「pattern measuring」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for inspecting a pattern highly accurately measuring a positional relationship between upper and lower layers even when a lower-layer pattern cannot be determined from the top of an upper-surface pattern.例文帳に追加

下層パターンを上面パターン上から判別できない場合であっても、上下層の位置関係を高精度に測定可能なパターン検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern size measuring method which can accurately measure the pattern size of a photomask even though its pattern shape is complicated like a next-generation photomask.例文帳に追加

フォトマスクのパターン寸法をパターン形状が次世代フォトマスクのように複雑な形状であっても精度良く測定することのできるパターン寸法測定方法を提供する。 - 特許庁

To directly guarantee mask accuracy within a device pattern forming region, by directly measuring the pattern accuracy on the mask within the device pattern forming region.例文帳に追加

マスク上のパターン精度をデバイスパターン形成領域内で直接測定することにより、デバイスパターン形成領域内のマスク精度を直接保証することを目的とする。 - 特許庁

This measuring instrument acquires image data as to a first graphic pattern and a second graphic pattern concerned in a single measuring object, and extracts respectively the feature portion of the first graphic pattern and the feature portion of the second graphic pattern from the image data.例文帳に追加

この計測装置では、単一の計測対象にかかる第一図形パターンおよび第二図形パターンについて画像データがそれぞれ取得され、これらの画像データから第一図形パターンの特徴部分および第二パターンの特徴部分がそれぞれ抽出される。 - 特許庁

TOOL FOR MEASURING PARTS DIFFICULT TO BE MEASURED IN MEASURING DIMENSIONS OF PARTS OF BODY NECESSARY FOR DRAWING CLOTHING, AND BODY FITTING PATTERN ALONG BODY FROM BODY TO HIP LINE, AND TIGHT PATTERN OF SLEEVE例文帳に追加

衣服の製図に必要な体の各所の寸法で、計測しにくい部分を計測する計測器と、身頃からヒップラインまで体に添わせた身頃フィット原型と袖のタイト原型。 - 特許庁

To provide a transmittance measuring instrument capable of accurately measuring the film transmittance of a fine pattern (e.g., a fine light-semitransmitting film pattern formed on a transparent substrate).例文帳に追加

微細パターン（例えば、透明基板上に形成された微細な半透光膜パターン）の膜透過率を正確に測定可能な透過率測定装置を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

To provide a method of measuring a pattern shape precisely measuring the shape of a semiconductor pattern even if a process margin is narrower for miniaturization of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの微細化に対して、プロセスマージンが狭小な場合でも半導体パターンの形状計測を高精度で行うことができるパターン形状計測方法を提供する。 - 特許庁

To provide a displacement measuring method for measuring a quantity of a displacement near a location where a periodic pattern is molded, and a method and an apparatus for manufacturing a periodic pattern sheet.例文帳に追加

周期的パターンが成型される地点の近くで、位置ずれ量を計測することができる位置ずれ計測方法、周期的パターンシートの製造方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern dimension measuring method for accurately measuring the shrinkage quantity of a pattern to be shrunken and original dimension values before the shrinkage, and to provide a charged particle beam device.例文帳に追加

本発明は、シュリンクするパターンのシュリンク量、シュリンク前のもとの寸法値を正確に測定するパターン寸法測定方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。 - 特許庁

Consequently, the area of the rotor plate 11 can be utilized effectively in the pattern 21 for measuring the angle, and the CCD 13 can be also utilized effectively in the pattern 21 for measuring displacement.例文帳に追加

したがって、回転板１１の面積を、角度を測定するためのパターン２１で有効活用でき、また、ＣＣＤ１３も変位を測定するためのパターン２１で有効活用できる。 - 特許庁

To provide a temperature measuring device capable of accurately measuring the temperature difference between a region where a pattern to be transferred is formed and a region where the pattern is not formed.例文帳に追加

転写されるべきパターンが形成されている領域とパターンが形成されていない領域との間の温度差を正確に測定することができる温度測定装置を提供する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MEASURING AND EVALUATING FORM OF MASK PATTERN AND RECORDING MEDIUM RECORDING FORM MEASURING AND EVALUATING PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン形状計測評価装置および形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

The measuring point position calculation part calculates the position of the measuring point in each display image based on the reference pattern in the imaging range.例文帳に追加

測定点位置算出部は、撮像範囲内の基準パターンを基準に、各表示画像内における測定点の位置を算出する。 - 特許庁

To provide a dimension measuring pattern, a formation method therefor and a dimension measuring method by which, when the dimension measuring pattern wherein the same formation patterns are periodically arranged is measured by using a charged particle beam, a designated specific pattern can be measured without fail.例文帳に追加

