「pattern measuring」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for measuring distance in pattern data, capable of easily performing measurement of distance between edges of pattern data displayed on a display device.例文帳に追加

表示装置に表示される図形データのエッジ間の距離の測定を容易に行い得る図形データの距離測定方法を提供する。 - 特許庁

To measure a sidewall angle of a pattern of a mask used as an original of a semiconductor circuit at the same time of measuring dimension of the pattern.例文帳に追加

半導体回路原版として用いるマスクのパターン寸法を計測する際に、パターンの寸法とともに側壁角度も同時に計測する。 - 特許庁

The main controller 7 of the measuring apparatus 1 acquires pattern data with respect to the printed board K, and divides the pattern data into two or more regions.例文帳に追加

三次元計測装置１の主制御部７は、プリント基板Ｋに対するパターンデータを取得し、前記パターンデータを複数の領域に分割する。 - 特許庁

To provide a rotary creel of a partial warper for pattern warps, enhanced in measurement accuracy, to provide a pattern warper for pattern warps, and to provide a method for measuring bobbin diameters.例文帳に追加

測定精度を高めた柄経糸用部分整経機の回転式クリール、柄経糸用部分整経機、およびボビン直径を測定するための方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method also comprises the steps of sending the PN pattern generated from a PN pattern generator 18 to a PN pattern collator 31-8 of the controller 30, and measuring the bit error rate.例文帳に追加

そして、ＰＮパターン生成部１８で生成されたＰＮパターンが、無線基地局制御装置３０のＰＮパターン照合部３１−８へ送られてビット誤り率が測定される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for measuring a coating pattern capable of simultaneously measuring the width direction and the conveying direction of the coating pattern and eliminating an influence of distance fluctuation in the optical axis direction.例文帳に追加

塗工パターンの幅方向および搬送方向の測定の同時性を実現し、光軸方向の距離変動の影響も無くすことができる塗工パターンの測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for measuring temperature for a finely writing device which can form a high-accuracy pattern by accurately measuring the temperature of a substrate while the substrate is transported and while the pattern is written on the substrate.例文帳に追加

搬送途中の基板温度及び描画中の基板温度を正確に測定し、高精度なパターンを形成できる微細描画装置における温度測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of removing blur of a pattern image acquired by an SEM and easily and accurately measuring the three-dimensional shape of a pattern of a sample surface based on information of the height direction of a pattern acquired by another measuring machine such as an AFM.例文帳に追加

ＳＥＭによって得られたパターン画像のボケを除去し、ＡＦＭなどの他の計測機で得られたパターンの高さ方向の情報と合わせ、試料表面のパターンの３次元形状を簡便にかつ精度良く計測する方法を提供する。 - 特許庁

A color CCD camera is used as a imaging means for measuring, a characteristic correction value of the color CCD camera is calculated by the optional point within a measuring pattern every display device of a measuring object and prior to image measuring, and the color information value of the optional points within the measuring pattern by imaging is accurately obtained based on the calculated result.例文帳に追加

計測用撮像手段としてカラーＣＣＤカメラを使用し、計測対象とするカラー表示装置毎に、及び、撮像計測の前に、計測パターン内任意点によりカラーＣＣＤカメラの特性補正値の算出を行い、この算出結果をもとに撮像による計測パターン内複数任意点の色情報値を高精度に得る。 - 特許庁

To provide a level difference measuring method and a level difference measuring device, that can measure a difference in level such as an etching depth of a fine structure pattern.例文帳に追加

微細構造体パターンのエッチング深さなどの段差を測定することの出来る段差測定方法、段差測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The measuring method is for measuring the precision of drawing by writing a pattern for measurement by irradiating a beam upon a base material for measurement.例文帳に追加

測定用基材に対してビームを照射することにより測定用描画パターンを描画して描画の精度を測定する測定方法である。 - 特許庁

To provide a dimension measuring method capable of accurately measuring a minute dimension of a pattern of an object to be measured, without damaging the measured object, and its instrument.例文帳に追加

被測定物にダメージを与えず、正確に被測定物のパターンの微細寸法を測定することができる寸法測定方法とその装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a three-dimensional measuring device, capable of removing harmonic waves contained in a deformed lattice fringe image by projecting a binary pattern to a measuring object.例文帳に追加

バイナリパターンを被測定物体に投影することにより変形格子像に含まれる高調波を除去可能な3次元計測装置を提供する。 - 特許庁

To provide a measuring microscope and an eyepiece of a measuring microscope which can change the position of a pattern without rotating an indicating member.例文帳に追加

