「pattern measuring」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Consequently, the dimensions of the measuring pattern 11 can be measured precisely, since the two sides 11a, 11a of the measuring pattern 11 are always set so as to form 90° with respect to the scanning direction of the electron beam.例文帳に追加

これにより、寸法測定パターン１１の２辺１１ａ，１１ａが常に電子線スキャン方向に対して９０°とすることができるため、寸法測定パターン１１の正確な寸法を測定することができる。 - 特許庁

To provide a surface measuring device uninfluenced by a pattern even in the case of a sample having the pattern formed on the surface, capable of realizing a wider effective measuring area compared with a resolution of height information.例文帳に追加

表面にパターンが形成された試料の場合でも前記パターンの影響を受けず、かつ、高さ情報の分解能に比べて広い有効計測面積が可能となる表面測定装置を提供すること。 - 特許庁

Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.例文帳に追加

遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a method and device for evaluating adhesion of a pattern for quantitatively measuring the adhesion without generating a shear in the fine pattern, in evaluating the adhesion between the fine pattern, such as a resist pattern and a light shielding film pattern of a photomask used for producing semiconductors, and a base substrate.例文帳に追加

半導体製造に用いられるレジストパターンやフォトマスクの遮光膜パターンなどの微細パターンと下地基板との密着性の評価において、微細パターンにせん断などを生じさせずに定量的に密着性を測定する密着性評価方法、および評価装置を提供する。 - 特許庁

The slimming processing method for a resist pattern for performing slimming processing for a resist pattern formed on a substrate comprises a slimming processing process by applying a reacting substance for solubilizing a resist pattern onto the resist pattern, carrying out heat treatment under predetermined heat treatment conditions and executing development processing for resist pattern slimming processing; and a first line width measuring process for measuring the line width of the resist pattern before the slimming processing process.例文帳に追加

基板上に形成したレジストパターンをスリミング処理するレジストパターンのスリミング処理方法において、レジストパターン上にレジストパターンを可溶化する反応物質を塗布し、次に予め決定された熱処理条件で熱処理し、次に現像処理することによって、レジストパターンにスリミング処理を行うスリミング処理工程と、スリミング処理工程前にレジストパターンの線幅を測定する第１の線幅測定工程とを含む。 - 特許庁

In the test mode, the control part 2 executes the designated operation pattern by measuring a time from the execution start time to the execution end time decided by the measurement pattern made correspond to the operation pattern at the speed decided by the measurement pattern.例文帳に追加

制御部２は、テストモード時には、指定された運行パターンを、当該運行パターンに対応付けられた計時パターンで定められた実行開始時刻から実行終了時刻までの間を、当該計時パターンで定められた速さで計時して、実行する。 - 特許庁

In a measuring step S20, the resist pattern form of basic patterns which are formed after exposure and development steps is measured.例文帳に追加

測定工程Ｓ２０では、露光、現像工程後に形成された基本パターンのレジストパターン形状を測定する。 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING OPTIMAL LUMINOUS PATTERN OF PLASMA DISPLAY PANEL, METHOD FOR MEASURING CONTOUR NOISE, AND METHOD FOR SELECTING GRAY SCALE例文帳に追加

プラズマディスプレーパネルの最適の発光パターン生成方法と輪郭ノイズ測定方法及びグレースケール選択方法 - 特許庁

To estimate electromagnetic noise occurrence pattern without recourse to any expert with knowledge of electromagnetic noise or expensive measuring device.例文帳に追加

電磁ノイズの知識を有した専門家や高価な測定器を用いずに、電磁ノイズの発生パターンを推定する。 - 特許庁

WAVEFORM ANALYZING DEVICE, WAVE FORM ANALYSIS PROGRAM, INTERFEROMETER DEVICE, PATTERN PROJECTION SHAPE MEASURING DEVICE, AND WAVEFORM ANALYSIS METHOD例文帳に追加

波形解析装置、波形解析プログラム、干渉計装置、パターン投影形状測定装置、及び波形解析方法 - 特許庁

BURST INTERVAL MEASURING DEVICE, BURST INTERVAL MEASUREMENT METHOD, DRIVE APPARATUS, SERVO PATTERN WRITING DEVICE, AND MAGNETIC TAPE TESTING APPARATUS例文帳に追加

