「pattern measuring」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

TWO-AXES POSITIONER FOR MEASURING ELECTROMAGNETIC WAVE IRRADIATION PATTERN OF WIRELESS EQUIPMENT例文帳に追加

無線機器の電磁波放射パターン測定用２軸ポジショナー - 特許庁

OPTICAL PATTERN FORMING METHOD, OPTICAL SCALE AND DISPLACEMENT MEASURING DEVICE例文帳に追加

光学パターン形成方法、光学スケール、変位測定装置 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING POSITION GAP, EXPOSURE METHOD AND TEST PATTERN例文帳に追加

位置ずれ測定方法および露光方法ならびにテストパターン - 特許庁

OPTICAL MEASURING INSTRUMENT AND PATTERN FORMED ON PROJECTION PLATE例文帳に追加

光学式測定装置および投影板に形成されたパターン - 特許庁

TEST PATTERN FOR MEASURING CONTACT RESISTANCE AND METHOD OF MANUFACTURING SAME例文帳に追加

コンタクト抵抗測定用テストパターン及びその製造方法 - 特許庁

THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING DEVICE AND PATTERN LIGHT PROJECTOR例文帳に追加

三次元形状計測装置及びパターン光投影装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING AND ADJUSTING LIQUID SPRAY PATTERN例文帳に追加

液体スプレーパターンを測定・調節する方法及び装置 - 特許庁

PATTERN LINE WIDTH MEASURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT AND ITS APPARATUS例文帳に追加

半導体素子のパターン線幅測定方法及びその装置 - 特許庁

CHARGE BEAM DEVICE AND METHOD OF MEASURING INCLINATION ANGLE OF PATTERN例文帳に追加

荷電ビーム装置及びパターンの傾斜角度測定方法 - 特許庁

EDDY CURRENT MAGNETIC FIELD DETECTION TYPE PATTERN FOR MEASURING FILM THICKNESS AND METHOD OF MEASURING FILM THICKNESS OF THE SAME例文帳に追加

渦電流磁界検出型の膜厚測定用パターン、及び、その膜厚測定方法 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING RESIST PATTERN, SCANNING ELECTRON MICROSCOPE TYPE DIMENSION MEASURING DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レジストパターン測定方法、走査電子顕微鏡型測長装置及び半導体装置 - 特許庁

The method includes a step wherein a pattern collapse measuring pattern including an evaluation pattern and a fixation pattern is exposed on a resist formed on a wafer, a step to develop the resist, and a step to find the presence or absence of pattern collapse of the evaluation pattern by measuring the change of the position of center of gravity in a pattern collapse measuring pattern developed on the resist.例文帳に追加

ウェハ上に形成されたレジストに、評価パターンと固定パターンを含むパターン倒れ測定パターンを露光する工程と、レジストに対して現像プロセスを行う工程と、レジストに現像されたパターン倒れ測定パターンの重心位置の変動を測定して評価パターンのパターン倒れの有無を調べる工程とを有する。 - 特許庁

Using a wiring pattern for measuring dimension, an electric resistance of the wiring pattern is measured.例文帳に追加

寸法測定用配線パターンを用い、その配線パターンの電気抵抗値を測定する。 - 特許庁

The line width of the transfer pattern on each pattern position of length measuring position recognition is measured (ST104).例文帳に追加

各測長箇所認識パターン位置における転写パターンの線幅を測定する（ST104)。 - 特許庁

In the non-follow system, the exposure control is performed by using the predetermined light measuring pattern as the objective light measuring pattern without changing the objective light measuring patterns.例文帳に追加

非追従方式においては、対象測光パターンを変更せず、予め定められた測光パターンを対象測光パターンとして用いて露出制御を行う。 - 特許庁

To provide a length measuring instrument and length measuring method capable of measuring the slippage of a connection part in an actual pattern without requiring a measuring pattern in the measurement and inspection of the slippage of the connection part generated in the drawing or transfer of a pattern.例文帳に追加