同一形状パターンが周期的に配列された寸法測定パターンを荷電粒子線を用いて測定する際に、指定された特定のパターンを確実に測定することができる、寸法測定パターン、当該寸法測定パターンの形成方法、および寸法測定パターンの測定方法を提供する。 - 特許庁

Based on results of imaging in a specific plurality of measuring ranges being on a straight line, on an L/S pattern extracted from results P of imaging of a mark as a measuring pattern, a representative point of each measuring range is detected.例文帳に追加

計測用パターンとしてのマークの撮像結果Ｐから抽出された、Ｌ／Ｓパターン上において、直線上に並ぶ特定の複数の計測範囲内の撮像結果に基づいて、それぞれの計測範囲の代表点を検出する。 - 特許庁

The stabilizing means 28 is electrically connected to the second voltage measuring terminal 25, and stabilizes the voltages of the second voltage measuring terminal 25 and the contact part of the wiring pattern 29 with the measuring pattern 25.例文帳に追加

電圧安定手段２８は、第２の電圧計測端子２５に電気的に接続され、その第２の電圧計測端子２５及び配線パターン２９の電圧計測端子２５との接触部の電圧を安定させるようになっている。 - 特許庁

To provide a pattern direction measuring apparatus which can measure the direction of a L/S pattern formed on a resist without exposing the resist.例文帳に追加

例えばレジストを感光させることなく、レジストに形成されたＬ／Ｓパターンの方向を測定することのできる方向測定装置。 - 特許庁

Then, the reflective mask is used to form a pattern on a substrate corresponding to the oblique incidence effect measuring pattern.例文帳に追加

そして、前記反射型マスクを用いて、前記斜入射効果測定用パターンに対応する基板上パターンを基板上に形成する。 - 特許庁

To achieve high-accuracy pattern formation by preliminarily measuring warpage of a substrate and forming a pattern complying with the amount of warpage in the process of manufacturing a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの製造で、基板のそり事前に測定し、そり量に応じたパターンを作成し、高精度なパターン作成を実現する。 - 特許庁

To generate a more suitable pattern as a floodlight pattern to a measuring object for executing stereo correspondence in a stereo method.例文帳に追加

ステレオ法におけるステレオ対応づけのために計測対象に対して投光するパターンとして、より適切なパターンの生成を実現する。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING DISCHARGE QUANTITY OF DROPLET DISCHARGE DEVICE, PATTERN FILM FORMING MEMBER, METHOD OF MANUFACTURING PATTERN FILM FORMING MEMBER, ELECTROOPTIC DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

液滴吐出装置の吐出量測定方法、パターン膜形成部材、パターン膜形成部材の製造方法、電気光学装置、電子機器 - 特許庁

A rectangular pattern 14 is connected to a line and space pattern 42 having a width not separately resolved by a stepper or an optical length measuring instrument.例文帳に追加

矩形パターン４１は，ステッパあるいは光学測長機で分離解像しない幅を有するラインアンドスペースパターン４２と接合している。 - 特許庁

To provide a positional misalignment measuring method of a substrate front/back surface pattern using an opening pattern capable of observing a positional misalignment of the substrate front/back surface pattern on a comparatively thick substrate such as a photomask substrate by a simple measuring system.例文帳に追加

簡単な測定系によってフォトマスク基板などの比較的厚い基板の、基板表裏面パターンの位置ずれを観測することができる開口パターンを用いた基板表裏面パターンの位置ずれ測定方法を提供する。 - 特許庁

This resist pattern measuring method acquires two resist pattern images, measures an inner dimension and an outer dimension of the resist pattern in each resist pattern image, determines which resist pattern is the remaining part (line pattern) or the cut-out part (space pattern), by comparing measured values, and calculates the shrinkage amount, based on a difference between the measured values.例文帳に追加

２枚のレジストパターン画像を取得し、各レジストパターン画像においてレジストパターンの内側寸法と外側寸法を測定し、測定値の比較によってレジストパターンが残し部（Ｌｉｎｅパターン）と抜き部（Ｓｐａｃｅパターン）のどちらであるかを判定するとともに、測定値の差分からレジストのシュリンク量を算出する。 - 特許庁

Within a scribe line 13, a dummy pattern 14 is formed in the vicinity of an overlap accuracy measuring mark comprising a first layer pattern 11 formed on a semiconductor substrate and a second layer pattern 12 as a resist pattern and, as the result, the resist pattern 10 in the vicinity of the overlap accuracy measuring mark is arranged to be symmetrical to the overlap accuracy measuring mark.例文帳に追加

