て素子１２７によって標的１０１上に合焦させる。 - 特許庁

A luminous energy loss is thereby reduced when the light beam LB1 passes an aperture member 201.例文帳に追加

したがって、光ビームＬＢ１がアパーチャ部材２０１を通過する際に生じる光量ロスを低減することが可能となる。 - 特許庁

A high-melting-point metal film FL can be previously heated by the energy of the first laser light LB2 before the main heating is carried out by the first laser light LB1, therefore, a predetermined region of the high- melting-point metal film FL can be sufficiently melted even if the energy of the first laser light LB1 is not so high.例文帳に追加

第１レーザ光ＬＢ1による本番の加熱の前に第２レーザ光ＬＢ2によって予め高融点金属膜ＦＬを裏面から加熱できるので、第１レーザ光ＬＢ1のエネルギーがあまり高くない場合であっても、高融点金属膜ＦＬの所定領域を十分に溶融させることができる。 - 特許庁

In this rotation regulation device, the lock bar LB1 is slid to be inserted to the gear rotor 1 having crests 1a and troughs 1b alternately provided in the circumferential surface, so that the lock bar LB1 is engaged with the crest 1a of the rotor 1 to regulate rotation of the rotor 1.例文帳に追加

周面に山部１ａおよび谷部１ｂが交互に設けられた歯車ロータ１に対してロックバーＬＢ１をスライド挿入することにより、ロータ１の山部１ａとロックバーＬＢ１との係合に基づいてロータ１の回転を規制する。 - 特許庁

The galvanodeflector 110 is for deflecting an incident light beam LB1 at a comparatively low speed around an X-axis, and the resonance type MEMS deflector 200 is for deflecting the incident light beam LB1 at a comparatively high speed around a Y-axis orthogonal to the X-axis.例文帳に追加

ガルバノ偏向器１１０は、入射光ビームＬＢ１をＸ軸の周りに比較的低速で偏向させるためのものであり、共振型ＭＥＭＳ偏向器２００は、入射光ビームＬＢ１をＸ軸に直交するＹ軸の周りに比較的高速で偏向させるためのものである。 - 特許庁

A prism 25 changes an optical path of a laser beam LB1 from a 1st light source 211, in order to make the laser beam LB1 from the 1st light source 211 incident to a polygon mirror 27 at a predetermined angle Δθ (e.g. 1.5°) with respect to a laser beam LB2 from a 2nd light source 212.例文帳に追加

プリズム２５は、第１光源２１１からのレーザビームＬＢ１を、第２光源２１２からのレーザビームＬＢ２に対して所定角度Δθ（例えば、１．５°）をなしてポリゴンミラー２７に入射させるべく、第１光源２１１からのレーザビームＬＢ１の光路を変更するものである。 - 特許庁

A slit plate ST regulates the luminous flux of the laser beams LB1 and LB2 emitted from a laser diode array LD, and is constituted in the manner that it is decentered in parallel or can be decentered in parallel in the subscanning direction X so that a magnification difference in the main scanning direction Y between the laser beams LB1 and LB2 may be small.例文帳に追加

スリット板(ST)は、レーザダイオードアレイ(LD)から発せられたレーザビーム(LB1,LB2)を光束規制し、レーザビーム(LB1,LB2)間の主走査方向(Y)の倍率差が小さくなるように、副走査方向(X)に平行偏芯しているか、平行偏芯可能に構成されている。 - 特許庁

Thus, even in the case where the intensity of the reflected light LB2 of the scanning light LB1 emitted to the monitoring area far from the laser radar head 5 in the main scanning direction X is made high, the intensity of the reflected light LB2 of the scanning light LB1 emitted to the monitoring area close to the laser radar head 5 is prevented from being excessively increased.例文帳に追加

これにより、主走査方向Ｘにおいてレーザレーダヘッド５から遠い監視領域に照射した走査光ＬＢ１の反射光ＬＢ２の強度が強くなるようにしても、レーザレーダヘッド５から近い監視領域に照射した走査光ＬＢ１の反射光ＬＢ２の強度は過剰に強くならない。 - 特許庁

The multiplexing/demultiplexing optical waveguide structure 150 has a first core part A1 on the multiplexing side formed along a first axis LA1 curved to one side S1, a second core part B1 on the demultiplexing side formed along a second axis LB1 curved to the one side S1, and a third core part C1 on the demultiplexing side formed along a third axis LC1 curved to the other side S2.例文帳に追加

