「masked state」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The finish extends over both the masked and unmasked portions, concealing the visible difference between these portions while the illumination source is in the non-illuminated state.例文帳に追加

仕上げ材は、マスク部分及び非マスク部分の両方にわたって延在し、照明源が非照明状態にある場合はマスク部分と非マスク部分との間の目に見える差を隠蔽する。 - 特許庁

When the illumination source is in the illuminated state, light passes though the unmasked portion and the finish, thereby showing a visible difference between the masked and unmasked portions.例文帳に追加

照明源が照明状態にある場合は光が非マスク部分及び仕上げ材を通過して、マスク部分と非マスク部分との間に目に見える区別を与える。 - 特許庁

The first write data are provided to the storage layer via the first field line to store the first stored data with a masked logic state.例文帳に追加

第１フィールド線を介してストレージ層に対して第１書込みデータを提供して、マスクされた論理状態を有する第１記憶データを記憶する。 - 特許庁

Then, after an electrode material layer is deposited on the substrate 1 in the state that the photodetecting receiver 3 is masked with a mask material, it is flattened to form the transfer electrodes 5-8.例文帳に追加

次に、光電変換部３をマスク材でマスクした状態で基板１上に電極材料層を堆積させた後、これを平坦化して転送電極５〜８を形成する。 - 特許庁

To understand a state on an approaching path of a treatment tool to a structure masked by the other structure such as a lesion in an organ more easily.例文帳に追加

臓器中の病変のように他の構造物によって遮蔽された構造物に対する処置具の接近経路上の様子をより容易に把握できるようにする。 - 特許庁

To prevent a damage or the like of a semiconductor wafer due to masking while surface treating a surface to be treated of the wafer, in a state in which a non-treating surface of the wafer is masked.例文帳に追加

半導体ウエハの非処理面をマスキングした状態で処理面の表面処理を行いながら、マスキングに起因するウエハの傷付き等を未然に防止する。 - 特許庁

To provide a plating apparatus which can achieve an automatic process of plating a region having wiring formed thereon in a state that a peripheral part (such as alignment mark portion) of a substrate is masked.例文帳に追加

基板の周縁部（アライメントマーク部など）をマスクした状態で配線形成領域にめっきを行う工程を自動化によって達成できるめっき装置を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the attaching part 6 is masked by a masking means 15, and only a part of the attaching part 6 is formed in a state attaching to the sheet member 1 partly.例文帳に追加

シート体１がマスキング手段１５の上面を通過するたびに粘着剤が連続して転写されることで、シート体１の表面には複数の粘着剤が疎らに形成される。 - 特許庁

To apply a partial plating having extremely high quality with which a portion forming no plated layer in a work can be masked under state of non-contacting to the work when the partial plating is applied to the work.例文帳に追加

ワークを部分メッキするに当って、ワークのメッキ層が形成されない部位を、ワークに対して非接触状態でマスクでき、極めて品質の高い部分メッキを施すことができるようにする。 - 特許庁

A UV-curing resin layer is spin-coated on a substrate surface and in this state, a projected part generating region of a substrate outer periphery is masked and the temporary curing of the resin layer by irradiation with UV light is performed, and after that, the resin in a state of non-temporary curing is shaken off by increasing the rotational speed of the substrate.例文帳に追加

基板表面にUV硬化性樹脂層をスピンコートし、この状態で基板外周の凸部発生領域にマスクしてUV光照射による該樹脂層の仮硬化を行い、その後基板の回転速度を増加させて非仮硬化の状態の樹脂を振り切る。 - 特許庁

Also, when noise detection by the noise detection circuit 14 occurs in performing SYNC communication in a standby state that access to an HDD 11 is not performed, the interruption is masked by a mask circuit 15 in accordance with setting by a user from an operation panel 10.例文帳に追加

また、ノイズ検知回路１４によるノイズ検知がＨＤＤ１１へのアクセスを行なっていない待機状態時のＳＹＮＣ通信時に発生した場合、操作パネル１０からの利用者による設定に応じてマスク回路１５が割り込みをマスクする。 - 特許庁

To separate and reproduce individual recording bits with high signal quality even when the recording magnetic domain information of a segment in an intra-surface magnetization state is masked and the adjacent recording bits enter the inside of the beam diameter of a condensed laser beam.例文帳に追加

面内磁化状態にある部分の記録磁区情報がマスクされ、集光された光ビームのビーム径内に隣接する記録ビットが入る場合においても、高い信号品質で個々の記録ビットを分離して再生することを可能とする。 - 特許庁

The wafer 1 is set on an etching pot 8 and in a state such that the outer peripheral part of the wafer 1 is masked with a seal packing 9, the backside 1b of the wafer is etched with an etchant 7 into a prescribed depth by leaving the outer peripheral part of the wafer 1 to make thin the backside 1b.例文帳に追加

ウエハ１をエッチングポット８にセットし、シールパッキン９にてウエハ１の外周部をマスクした状態でエッチング液７にてウエハ裏面１ｂに対しウエハ１の外周部を残して所定深さまでエッチングして薄くする。 - 特許庁

When the extender 29 is switched, the control unit 13 causes the signal processing circuit 5 to change the mask region in the image according to a magnification shift accompanied by the switching of the extender 29 and maintains the masked state of the privacy zone also after the switching of the signal processing circuit 5.例文帳に追加

制御部１３は、エクステンダー２９が切り替えられたとき、エクステンダー２９の切替に伴う倍率シフトに応じて信号処理回路５に画像内のマスク領域を変更させて、信号処理回路５の切替後もプライバシーゾーンをマスクした状態を維持する。 - 特許庁

