「pattern measuring」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radiation EMI measuring device capable of shortening a measuring time, and measuring by a uniform radiation pattern even in a near-field measurement.例文帳に追加

測定時間の短縮化や近傍界測定においても均一な放射パターンによる測定が可能な放射ＥＭＩ測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide reproducible measuring results and minimize the number of all heat sources present within a measuring region of a measuring device in the measuring device for measuring a pattern of substrates having different thickness.例文帳に追加

異なる厚さの基板のパターンを測定するための測定器において、再現可能な測定結果を提供し、その際測定器の測定領域内にあるすべての熱源をできるだけ少なくするようにする。 - 特許庁

BODY WITH PATTERN, POSITION MEASURING DEVICE, STAGE DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE, METHOD FOR MEASURING POSITION, AND EVALUATING METHOD例文帳に追加

パターン付き物体、位置計測装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法、位置計測方法、評価方法 - 特許庁

The management of the rugged step difference amount after the CMP treatment can also be performed by the measuring pattern and the AFM measuring unit.例文帳に追加

なお、ＣＭＰ処理後の凹凸段差量の管理も、測定パターンとＡＦＭ測定装置によって行うことができる。 - 特許庁

To provide a speed pattern adjusting method and adjusting device for the speed pattern, capable of easily adjusting the speed pattern without a complicated measuring device.例文帳に追加

複雑な計測器等を要せず、容易に速度パターン調整をすることができるモータ駆動軸の速度パターン調整方法、同調整装置を提供する。 - 特許庁

Whether mask pattern data are right or not is verified by comparing the L/S obtained by measuring a dimension in each line pattern group with a L/S pattern specification table.例文帳に追加

各線パターン集合を測長して得られるＬ／Ｓと、Ｌ／Ｓパターン仕様テーブルと、を比較することによって、マスクパターンデータが正しいかどうかを検証する。 - 特許庁

The method for evaluating the semiconductor device comprises a step of previously disposing a measuring pattern of the same configuration as that of the circuit pattern of a chip at an arbitrary place of the semiconductor wafer.例文帳に追加

予め、半導体ウェーハの任意の場所にチップの回路パターンと同じ構成の測定パターンを配置する。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING PATTERN ALIGNMENT ACCURACY, METHOD OF FORMING PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE例文帳に追加

パターンの位置合わせ精度計測方法、パターン形成方法、半導体装置の製造方法並びに電気光学装置 - 特許庁

After the mask is produced (step ST1), the pattern position of the mask and flatness in measuring of the pattern position is measured (step ST2).例文帳に追加

マスク作製後（ステップＳＴ１）、マスクのパターン位置と、パターン位置の測定時における平面度を測定する（ステップＳＴ２）。 - 特許庁

The impedance of the test pattern 62 is measured by a measuring instrument connected to the probe A.例文帳に追加

プローブＡと接続される計測器でテストパターン６２のインピーダンスを測定する。 - 特許庁

ACCURACY MEASURING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY APPARATUS例文帳に追加

精度測定パターン、表示パネルの製造方法および表示装置の製造方法 - 特許庁

To realize a speedy and accurate pattern measuring method superior in measurement reproducibility.例文帳に追加

高速かつ高精度で測定再現性に優れたパターン測定方法を提供する。 - 特許庁

A pattern projection part 120 projects annular patterns to the measuring object 240.例文帳に追加

パターン投影部１２０は、計測対象２４０に対して、円環パターンを投影する。 - 特許庁

APPARATUS FOR MEASURING MASS DEVIATION OF DROPLETS, METHOD FOR MEASURING MASS DEVIATION OF DROPLETS USING THE SAME, PATTERN FORMING SYSTEM USING THE SAME, AND METHOD OF CONTROLLING PATTERN FORMING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

液滴質量偏差測定装置、その液滴質量偏差測定方法、これを用いるパターン形成システム、及びこれを用いるパターン形成システムの制御方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING MASK PATTERN SHAPE, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