パターンの描画あるいは転写時に発生した接続部のズレの測定・検査に際して、測定用のパターンを必要とせず、実パターンで接続部のズレが計測できる測長器および測長法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern measuring method capable of determining automatically and measuring correctly a remaining part (line pattern) and a cut-out part (space pattern) as to a measuring-objective pattern in an image, and capable of measuring a true resist pattern corrected in a shrinkage amount, when measuring a resist pattern by a CD-SEM.例文帳に追加

ＣＤ−ＳＥＭによるレジストパターンの測定において、画像中の測定対象パターンが残し部（Ｌｉｎｅパターン）と抜き部（Ｓｐａｃｅパターン）を自動的に判定して正しく測定すると共に、レジストのシュリンク量を補正した真のレジストパターン寸法を測定することを可能にするレジストパターン測定方法及びレジストパターン測定装置を提供する。 - 特許庁

DEVICE FOR MEASURING POSITION AND SHAPE OF PATTERN FORMED ON SHEET例文帳に追加

シートに形成されたパターンの位置および形状測定装置 - 特許庁

PATTERN AND METHOD FOR MEASURING SUPERPOSITION PRECISION例文帳に追加

重ね合わせ精度測定パターン及び重ね合わせ精度測定方法 - 特許庁

PATTERN SIZE MEASURING METHOD AND ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD例文帳に追加

パターン寸法測定方法及び荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁

APPARATUS FOR POSITIONING, PATTERN INFORMATION MEASURING APPARATUS AND METHOD FOR POSITIONING例文帳に追加

位置決め装置、パターン情報測定装置及び位置決め方法 - 特許庁

Measuring pattern data for acquiring measured pattern data of the pattern of the sample to be inspected is compared with developing pattern data for generating the developing pattern data corresponding to the measuring pattern data from design data of the sample to be inspected, so as to detect the defect of the pattern of the sample to be inspected.例文帳に追加

被検査試料のパターンの測定パターンデータを取得する測定パターンデータと、被検査試料の設計データから測定パターンデータに対応した展開パターンデータを生成する展開パターンデータとを比較して被検査試料のパターンの欠陥を検出する。 - 特許庁

In the pattern formation step, a pattern 111 for measuring shift in position and a first pattern 101 are formed in a first layer.例文帳に追加

パターン形成工程では、第１層に位置ズレ計測用のパターン１１１と第１パターン１０１とを形成する。 - 特許庁

MEASURING OBJECT PATTERN SELECTING METHOD, PATTERN INSPECTING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, PROGRAM, AND PATTERN INSPECTION DEVICE例文帳に追加

測定対象パターンの選択方法、パターン検査方法、半導体装置の製造方法、プログラムおよびパターン検査装置 - 特許庁

The mask for measuring flare includes a box pattern as an outer frame, a measurement pattern for measuring the displacement amount inside the box pattern, and an auxiliary pattern, having a dimension lower than the resolution and adjacent to the measurement pattern.例文帳に追加

フレア測定用マスクは外枠となるボックスパターンと、ボックスパターンの内部に位置ズレ量を計測するための計測用パターンと、計測用パターンに隣接した解像限界寸法以下の補助パターンとを備えている。 - 特許庁

The transmissivity measuring means sets up a measuring optical axis in a plane nearly parallel with a pattern forming plane.例文帳に追加

透過率測定手段はパターン形成面とほぼ平行な面内に測定光軸を設定する。 - 特許庁

This impedance measuring circuit pattern A has a measuring region 1 where impedance is to be measured.例文帳に追加

インピーダンスが測定される測定領域１を有するインピーダンス測定用回路パターンＡに関する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PATTERN DENSITY, FILM- THICKNESS MEASURING METHOD, AND PROCESS CONTROL METHOD例文帳に追加