バースト間隔測定装置、バースト間隔測定方法、ドライブ装置、サーボパターン書き込み装置および磁気テープ検査装置 - 特許庁

In the dimension measuring pattern 7, a plurality of same formation patterns are periodically arranged on a semiconductor substrate.例文帳に追加

寸法測定パターン７は、複数個の同一形状パターンが周期的に半導体基板上に配列されている。 - 特許庁

The linear pattern 15a is formed so as to extend in a vertical direction on the measuring surface 11 of the chart board 12.例文帳に追加

線状パターン１５ａは、チャート板１２の測定面１１にて、垂直方向に延びるように形成される。 - 特許庁

The measuring head 10 comprises a light source 11, the lattice pattern 12, the photo acceptance unit 14, and a lens 13.例文帳に追加

測定ヘッド１０には、光源１１と、格子パターン１２と受光素子１４とレンズ１３とから構成されている。 - 特許庁

To provide an apparatus for setting pattern measuring conditions, to set a measuring position while preventing a reduction in working efficiency when the measuring position of a complicated pattern or a sample having a plurality of patterns whose optical proximity effect is to be evaluated, on the basis of defective coordinates.例文帳に追加

本発明は、複雑なパターン、或いは複数のパターンが配列され光近接効果の影響を評価すべきパターン等を有する試料に対し、欠陥座標等に基づいて、測定位置を設定する場合に、作業効率の低下を抑制しつつ、測定位置を設定することを目的とする。 - 特許庁

To provide: a synchronization circuit in which, even when a pattern including an error different from a specific pattern is received, without researching the specific pattern, operation similar to that at the time of synchronization can be continued; an error rate measuring apparatus; a synchronization method; and an error rate measuring method.例文帳に追加

本発明は、特定パターンと異なるエラーを含むパターンを受信しても、特定パターンの再サーチを行なわず、同期がとれていたときと同じような動作を継続する同期確立回路、誤り率測定装置、同期確立方法及び誤り率測定方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for measuring heat pattern in a sintering layer with which thermo-couples for measuring the variation of temperature (heat-pattern) in the sintering layer are not stuck to the sintering raw material at the time of measuring the temperature, and can be used for long term and the heat-pattern in the sintering layer can surely be measured and calculated.例文帳に追加

焼結層内の温度変化を測定するための熱電対が、温度測定の際に焼結原料に溶着せず、熱電対を長期間にわたり使用することができ、しかも、焼結層内の温度変化を、確実に測定、算出することができる焼結層内のヒートパターン測定方法と焼結層内のヒートパターン測定装置を提供する。 - 特許庁

This three-dimensional measuring instrument of the present invention is constituted of a pattern projector 1 as a projection means for projecting a pattern light onto a measuring object A, a camera 2 as an imaging means for imaging the measuring object A projected with the pattern light to pick up an image, and a computer 3 for processing a data of the image picked up by the camera 2.例文帳に追加

本発明の三次元計測装置は、計測対象物Ａにパターン光を投影する投影手段としてのパターン投影機１と、パターン光が投影された計測対象物Ａを撮像して画像を撮像する撮像手段としてのカメラ２と、このカメラ２により撮像した画像のデータを処理するコンピュータ３とから構成される。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF DRIVING MOVABLE BODY, METHOD AND DEVICE OF FORMING PATTERN, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, MEASURING METHOD, AND POSITION MEASURING SYSTEM例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、計測方法、並びに位置計測システム - 特許庁

To provide a pattern size measuring method and an electrically-charged beam drawing method capable of simply and accurately measuring a size between adjacent resist patterns.例文帳に追加

隣接するレジストパターン間の寸法を簡便に且つ精度良く測定することが可能なパターン寸法測定方法及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

The image of a pattern formed in a mask (working reticle 34) as a measuring object is enlarged by a projection optical system 3 and observed (measured) with a spatial image measuring device 209.例文帳に追加

測定対象としてのマスク（ワーキングレチクル３４）に形成されたパターンの像を投影光学系３で拡大して空間像計測装置２０９で観察（計測）する。 - 特許庁

To provide a line width measuring apparatus and method which enable simple and quick measurement of the line width at measuring points (repeated pattern) of a substrate and a reticle.例文帳に追加