マスクパターン形状計測装置及びマスクパターン形状計測方法並びに記録媒体 - 特許庁

In this measuring method, a signal curve relating to an image of a measuring object pattern and signal curves of images of other patterns 32, 33 to be confused with the measuring object pattern are previously stored by manual focusing.例文帳に追加

予め、手動の焦点合わせにより、測定対象パターン３１の画像に係る信号曲線、及び測定対象パターンと紛らわしい他のパターン３２，３３の画像に係る信号曲線を記憶しておく。 - 特許庁

In a control image pattern distortion, a plurality of measuring structures 211 are provided as a mask, and are plotted on a measuring device 150.例文帳に追加

制御画像パターン歪みにおいて、複数の測定構造２１１がマスクに提供され、測定器１５０上に描画される。 - 特許庁

The plurality of unit pixel patterns are arranged in an array form so that the distance-measuring pixel of a unit pixel pattern and that of an adjacent distance-measuring pixel are next to one another.例文帳に追加

該単位ピクセル・パターンは、隣接する単位ピクセル・パターンと、距離測定ピクセルとが互いに隣接するように配される。 - 特許庁

To provide a minute pattern measuring method which precisely measures trails of the bottom part of a minute structure pattern by using a CD-SEM; and to provide a minute pattern measuring device.例文帳に追加

微細構造体パターンのボトム部の裾引きをＣＤ−ＳＥＭを用いて、微細構造体パターンのボトム部の裾引きを精度良く測定することができる微細パターン測定方法及び微細パターン測定装置を提供すること。 - 特許庁

This size measuring device is used for measuring the size of the semiconductor device having the first pattern comprising repeated structure and the linear second pattern formed across the repeated structure over the first pattern.例文帳に追加

繰り返し構造からなる第１のパターンと、第１のパターンの上に繰り返し構造を跨いで形成された線状の第２のパターンと、を有する半導体装置の寸法測定に用いられる寸法測定装置である。 - 特許庁

When a pattern forming part 11 decides that a power is turned on, a pattern for measuring is formed on a transfer belt 33 by reading color shift measuring pattern information from memory 5 and controlling an image forming unit 2.例文帳に追加

パターン形成部１１は電源が投入されたと判定した場合、色ずれ測定用パターン情報をメモリ５から読み出し画像形成ユニット２を制御して転写ベルト３３に測定用パターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a resolution-measuring apparatus, a resolution-measuring sheet and a resolution-measuring program for automatically extracting the image of a resolution-measuring pattern from an image of the resolution-measuring sheet imaged by an imaging apparatus.例文帳に追加

撮像装置により撮像された解像度測定用シートの画像から解像度測定用パターンの画像を自動的に、且つ高精度に抽出できる解像度測定装置、解像度測定用シート及び解像度測定プログラムを提供する。 - 特許庁

TRAVEL MEASURING SYSTEM AND APPARATUS USING GRANULAR DOT PATTERN BY LASER REFLECTED LIGHT例文帳に追加

レーザ反射光による粒状斑点模様を利用した移動量測定方式とその装置 - 特許庁

THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING METHOD AND APPARATUS USING COLOR PATTERN LIGHT PROJECTION例文帳に追加

カラーパターン光投影を用いた三次元形状計測法および三次元形状計測装置 - 特許庁

EXPOSURE METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK PATTERN, AND METHOD FOR MEASURING POSITIONAL DISPLACEMENT例文帳に追加

露光方法、半導体装置の製造方法、マスクパターンおよび位置ずれ測定方法 - 特許庁

LINE WIDTH MEASUREMENT FOR WIRING PATTERN OF SEMICONDUCTOR ELEMENT AND LINE WIDTH MEASURING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

半導体素子の配線の線幅測定パターン及びこれを利用した線幅測定方法 - 特許庁

IMAGE PROCESSING METHOD IN GRID PATTERN PROJECTION METHOD, MEASURING DEVICE AND IMAGE PROCESSING DEVICE例文帳に追加

格子パターン投影法における画像処理方法、計測装置及び画像処理装置 - 特許庁

FINE APERIODIC PATTERN PROJECTION DEVICE AND METHOD AND THREE-DIMENSIONAL MEASURING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

