「pattern measuring」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

CREATION METHOD OF REFERENCE PATTERN INFORMATION, POSITION MEASURING METHOD, POSITION MEASURING DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

基準パターン情報の作成方法、位置計測方法、位置計測装置、露光方法、及び露光装置 - 特許庁

A color measuring means 160 measures the color irregularities which periodically occur in a color measuring pattern.例文帳に追加

測色手段１６０により前記測色パターンにて周期的に発生する色むらを測定する。 - 特許庁

To provide a measuring device or the like for measuring an amount of pattern statistics according to an object for measurement.例文帳に追加

計測目的に応じたパターン統計量を計測することが可能な計測装置等を提供する。 - 特許庁

To provide a pitch measuring device for measuring the pitch of a L/S pattern using a relatively long wavelength light.例文帳に追加

比較的長い波長の光を用いてＬ／Ｓパターンのピッチを測定することのできるピッチ測定装置。 - 特許庁

To provide a "registration accuracy measuring mark" for measuring registration accuracy of a three layer pattern at once.例文帳に追加

３層のパターンの重ね合わせ精度を１回で測定可能な「重ね合わせ精度測定マーク」を提供する。 - 特許庁

GRANULAR-PATTERN MEASURING APPARATUS AND GRANULAR- PATTERN EVALUATION METHOD AS WELL AS COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH RECORDED GRANULAR-PATTERN MEASURING PROGRAM OR RECORDED GRANULAR-PATTERN EVALUATION PROGRAM AS WELL AS GRANULAR-PATTERN EVALUATION APPARATUS USING GRANULAR-PATTERN EVALUATION METHOD例文帳に追加

粒状模様測定装置及び粒状模様評価方法、並びに粒状模様測定プログラム若しくは粒状模様評価プログラムを記録したコンピュ—タ読み取り可能な記録媒体、並びに粒状模様評価方法を用いた塗装条件設定方法 - 特許庁

A measuring optical member 23 comprises a plurality of measuring pattern units 43A, 43B, and 43C having a pattern forming area 44 in which a measuring pattern 46 is formed and non-pattern forming area 45a, 45b, and 45c disposed at positions different from the pattern forming area 44.例文帳に追加

計測用光学部材２３は、計測用パターン４６が形成されるパターン形成領域４４及び該パターン形成領域４４とは異なる位置に配置される非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃを有する複数の計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃを備えている。 - 特許庁

To obtain a pattern collapse measuring method by which the presence or absence of pattern collapse can be found quickly and easily.例文帳に追加

迅速かつ容易にパターン倒れの有無を調べることができるパターン倒れ測定方法を得る。 - 特許庁

To provide an impedance measuring circuit pattern capable of executing accurately inspection of a signal circuit pattern.例文帳に追加

信号回路パターンの検査を精度良く行うことができるインピーダンス測定用回路パターンを提供する。 - 特許庁

In a test pattern measuring process (ST12), the size of a test pattern transferred onto a wafer is measured.例文帳に追加

テストパターン測定工程ＳＴ１２において、ウェハ上に転写されたテストパターンの寸法を測定する。 - 特許庁

MEASURING METHOD, SETTING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD, AND MOVING BODY DRIVE SYSTEM AND PATTERN FORMING DEVICE例文帳に追加

計測方法、設定方法及びパターン形成方法、並びに移動体駆動システム及びパターン形成装置 - 特許庁

AUTOMATIC PATTERN SURFACE EXTRACTION METHOD AND SHAPE MEASURING DEVICE THEREOF例文帳に追加

パターン面自動抽出方法及びそれを用いた形状計測装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING SHAPE OF COATING PATTERN APPLIED TO SHEET例文帳に追加

シートに塗工された塗工パターンの形状測定方法及び装置 - 特許庁

DISPLACEMENT MEASURING METHOD, METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PERIODIC PATTERN SHEET例文帳に追加

位置ずれ計測方法、周期的パターンシートの製造方法及び装置 - 特許庁

DISK DRIVE DEVICE, CLEARANCE MEASURING METHOD, AND SERVO PATTERN WRITING METHOD例文帳に追加

ディスク・ドライブ装置、クリアランス測定方法及びサーボ・パターンの書き込み方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR MEASURING PATTERN WITH USE OF DISPLAY MICROSCOPE IMAGE例文帳に追加