基板の各々の測定点（繰り返しパターン）における線幅の測定を短時間で簡単に行える線幅測定装置、線幅測定方法、およびレチクルを提供する。 - 特許庁

MODELING METHOD OF PATTERN, FILM THICKNESS MEASURING METHOD, PROCESS STATE JUDGING METHOD, THICKNESS MEASURING EQUIPMENT, PROCESS STATE JUDGING EQUIPMENT, GRINDING EQUIPMENT AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターンのモデル化方法、膜厚測定方法、工程状態判定方法、膜厚測定装置、工程状態判定装置、研磨装置、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

When aberration is measured by using the aberration measuring mask, the aberration measuring mask is irradiated with the exposure light, to transfer the pattern on a photosensitive agent so as to be developed.例文帳に追加

このような収差測定用マスクを用いて、収差を測定する場合、収差測定用マスクに、露光光を照射し、感光剤に、このパターンを転写し、現像する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional measuring apparatus capable of quickly performing three-dimensional measurements and inspections while maintaining high measuring accuracy, and of obtaining pattern data comparatively easily.例文帳に追加

高い計測精度を維持しながらスピーディに三次元計測、検査を行うこと、パターンデータを比較的容易に取得することの可能な三次元計測装置を提供する。 - 特許庁

A stylus touching pad for measuring is wired in order to measure the measuring pixel pattern 3 and measurement is executed by bringing a fetching stylus into contact with a source pad 5, a drain pad 6 and a gate pad 7.例文帳に追加

測定画素パターン３を測定するために測定用針当てパッドへ配線し、ソースパッド５、ドレインパッド６、ゲートパッド７へ取りだし針を当てて測定する。 - 特許庁

To provide a capacitance measuring circuit for accurately individually measuring each capacitance component of gate capacitance of transistors without having to enlarging a layout pattern of the transistors.例文帳に追加

トランジスタのレイアウトパターンを大きくしなくてもトランジスタのゲート容量の各容量成分を個別に精度良く測定するための容量測定用回路を提供する。 - 特許庁

Further, a difference of the stage drive performance at the measuring position and the exposure position is corrected either or both in the substrate pattern position measuring step and the exposure step.例文帳に追加

そして、上記計測位置と上記露光位置でのステージ駆動特性の差を、該基板パターン位置計測工程と該露光工程のいずれかもしくは両方で補正する。 - 特許庁

The wafer surface inspection device has a method and a means for searching an area capable of measuring the surface roughness existing on the wafer with the pattern, and for measuring the measurable area.例文帳に追加

パターン付きウェハ上に存在する表面粗さを測定可能な領域を検索し、前記測定可能な領域を測定する方法及び手段を有する装置である。 - 特許庁

The three-dimensional shape measuring device comprises: a projection part emitting a pattern light to the measuring object; an imaging part; a luminance condition adjustment part; a control part; and an arithmetic part.例文帳に追加

三次元形状計測装置は、測定対象物に対してパターン光を照射する投光部と、撮像部と、輝度条件調整部と、制御部と、演算部を備える。 - 特許庁

To allow a flow measuring device 1 to recognize correctly a control pattern of a gas apparatus installed on the downstream of the flow measuring device without excessive gas consumption.例文帳に追加

流量計測装置下流に設置されたガス器具の制御パターンを余計なガス消費をさせることなく流量計測装置１に正しく認識させること。 - 特許庁

To provide a film thickness measuring method measuring precisely and nondestructively a film thickness of a semiconductor integrated circuit pattern transferred and formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に転写・形成された半導体集積回路パターンの高精度膜厚測定を非破壊検査で可能とする膜厚計測方法を提供する。 - 特許庁

A three-dimensional shape measuring apparatus 10 is the apparatus for measuring a three-dimensional shape of a measurement object by analyzing an optical pattern, projected onto the measurement object.例文帳に追加

三次元形状測定装置１０は、計測対象に投影された光パタンを解析することによって、計測対象の三次元形状を計測する装置である。 - 特許庁

A pattern dimension measuring device sets measuring conditions by the charged particle beams based on position information of separated parts separated for double exposure.例文帳に追加