合波分岐光導波路構造150は、一方の側S1に湾曲する第１の軸線LA1に沿って形成された合波側の第１のコア部A1と、一方の側S1に湾曲する第２の軸線LB1に沿って形成された分岐側の第２のコア部B1と、他方の側S2に湾曲する第３の軸線LC1に沿って形成された分岐側の第３のコア部C1とを有する。 - 特許庁

The laser beam LB1 for processing is irradiated to the second reflection region 6 by a first output based on the switching coordinate value, the laser beam LB1 for processing is irradiated to a first reflection region 5 by a second output which is a higher output than the first output to form an uniform modified layer P on each of the reflection regions 5, 6.例文帳に追加

そして、切り替え座標値に基づき、第２の反射領域６に第１の出力で加工用レーザービームＬＢ１を照射し、第１の反射領域５に第１の出力よりも高い出力である第２の出力で加工用レーザービームＬＢ１を照射し、各反射領域５，６に均一な改質層Ｐを形成する。 - 特許庁

A first optical beam Lb1 and a second optical beam Lb2 sharing an optical axis Lx are emitted via one and the same objective lens 47, and the second optical beam Lb2 is reflected on a reflection layer 104 to superimpose the first optical beam Lb1 and the second optical beam Lb2 on each other from opposite directions.例文帳に追加

本発明は、光軸Ｌｘを共有する第１光ビームＬｂ１及び第２光ビームＬｂ２を同一の対物レンズ４７を介して照射すると共に、反射層１０４によって第２光ビームＬｂ２を反射させることにより第１光ビームＬｂ１と第２光ビームＬｂ２を互いに反対方向から重複させる。 - 特許庁

A pulse-like laser beam LB1 with an alcohol absorbing wavelength λ1 is emitted to a running vehicle from a laser diode 1 and a pulse-like laser beam LB2 with a reference wavelength λ2 is emitted from a laser diode 2 so as to leave a time lag and both laser beams LB1, LB2 are detected by a common photodiode 3.例文帳に追加

レーザーダイオード１からアルコール吸収波長λ1 のパルス状のレーザービームＬＢ1 を走行車両に向けて出射し、レーザーダイオード２から参照波長λ2 のパルス状のレーザービームＬＢ2 を時間差をおいて出射し、両レーザービームＬＢ1 ，ＬＢ2 を共通のフォトダイオード３によって検出する。 - 特許庁

Wiring L1 connected directly to an LSI chip and wiring LB1 unconnected directly to the LSI chip 3 and connected to one electrode of the capacitor C1, provided in between itself and wiring 12 for voltage VGH are provided as wiring for VGL for supplying a voltage VGL to the LSI chip 3, and voltage input terminals are provided separately on the wiring L1 and on the wiring LB1.例文帳に追加

ＬＳＩチップ３に電圧ＶＧＬを供給するためのＶＧＬ用配線として、ＬＳＩチップに直接接続された配線Ｌ１と、ＬＳＩチップ３には直接に接続されることなく電圧ＶＧＨ用の配線ｌ２との間に設けられたコンデンサＣ１の一方の電極に接続された配線ＬＢ１とが設けられ、配線Ｌ１と配線ＬＢ１には電圧入力端子が別々に設けられている。 - 特許庁

By setting a facing interval t of a gap 9 so that the intersection Q of the first and second laser beams LB1 and LB2 is positioned on the grating 8a, the optical axes O1 and O2 of the first and second laser beams LB1 and LB2 emitted from the optical member 6 can be made as the same emission optical axis O3.例文帳に追加

第１及び第２のレーザビームＬＤ１，ＬＤ２との交叉点Ｑが回折格子８ａ上に位置するようにギャップ９の対向間隔ｔを設定することにより、光学部材６から射出される第１及び第２のレーザビームＬＤ１，ＬＤ２の光軸Ｏ１，Ｏ２を同じ射出光軸Ｏ３とすることができる。 - 特許庁

Inductance values La1 and Lb1 when the output current I is set to two current values Ip1 and Ip2 corresponding to a normal region A1 and an oversaturated region A2 of a DC reactor are detected, and a total inductance value is calculated as a function L (I) by linearly interpolating the two inductance values La1 and Lb1.例文帳に追加

合計インダクタンス値は、出力電流Ｉを直流リアクトルの通常特性領域Ａ１と過飽和特性領域Ａ２とに対応する２つの電流値Ｉｐ１，Ｉｐ２とした時の各インダクタンス値Ｌａ１，Ｌｂ１が検出され、この２つのインダクタンス値Ｌａ１，Ｌｂ１の直線補完にて関数Ｌ（Ｉ）として算出される。 - 特許庁