ディスプレイ顕微鏡画像を用いたパターン測定方法及び測定システム - 特許庁

The device 1 for creating a mask pattern includes a measuring unit 3 and a changing unit 4.例文帳に追加

マスクパターン生成装置１は、測定部３と、変更部４と、を含む。 - 特許庁

PATTERN GENERATING APPARATUS AND APPARATUS FOR MEASURING PHYSICAL PROPERTY OF SURFACE例文帳に追加

パターン生成装置及び表面の物理特性を測定するための装置 - 特許庁

METHOD OF DETECTING HOLE PATTERN AND HOLE PATTERN DETECTOR, AND METHOD OF MEASURING HOLE AREA AT HOLE CENTER, AND DEVICE FOR MEASURING AREA OF HOLE AT THE HOLE CENTER例文帳に追加

ホールパターン検出方法及びホールパターン検出装置、ホール中央部の穴面積測定方法及びホール中央部の穴面積測定装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR SETTING CONDITION OF MEASURING PATTERN例文帳に追加

パターン測定条件設定方法、及びパターン測定条件設定装置 - 特許庁

By employing a line pattern and a space pattern as the resist pattern for measuring a focus value, the direction of the focus deviation can also be found.例文帳に追加

フォーカス測定用レジストパターンとして、ラインパターンとスペースパターンとを採用することにより、フォーカスずれの方向も求めることができる。 - 特許庁

A pattern KP for inspection for the purpose of measuring the line width of the pattern to be transferred to a substrate is formed on the mask having a circuit pattern CP.例文帳に追加

回路パターンＣＰを有するマスクに、基板に転写されるパターンの線幅を計測するための検査用パターンＫＰを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern measuring device and a pattern measuring method capable of discriminating a line from a space, when the line which is a measuring object and the space are formed approximately at equal intervals.例文帳に追加

測定対象のラインとスペースがほぼ等間隔に形成されているときに、ラインとスペースを識別することのできるパターン測定装置及びパターン測定方法を提供すること。 - 特許庁

When photographing a pattern of a photomask to measure the pattern size, a pattern size conversion formula for converting the number of pixels of a pattern image into a pattern size is obtained from a size measuring value of a test pattern and the number of pixels of a test pattern, and the number of pixels of the pattern image is converted into a pattern size by the pattern size conversion formula so as to measure the pattern size of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクのパターンを撮像してパターン寸法を測定する際に、パターン画像の画素数をパターン寸法に変換するパターン寸法変換式をテストパターンの寸法計測値とテストパターン画像の画素数とから求めておき、パターン画像の画素数をパターン寸法変換式によりパターン寸法に変換してフォトマスクのパターン寸法を測定する。 - 特許庁

To provide a device for measuring pattern shapes and a pattern shape measuring method, capable of quick and high-accuracy roughness measurement, without the need for designating a spot to be measured by a measuring person, when measuring roughness of a hole of a photomask or a wafer and a dot pattern shape.例文帳に追加

フォトマスク又はウェハのホール及びドットパターン形状のラフネスを計測する際に、測定者が計測する箇所を指定する必要がなく、迅速かつ高精度なラフネス計測が可能となるパターン形状計測装置及びパターン形状計測方法を提供する。 - 特許庁

The position with the highest correlative value is deemed the second positioning mark of the measuring pattern, and the mutual second position marks of the measuring pattern and the mask patterns are aligned, so that the mask pattern and the measuring pattern are aligned by each division region (step 109).例文帳に追加

最も相関値が高い位置を被測定パターンの第２の位置決めマークと見なし、被測定パターンとマスタパターンの互いの第２の位置決めマークの位置を合わせることにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを分割領域毎に行う（ステップ１０９）。 - 特許庁

The width in the peripheral direction of the track pitch variation measuring pattern 13 is fixed.例文帳に追加

トラックピッチ変動測定用パターン１３の周方向幅は一定である。 - 特許庁

TEST PATTERN FORMING METHOD, ETCHING CHARACTERISTIC MEASURING METHOD, AND CIRCUIT USING SAME例文帳に追加

テストパターン形成方法、それを用いたエッチング特性測定方法及び回路 - 特許庁

FLASH MEMORY DEVICE HAVING BAR RESISTANCE MEASURING PATTERN AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

バー抵抗測定パターンを有するフラッシュメモリ素子およびその形成方法 - 特許庁

METHOD, DEVICE, AND PROGRAM FOR MEASURING FINE PATTERN例文帳に追加

微細パターン測定方法、微細パターン測定装置、及び、微細パターン測定プログラム - 特許庁

CHARGED BEAM DEVICE, METHOD FOR MEASURING PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

荷電ビーム装置、パターン測定方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING OPTICAL AXIS, ANGLE, AND PATTERN OF RADIATION OF RADIATION LIGHT SOURCE例文帳に追加