This metal-coating method comprises the steps of: forming a thin film such as a polymer film on a substrate; embedding the fine particle into the thin film to mask the particle; and coating the surface that has not been masked in this state, with the metal.例文帳に追加

基板上にポリマーフィルムなどの薄膜を形成し、微粒子をこの薄膜に埋め込んでマスキングし、この状態で金属コーティングを施すことでマスキングされていない表面に対して金属コーティングを行うことができる。 - 特許庁

In a low temperature start, because a shift of the air-fuel ratio sensor output from an actual air-fuel ratio is not converged at a time t2, the air-fuel ratio output is masked with a stoichiometrically until a regular activated state judging time t3 at which an admittance value As becomes a standard value A2.例文帳に追加

低温始動時には、時刻ｔ２において実空燃比からの空燃比センサ出力ずれが収束していないため、アドミタンス値Asが基準値A2となる本活性状態判定時刻ｔ３までは、空燃比出力がストイキにマスクされる。 - 特許庁

To obtain a magneto-optical recording medium wherein recording magnetic domain information of the part in an in-plane magnetization state is masked and reproduction can be performed with high signal quality by separating individual recording pits even when an adjacent recording pit is put in a beam diameter of a condensed light beam.例文帳に追加

面内磁化状態にある部分の記録磁区情報がマスクされ、集光された光ビームのビーム径内に隣接する記録ビットが入る場合においても、高い信号品質で個々の記録ビットを分離して再生可能な光磁気記録媒体を得る。 - 特許庁

Then the pump plating of a contact material such as Ni, Ni alloy, Pt, Rh, Pd and the like is performed as shown in (h) in a state that a part excluding a part corresponding to the contact pin as a tip part of a wiring pattern 3a is masked, to form bump-shaped projections 13.例文帳に追加

次に、配線パターン３ａの先端部であるコンタクトピンに相当する部分以外の部分をマスキングした状態で、（ｈ）のように、Ｎｉ、Ｎｉ合金、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ等の接点材料のパンプメッキを施して、バンプ状の突起１３を形成する。 - 特許庁

A two-input AND circuit 7 make interruption as a masked state by outputting a low level when the inputted pulse is judged as in noise period by the signal S15 from the edge detecting circuit 3 and the noise judging signal from the noise discriminating part 30 or outputs the interruption signal S8 at an allowed state of generation of the interruption in the case of judgment which is not in the noise period.例文帳に追加

２入力ＡＮＤ回路７がエッジ検出回路３からの信号Ｓ１５とノイズ判別部３０からのノイズ判定信号によって、入力パルスがノイズ期間と判定されたときにローレベルを出力して割り込みをマスク状態とし、又はノイズ期間ではない判定時に割り込み発生許可状態の割り込み信号Ｓ８を出力する。 - 特許庁

A method of manufacturing a scintillator panel including a fluorescent layer, a substrate for supporting the fluorescent layer, and a reflective layer disposed between the fluorescent layer and the substrate includes a step of forming an insulating layer on the substrate, a step of forming the reflective layer on the insulating layer in a state in which an edge part of the insulating layer is masked, and the step of forming the fluorescent layer on the reflective layer.例文帳に追加

蛍光体層と、前記蛍光体層を支持するための基材と、前記蛍光体層と前記基材との間に配置された反射層と、を備えたシンチレータパネルの製造方法は、前記基材の上に絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層の端部をマスキングした状態で前記絶縁層の上に前記反射層を形成する工程と、前記反射層の上に前記蛍光体層を形成する工程とを含む。 - 特許庁

On the side of a backup area, the mask signal to be provided from the power-off area is held, a latch circuit 33A which holds "L" when the mask signal is in a no voltage state is provided and input/output signals with the side of the power-off area are masked using the mask signal held by the latch circuit 33A.例文帳に追加

バックアップエリア側では、パワーオフエリアから与えられるマスク信号を保持すると共に、このマスク信号が無電圧状態となったときには“Ｌ”を保持するラッチ回路３３Ａを設け、このラッチ回路３３Ａで保持したマスク信号を用いて、パワーオフエリア側との間の入出力信号をマスクする。 - 特許庁

When the mask information is input to the image display apparatus 2, a mask processing part in the image display device 2 applies mask processing based on the mask information to the image information of which the output is started, and the same image as the image displayed on the liquid crystal display 16 is displayed on the image display device 2 in a state where a mask area is masked.例文帳に追加

画像表示装置２にマスク情報が入力されると、画像表示装置２のマスク処理部は、出力が開始された画像情報に対して、マスク情報に基づくマスク処理を施し、画像表示装置２には、液晶ディスプレイ１６と同一の画像が、マスク領域がマスクされた状態で表示される。 - 特許庁

A mask ROM 3 for input outputs mask data D3 based on a count value CT, and an AND circuit 4 performs the AND operation of data input 1 being input pattern data indicating the state of an input device and the mask data D3, and outputs an AND operation result D4 (masked input pattern data).例文帳に追加

入力用マスクＲＯＭ３はカウント値ＣＴに基づきマスクデータＤ３を出力し、ＡＮＤ回路４は入力デバイスの状態を示す入力パターンデータであるデータ入力１とマスクデータＤ３とのＡＮＤ演算を行ってＡＮＤ演算結果Ｄ４（マスク処理済み入力パターンデータ）を出力する。 - 特許庁