本発明は、測定顕微鏡および測定顕微鏡の接眼レンズ部に関し、表示部材を回転することなくパターンの位置を変更することを目的とする。 - 特許庁

To provide an eye movement measuring instrument capable of measuring the ocular motion by capturing the image of the blood vessel pattern of the tunica conjunctiva and/or sclera of an eyeball.例文帳に追加

眼球の結膜及び／又は強膜の血管模様を撮像することで眼球の運動を計測可能な眼球運動計測装置を提供する。 - 特許庁

To form a film thickness measuring pattern for measuring the film thickness of an epitaxial semiconductor layer formed by the selective growth, without needing any special constituting material element.例文帳に追加

選択成長によるエピタキシャル半導体層の膜厚を測定する膜厚測定パターンを、特段の構成材料要素を要せずに形成する。 - 特許庁

This suppresses the measuring error from growing in the base line measurement using the reference mark WM_1, WM_2, WM_3, WM_4 and the measuring pattern ST.例文帳に追加

したがって、基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４及び計測パターンＳＴを用いたベースライン計測では計測誤差の発生が抑制される。 - 特許庁

BLOOD COAGULATON TIME MEASURING METHOD USING GRANULAR SPOT PATTERN BY REFLECTED LASER BEAM, AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

レーザ反射光による粒状斑点模様を利用した血液凝固時間測定方法とその装置 - 特許庁

To provide a high-speed metrology tool for measuring a parameter of a substrate, where a pattern is provided in a lithographic apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置内でパターン付けされた基板のパラメータを測定する高速メトロロジーツールを提供する。 - 特許庁

A core conductor 21 of the coaxial cable 20 is soldered to the measuring point 15 (signal wiring pattern 11).例文帳に追加

同軸ケーブル２０の芯線導体２１は測定点１５（信号配線パターン１１）に半田付けする。 - 特許庁

To provide a scanning AC hole microscope and a usage for measuring a region pattern of magnetic material.例文帳に追加

走査型ＡＣホール顕微鏡と磁性材料の領域パターンの測定する用法を提供すること。 - 特許庁

To easily acquire correspondence information between a measuring pattern on a projection object surface and a projector having performed projection.例文帳に追加

被投写面上の測定用パターンと、投写したプロジェクターとの対応情報を簡便に取得する。 - 特許庁

To use an alignment precision measuring mark formed on a lower conductive film pattern plural times.例文帳に追加

下層の導電膜パターンに形成されているアライメント精度計測マークを複数回利用できるようにする。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for measuring the thickness of a multilayer film laminated on a pattern formation wafer.例文帳に追加

パターン形成ウェーハに積層された多層膜の厚さを測定する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

A measuring electric current pattern 3 is etched on a surface (or an internal layer plane) of the printed wiring board 1.例文帳に追加

プリント配線基板１の表面（もしくは内層面）に被測定電流パターン３がエッチングされる。 - 特許庁

(a) A target machining line is determined by measuring the coordinates of at least two points on a linear pattern.例文帳に追加

（ａ）線状パターン上の少なくとも２つの点の座標を測定して加工目標線を決定する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF MASK, FORMING METHOD OF PATTERN, PHOTOMASK FOR MEASURING DISTORTION AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクの製造方法、パターンの形成方法、歪計測用フォトマスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

Fundo is a tool for measuring weight with a balance, and this pattern is generated by connecting four curved lines alternately. 例文帳に追加

天秤で質量を測定するためのもので、曲線4本を互い違いに繋いで製作する文様 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To accurately correspond to a projection pattern on a measuring object even with scattering in camera characteristics.例文帳に追加

カメラの特性にバラツキがあっても計測物体上の投影パターンの対応づけを精度よく行う。 - 特許庁

To provide a method and device for measuring a form which can measure a fine pattern accurately.例文帳に追加

微細なパターンを正確に測定することができる形状測定方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern dimension measuring device and a method suitable for selecting a determination method of a proper pattern edge.例文帳に追加

本発明は、適切なパターンエッジの決定法を選択するのに好適なパターン寸法測定装置及び方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

As a result, accurate measurement of characteristic impedance of the signal wiring pattern (S) 1 of the measuring object is enabled by using the wiring pattern (T) 6 for measurement.例文帳に追加

よって、測定用配線パターン（Ｔ）６を用いて、測定対象の信号配線パターン（Ｓ）１の正確な特性インピーダンスの測定を行うことが可能となる。 - 特許庁

The main control part 7 of the three-dimensional measuring apparatus 1 obtains pattern data about the printed board K and divides the pattern data into a plurality of areas.例文帳に追加