放射光源の放射光軸、放射角度、放射パターンの測定方法 - 特許庁

MEASURING METHOD FOR CLOTHES IN PATTERN ORDER TAILORING AND CLOTHES MEASURED THEREBY例文帳に追加

パターンオーダ仕立てにおける衣服の採寸方法およびその採寸用衣服 - 特許庁

MARK FOR DETECTING MISALIGNMENT AND METHOD FOR MEASURING MISALIGNMENT OF WAFER, RETICLE AND PATTERN例文帳に追加

位置ずれ検出用マーク、ウエハ、レチクル、及びパターンの位置ずれの測定方法 - 特許庁

This measuring method of a dimension of a register pattern consists of cooling a sample before measuring a regist pattern dimension with a scanning electron microscope.例文帳に追加

レジストパターンの寸法を走査型電子顕微鏡で測定するにあたり、試料を冷却して測定することを特徴とするレジストパターンの寸法測定方法。 - 特許庁

PATTERN CHARACTERISTICS MEASURING METHOD USING SCANNING PROBE MICROSCOPE AND ITS SYSTEM例文帳に追加

走査プローブ顕微鏡を用いたパターン特性測定方法およびそのシステム - 特許庁

To provide a measuring apparatus capable of measuring a precise light radiation pattern (light distribution pattern), irrespective of the angle of arrangement of a light-emitting body, with respect to a detection means.例文帳に追加

発光体の検知手段に対する配置角度に関わらず正確な光放射パターン（配光パターン）を測定できる測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a test pattern for measuring line contact resistance and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ラインコンタクト抵抗測定用テストパターン及びその製造方法の提供。 - 特許庁

The belt moving device 110 has the belt 1 and a 2D measuring pattern 12.例文帳に追加

ベルト移動装置１１０は、ベルト１と２Ｄ計測用パターン１２を有する。 - 特許庁

The imaging part takes an image containing a pattern formed on the surface of the measuring object by the pattern light.例文帳に追加

撮像部は、パターン光によって測定対象物の表面に形成されるパターンを含む画像を撮像する。 - 特許庁

A pattern storage means 3 stores, as a reference pattern, a distribution pattern of the distance from a three-dimensional position measuring device 1 on the detection object.例文帳に追加

パターン記憶手段３は検知対象物について３次元位置測定装置１からの距離の分布パターンを基準パターンとして記憶する。 - 特許庁

The pattern measuring system is provided with a simulator which determines the dimension measuring position of a pattern to be transferred on a wafer in accordance with dimensional distribution of the pattern within photomask surface, gauging equipment which measures dimension of the pattern in the dimension measuring position, and photomask database which stores data concerning dimensional distribution of the pattern within the photomask surface.例文帳に追加

フォトマスク面内におけるパターンの寸法分布に応じ、ウエーハ上に転写されるパターンの寸法計測位置を決定するシミュレータと、寸法計測位置においてパターンの寸法を計測する寸法検査装置と、フォトマスク面内におけるパターンの寸法分布に関するデータを格納するフォトマスクデータベースとを有する。 - 特許庁

In the pattern forming method for forming a transfer pattern for a design pattern by performing lithographic processing, the line width measuring position of the design pattern is extracted on the basis of a previously set condition and a length measuring position recognition pattern is added to the extracted position (ST101).例文帳に追加

リソグラフィ処理を行うことで設計パターンの転写パターンを形成するパターン形成方法において、予め設定された条件に基づいて設計パターンにおける線幅測長箇所を抽出し、抽出箇所に測長箇所認識パターンを追加する（ST101）。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MEASURING METHOD FOR SHEET RESISTANCE OF LOWER-LAYER CONDUCTIVE PATTERN THEREOF例文帳に追加

半導体装置及びその下層導電パターンのシート抵抗の測定方法 - 特許庁

A measuring unit 105 measures a waveform pattern of power consumption by the electrical device 4.例文帳に追加

測定部１０５は、電気機器４の消費電力の波形パターンを測定する。 - 特許庁