パターン密度計測方法及び計測装置及び膜厚計測方法及びプロセス制御方法 - 特許庁

PULSE PATTERN GENERATING DEVICE, ERROR RATIO MEASURING SYSTEM USING THE SAME, AND PULSE PATTERN GENERATING METHOD例文帳に追加

パルスパターン発生装置及び該装置を用いた誤り率測定システム並びにパルスパターン発生方法 - 特許庁

The measured data of a new test pattern for a testing mask are obtained by measuring the line width of each gate pattern.例文帳に追加

テスト用マスクの新規テストパターンの実測データは、各ゲートパターンの線幅について測定される。 - 特許庁

OPTICAL SUBSTRATE, AND POSITION SHIFT MEASURING METHOD FOR SUBSTRATE TOP/REVERSE SURFACE PATTERN USING POSITIONING PATTERN例文帳に追加

光学基板及び位置あわせパターンを用いた基板表裏面パターンの位置ずれ測定方法 - 特許庁

To provide a pattern pitch measuring apparatus capable of numerically knowing a change in pattern pitches.例文帳に追加

絵柄ピッチの変動を数値的に把握ることができる絵柄ピッチ計測装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern measuring method and a pattern measuring apparatus capable of accurate measurement without lengthening measurement time in measuring a pattern shape by irradiating a periodical structure pattern with electromagnetic waves.例文帳に追加

周期的構造パターンに電磁波を照射してパターン形状を計測する場合に、計測時間を増大させることなく、高精度に計測することが可能なパターン計測方法およびパターン計測装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a measuring method in which a pattern of a measuring object is captured quickly within a visual field range of a length measuring SEM and in which a size of the pattern on a substrate is measured in a short time.例文帳に追加

測定対象のパターンを測長ＳＥＭの視野範囲に迅速に捉え、もって基板上のパターンの寸法を短時間に計測する測定方法を提供する。 - 特許庁

MASK, METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN, METHOD FOR MEASURING ALIGNMENT ACCURACY, AND APPARATUS例文帳に追加

マスク、パターンの転写方法、アライメント精度測定方法、および装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING CIRCUIT PATTERN LINE WIDTH例文帳に追加

回路パターン線幅計測方法および回路パターン線幅計測装置 - 特許庁

The central part of the chart pattern is positioned on a measuring optical axis Ls.例文帳に追加

チャートパターンの中心部は測定光軸Ls上に位置している。 - 特許庁

To detect the intensity of light reflected by a reflectance measuring pattern.例文帳に追加

反射率測定パターンにより反射した光強度を検出する。 - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN FORMING METHOD AND MASK ALIGNMENT PRECISION MEASURING METHOD例文帳に追加

アライメントパタ—ンの形成方法及びマスクとの合わせ精度測定方法 - 特許庁

PATTERN DIMENSION MEASURING METHOD, AND SCANNING TRANSMISSION CHARGED PARTICLE MICROSCOPE例文帳に追加

パターン寸法計測方法及び走査型透過荷電粒子顕微鏡 - 特許庁

X-RAY DIFFRACTION APPARATUS AND MEASURING METHOD OF X-RAY DIFFRACTION PATTERN例文帳に追加

Ｘ線回折装置およびＸ線回折パターンの測定方法 - 特許庁

To provide a measuring method of a fine pattern line width and its system.例文帳に追加

微細パターン線幅測定方法およびそのシステムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING MEASUREMENT TARGET PATTERN USING ELECTRON MICROSCOPE DEVICE例文帳に追加

電子顕微鏡装置を用いた計測対象パターンの計測方法 - 特許庁

ELECTRON MICROSCOPE SYSTEM AND PATTERN DIMENSION MEASURING METHOD USING IT例文帳に追加

電子顕微鏡システム及びそれを用いたパターン寸法計測方法 - 特許庁

MEASURING METHOD FOR LINE-AND-SPACE PATTERN USING SCANNING ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

走査電子顕微鏡を用いたライン・アンド・スペースパターンの測定方法 - 特許庁