更に二重露光用に分離された分離個所の位置情報に基づいて、荷電粒子ビームによる測定条件を設定するパターン寸法測定装置を提案する。 - 特許庁

To extract the scattering characteristic of a measuring object in addition, when the shape of its surface is measured in a measurement system for measuring a surface shape of a measuring object by the pattern projection method.例文帳に追加

パターン投影法により測定対象物の表面形状を測定する測定システムにおいて、表面形状の測定時に、あわせて測定対象物の散乱特性を抽出することを目的とする。 - 特許庁

To provide a charged potential voltage measuring function for accurately measuring a potential voltage charged on an insulating body of a sample, and to provide a system for precisely measuring a pattern on the sample using information about charged potential which is measured.例文帳に追加

試料の絶縁体に帯電した帯電電位をより正確に測定する帯電電位測定機能、及び測定した帯電電位の情報を用いて試料上のパターンを高精度に計測するシステムを提供する - 特許庁

PN PATTERN TRANSMITTER AND ITS METHOD, PN PATTERN RECEIVER AND ITS METHOD, AND TRANSMISSION PATH BIT ERROR MEASURING SYSTEM AND ITS METHOD例文帳に追加

ＰＮパターン送信装置、ＰＮパターン受信装置及び伝送路ビット誤り測定システム、ＰＮパターン送信方法、ＰＮパターン受信方法及び伝送路ビット誤り測定方法 - 特許庁

The calibration is carried out by recording a pattern on which a plurality of patches are arrayed through the use of the recording head and reading the pattern density by the density measuring means.例文帳に追加

記録ヘッドを用いて複数のパッチが配列されたパターンを記録し、前記パターンにおける濃度を前記濃度測定手段で読取ることにより、キャリブレーションを行う。 - 特許庁

The image of the resolution-measuring pattern 90 is detected, based on a position of the pattern position specifying marker 92 detected in step S14 (step S16).例文帳に追加

その次に、上記ステップＳ１４において検出されたパターン位置特定用マーカ９２の位置に基づいて、解像度測定用パターン９０の画像が検出される（ステップＳ１６）。 - 特許庁

To provide a fine pattern measuring method which accurately measures a sidewall angle of a fine pattern from an image obtained by a scanning electron microscope.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡で得られる画像から微細パターンの側壁角度を精度良く測定することができる微細パターン測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To form a pattern on a workpiece film on a substrate with a space ratio of 1:1 by accurately measuring the dimension of the pattern of a sacrificial film or the workpiece film on the substrate.例文帳に追加

基板上の犠牲膜又は被処理膜のパターンの寸法を正確に測定し、基板上の被処理膜にスペース比率が１：１となるパターンを形成する。 - 特許庁

The pattern width Y is made wider than a pattern width X of a measuring-axis-directional wiring to enhance the signal intensity in the reading head, in measurement.例文帳に追加

そうして、該パターン幅Ｙを、測定軸方向の配線のパターン幅Ｘより広くすることで、測長に際して、読取りヘッドにおける信号強度を向上することができる。 - 特許庁

With the arrangement pattern and excitation pattern, the intensity and directions of the magnetic fields are measured by three-axial magnetic sensors U, V, and W and the coordinates and directions in the measuring space are accurately calculated.例文帳に追加

この配置パターンと励磁パターンにおいて、磁場の強度と向きを３軸磁気センサにより計測し、計測空間内における座標と向きを精度よく算出する。 - 特許庁

To prevent a circuit pattern inspection device from decreasing in operation rate by measuring image noise of the circuit pattern inspection device and detecting a sign for an abnormal device state.例文帳に追加

回路パターン検査装置の画像ノイズを計測し、装置状態が異常となる兆候を察知することで、回路パターン検査装置の稼動率の低下を防止する。 - 特許庁

To provide a pattern searching method for detecting a target measuring position or an observation position from a picture such as a circuit pattern by a smaller number of processes.例文帳に追加

本発明の目的は、少ない工程にて、回路パターン等の画像から目的の測定位置又は観察位置を検出するためのパターンサーチ方法を提供することにある。 - 特許庁