微細非周期パターン投影装置および方法とそれを用いた三次元計測装置 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING CHARACTERISTICS OF HIGH-FREQUENCY CIRCUIT, PATTERN FOR CALIBRATION, AND FIXTURE FOR CALIBRATION例文帳に追加

高周波回路の特性測定方法及び校正用パターンならびに校正用治具 - 特許庁

A length measuring device 101 measures the distance between the position detection marks 22 for each drawn pattern.例文帳に追加

測長装置１０１は描画パターン毎に位置検出用マーク２２間を測定する。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING MISALIGNMENT BETWEEN TOP AND BACK PATTERN OF DOUBLE-FACE MASK, AND METHOD FOR PREPARING DOUBLE-FACE MASK例文帳に追加

両面マスクの表裏パターンずれの測定方法および両面マスクの作成方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR MASK, PATTERN SIZE MEASURING INSTRUMENT, MASK DEFECT CORRECTING DEVICE AND WAFER TRANSFER DEVICE例文帳に追加

半導体マスク、パターン寸法測定装置、マスク欠陥修正装置およびウェーハ転写装置 - 特許庁

SEMICONDUCTOR ELEMENT HAVING PATTERN FOR MEASURING RESISTANCE OF CONDUCTIVE PLUG AND PROCESS EVALUATION METHOD例文帳に追加

導電性プラグ抵抗測定用パターンを有する半導体素子およびプロセス評価方法 - 特許庁

APPARATUS FOR MEASURING WIDTH OF PATTERN STRUCTURE ON MASK OR SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR INDUSTRY例文帳に追加

半導体産業用のマスクないし基板上のパターン構造の幅を測定する装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING DIMENSION OF CIRCUIT PATTERN BY USING SCANNING ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

走査型電子顕微鏡を用いた回路パターンの寸法計測装置およびその方法 - 特許庁

BONE TRABECULAR INDEX SETTING METHOD AND BONE DENSITY MEASURING METHOD USING BONE TRABECULAR PATTERN例文帳に追加

骨小柱パターンを利用した骨小柱指標設定方法および骨密度測定方法 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING POSITION OF PATTERN ON FRONT AND BACK FACE OF SUBSTRATE AND MEASUREMENT APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

基板表裏面パターン位置測定方法及びその方法を用いた測定装置 - 特許庁

A film thickness measurement algorithm is selected according to the size of the measuring object pattern.例文帳に追加

また、被計測対象のパターンの大きさによって、膜厚計測アルゴリズムを選択する。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING STATE OF PATTERN-DRAWING IN VARIABLE AREA TYPE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加

可変面積型荷電粒子ビーム描画装置におけるパターン描画状態測定方法 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING POSITION OF EDGE OF PATTERN ELEMENT ON SUBSTRATE, AND MEASURING DEVICE例文帳に追加

基板上のパターン要素のエッジをポジション決定するための方法および測定装置 - 特許庁

MEASURING METHOD OF ALIGNING ACCURACY OF PATTERN, FORMING METHOD OF PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターンの位置合わせ精度測定方法、パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、半導体装置の製造方法 - 特許庁

To surely detect a pattern when measuring a three-dimensional shape by projecting the projection pattern having a plurality of levels.例文帳に追加

複数レベルの投影パターンを投影して３次元形状を測定する際に、パターン検出を確実に行なえるようにする。 - 特許庁

To provide a wiring pattern and a measuring method therefor by which a pattern formed on the back of a semiconductor wafer is easily measured.例文帳に追加

半導体基板の裏面に形成されたパターンの測定が容易にできる配線パターンとその測定方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND INSTRUMENT FOR FINE PATTERN MEASUREMENT, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM STORED WITH FINE PATTERN MEASURING PROGRAM例文帳に追加

微細パターン測定方法、微細パターン測定装置、及び微細パターン測定プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

ALIGNMENT-MARK POSITION MEASURING METHOD, PATTERN EXPOSURE SYSTEM, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PLANT, AND PATTERN EXPOSURE SYSTEM MAINTAINING METHOD例文帳に追加

アライメントマーク位置計測方法、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 - 特許庁