三次元計測装置１の主制御部７は、プリント基板Ｋに対するパターンデータを取得し、前記パターンデータを複数の領域に分割する。 - 特許庁

To provide an agrochemical liquid spreading pattern measuring system capable of easily determining in high accuracy the spreading pattern of an agrochemical liquid spread via the nozzle of a boom sprayer.例文帳に追加

ブームスプレーヤのノズルから散布される薬液の散布パターンを簡単かつ精度よく求めることができる薬液散布パターン計測装置を提供する。 - 特許庁

PATTERN MEASUREMENT METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING IT, PROGRAM AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM, AND PATTERN MEASURING DEVICE例文帳に追加

パターン計測方法、このパターン計測方法を用いる半導体装置の製造方法、プログラムおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体、並びにパターン計測装置 - 特許庁

The feature portion of the first graphic pattern and the feature portion of the second graphic pattern are positioned each other, based on the positional relation in the measuring object.例文帳に追加

そして、第一図形パターンの特徴部分および第二パターンの特徴部分が計測対象における位置関係に基づいて相互に位置決めされる。 - 特許庁

The non-pattern forming areas 45a, 45b, and 45c are formed under different forming conditions for each of the measuring pattern units 43A, 43B, and 43C.例文帳に追加

非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃは、計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃ毎に互いに異なる形成条件で形成されている。 - 特許庁

To provide a method for measuring an area ratio of a printing plate pattern, by which the area ratio of the printing plate pattern drawn by a laser can be measured with high accuracy.例文帳に追加

レーザで描画した刷版パターンの面積率を高精度に測定する刷版パターンの面積率の測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a paper pattern capable of measuring a size without temporarily assembling an adjuster pipe to a drain socket and a method for carrying out a toilet stool using the paper pattern.例文帳に追加

アジャスタ管を排水ソケットに仮組みすることなく寸法出しすることができる型紙と、この型紙を用いた便器施工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask dimension measuring instrument, capable of measuring the dimension of the minute pattern or hole on a mask in a non destructive and non contact state with high accuracy and also capable of measuring a long dimension not entering a measuring visual field, and a measuring method using the same.例文帳に追加

マスク上の微小なパターンやホールを非破壊、非接触、かつ高精度に、その寸法を測定することを可能にするとともに、計測視野に入らないような長寸法計測をも可能にする測定装置およびそれを用いた測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and a device for performing accurate phase connection, in a three-dimensional measuring system for measuring a surface shape by observing an image obtained by irradiating a measuring object with sine-wave pattern light.例文帳に追加

正弦波パターン光を計測対象物に照射して得られる画像を観察することによりその表面形状を計測する三次元計測システムにおいて、正確な位相接続を行う。 - 特許庁

To provide a strain measuring device and a strain measuring method capable of improving the measuring accuracy and reducing an information processing amount while taking account of deformation of a prescribed feature pattern.例文帳に追加

本発明は、所定の特徴パターンの変形を考慮しつつ測定精度の向上と情報処理量の低減とを図ることができるひずみ測定装置およびひずみ測定方法を提供する。 - 特許庁

The measuring unit 23 emits a measuring laser beam to a hologram element 13, receives the measuring laser beam diffracted by the hologram element 13, and thus measures optical characteristics of a hologram pattern 18.例文帳に追加

測定ユニット２３は、ホログラム素子１３に測定用レーザ光を出射し、ホログラム素子１３によって回折された測定用レーザ光を受光して、ホログラムパターン１８の光学特性を測定する。 - 特許庁

This etching dispersion estimation device has a length-measuring scanning electron microscope 10 for respectively measuring the line widths of a resist pattern used as a measuring object at a plurality of positions with first and second threshold values.例文帳に追加

複数の位置で、測定対象となるレジストパターンの線幅を、第１および第２の閾値でそれぞれ測定する測長用走査型電子顕微鏡１０を持つエッチングばらつき予測装置である。 - 特許庁

To prevent measuring error and obtaining sufficient measuring precision when the reflection coefficient of a measuring object is low and a pattern having a higher reflection coefficient exists in the vicinity of the object, in an apparatus and a method for measuring the dimension of a pattern by obtaining an image with an optical microscope.例文帳に追加

光学式顕微鏡により画像を取得してパターンの寸法を測定する装置及び方法において、測定対象のパターンの反射率が低く、近傍に反射率のより高いパターンが存在する場合にも、測定ミスを防止でき充分な測定精度を得ることができるものを提供する。 - 特許庁