Then, the beams LB1 and LB2 emitted from the diodes LD1 and LD2 are synthesized so as to be advanced in the direction of the lens 63A with a slight angle by a beam splitter 61.例文帳に追加

ビームスプリッタ６１は、レーザダイオードＬＤ１，ＬＤ２から射出されたレーザビームＬＢ１，ＬＢ２を僅かな角度をもってレンズ６３Ａ方向に進むように合成する。 - 特許庁

The positive power of the convex surface 25a collects laser beams LB1 from the semiconductor laser array 20 to improve optical density, and the negative power of the concave surface 25b elongates a focal distance.例文帳に追加

凸面２５ａによる正のパワーにより、半導体レーザアレイ２０からのレーザ光ＬＢ１を集光し光密度を高め、凹面２５ｂによる負のパワーにより、焦点距離を長くする。 - 特許庁

A sensor device comprises a timing management part 414 that outputs a timing signal at a timing corresponding to each of discrete scan points of a light beam LB1 on an irradiated surface 410a.例文帳に追加

被照射面４１０ａ上の光ビームＬＢ１の離散的な走査点それぞれに対応するタイミングでタイミング信号を出力するタイミング管理部４１４を備える。 - 特許庁

A load balancer LB1 includes a fifth resistor R5, having a first terminal to which a second voltage VLB is applied and a second terminal which is connected to the second terminal of the second resistor R2.例文帳に追加

負荷バランサＬＢ１は、その第１端子に第２電圧ＶＬＢが印加され、その第２端子が第２抵抗Ｒ２の第２端子と接続された第５抵抗Ｒ５を含む。 - 特許庁

The gap between beams is adjusted by a beam position adjustment device 2 which can displace the image forming position of the laser beam LB1 on the surface of the photoreceptor drum.例文帳に追加

ビーム間隔の調整は、レーザビームＬＢ１の感光ドラム表面における結像位置を変位させることができるビーム位置調整装置２によって行う。 - 特許庁

The disposition position of the light emission layer 20b of the semiconductor laser array 20 is so determined that one of the polarization inversion arrays PL exists in the optical path of the laser beam LB1 emitted from the semiconductor laser array 20.例文帳に追加

半導体レーザアレイ２０から発したレーザ光ＬＢ１の光路には分極反転列ＰＬの一つが位置するように、半導体レーザアレイ２０の発光層２０ｂの配設位置が定められている。 - 特許庁

The hologram element 3 diffracts a laser beam that is changed into parallel light by the collimator lens 2 and emits a 0-order beam LB0 and a +1-order beam LB1.例文帳に追加

ホログラム素子３は、コリメータレンズ２により平行光にされたレーザ光を回折して０次光ＬＢ０と＋１次光ＬＢ１とを出射する。 - 特許庁

This optical displacement measuring device 1A includes a reflection optical system 16 for irradiating two one-time diffracted lights Lb1, Lb2 diffracted by a diffraction grating 11T of the scale part 11A, again to the diffraction grating 11T.例文帳に追加

光学式変位測定装置１Ａは、スケール部１１Ａの回折格子１１Ｔで回折された２つの１回回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を再度回折格子１１Ｔに照射する反射光学系１６を備える。 - 特許庁

Each irradiation light LA1, LB1 is light having each different characteristic, and an imaging device 2 can generate two images corresponding to each light source 1A, 1B by recognizing the characteristic difference.例文帳に追加

照射光ＬＡ１，ＬＢ１は特性が異なる光であり、撮像装置２ではその特性の違いを認識して光源１Ａ，１Ｂのそれぞれに対応する２つの画像を生成することができる。 - 特許庁

An irradiation section 1 irradiates the surface of a workpiece W with pieces of irradiation light L1 and LA1 of color A, irradiation light LB1 of color B, and irradiation light LC1 of color C.例文帳に追加

照射部１は、ワークＷの表面に対してＡ色の照射光Ｌ１，ＬＡ１とＢ色の照射光ＬＢ１と、Ｃ色の照射光ＬＣ１とを照射する。 - 特許庁

Signal lines La1, La2, Lb1, and Lb2 are formed on the upper surface of an upper dielectric layer 1, and signal lines La3 and Lb3 are formed on the upper surface of a lower dielectric layer 2.例文帳に追加

上部誘電体層１の上面に信号線路Ｌａ１、Ｌａ２、Ｌｂ１、Ｌｂ２が形成され、下部誘電体層２の上面に信号線路Ｌａ３、Ｌｂ３が形成されている。 - 特許庁