スクライブライン１３内において、半導体基板上に形成された第１層のパターン１１とレジストパターンで形成される第２層のパターン１２とからなる重ね合わせ精度測定マークの周辺にダミーパターン１４を形成することにより、重ね合わせ精度測定マークの周辺のレジストパターン１０を重ね合わせ精度測定マークに対して対称に配置する。 - 特許庁

PATTERN FORMING MEMBER, SYNCHRONOUS ACCURACY MEASURING METHOD, ALIGNING METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND ALIGNER例文帳に追加

パターン形成部材、同期精度計測方法、露光方法及びデバイス製造方法、並びに露光装置 - 特許庁

To form a wiring pattern having a desired line width without measuring a film thickness distribution of a resist.例文帳に追加

レジストの膜厚分布を測定することなく、所望の線幅の配線パターンを形成する。 - 特許庁

To reduce the influences of pattern noises in a frequency measuring apparatus of a short-gate time counting system.例文帳に追加

短ゲートタイムカウント方式の周波数測定装置においてパターン雑音の影響を低減する。 - 特許庁

To reduce the effect of pattern noise in a frequency measuring device of a short-gate time counting system.例文帳に追加

短ゲートタイムカウント方式の周波数測定装置において、パターン雑音の影響を低減する。 - 特許庁

The present invention has characteristics wherein a tailing inspection pattern 6 is provided with a scale 7 for measuring the tailing length.例文帳に追加

本発明は、尾引き検査パターン６に尾引きの長さ測定用の目盛り７を設ける。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING THREE-DIMENSIONAL SHAPE AND DIMENSION OF FINE PATTERN IN SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェハの微細パターンの寸法及び３次元形状測定方法とその測定装置 - 特許庁

In this case, the structure has a resistor for measuring a voltage of the detection wiring pattern.例文帳に追加

その場合には、前記検出用配線の電位を測定するための抵抗を有する構成である。 - 特許庁

CODE ERROR MEASURING APPARATUS AND METHOD, PN PATTERN GENERATING APPARATUS AND METHOD, AND SYNCHRONIZATION APPARATUS例文帳に追加

符号誤り測定装置及び方法、ＰＮパターン発生装置及び方法並びに同期装置 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PHOTOMASK AND RESIST PATTERN, ALIGNMENT PRECISION MEASURING METHOD, MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスク、レジストパターンの形成方法、アライメント精度計測方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

PHOTOMASK, METHOD OF MEASURING FLARE OF EXPOSURE EQUIPMENT USING THE PHOTOMASK, AND METHOD OF CORRECTING MASK PATTERN例文帳に追加

フォトマスク、このフォトマスクを用いた露光装置のフレア測定方法及びマスクパターンの補正方法 - 特許庁

The detector detects brightness of a surface of the measuring object irradiated with the pattern light.例文帳に追加

検出部は、パターン光の照射された前記測定対象物の表面の明るさを検出する。 - 特許庁

To efficiently detect abnormalities such as disconnection, defective surface, vertical shape defects (such as furrowing) by forming a wiring pattern for measuring the dimension of the wiring pattern of a semiconductor device, measuring the electric resistance of the pattern, and evaluating the dimension of a pattern width using the resistance.例文帳に追加

半導体装置の配線パターンの寸法測定用の配線パターンを形成し、そのパターンの電気抵抗値の測定を行い、抵抗値でパターン幅の寸法を評価することにより、断線及び平面形状不良・垂直形状不良（くびれ等）の異常の検出を効率良く行う。 - 特許庁

Then, the pattern position is corrected by the portion of pattern displacement caused by the variation of the flatness from the time of measuring the pattern position to the posture in exposure to obtain the pattern position of the mask in the posture in exposure (step ST 5).例文帳に追加

そして、パターン位置の測定時から露光時の姿勢への平面度の変化に起因するパターン変位分だけパターン位置を補正して、露光時の姿勢におけるマスクのパターン位置を求める（ステップＳＴ５）。 - 特許庁

The inspection of pattern is carried out materially by measuring the deviation between both data through the comparison of the profile of pattern with the design data of CAD or the like or by operating the size or the like of the circuit pattern from the profile of pattern.例文帳に追加

パターン検査は、具体的には、パターンの輪郭とＣＡＤ等の設計データとを比較して両者のずれを計測したり、パターン輪郭から回路パターンの寸法等を算出することにより実行される。 - 特許庁

This measurement is performed by measuring an amplitude of a diffraction order of a diffraction pattern obtained from an interference between a pattern on a wafer level and a pattern projected on the pattern on the wafer level.例文帳に追加

この測定は、ウェーハ水準上のパターンと、ウェーハ水準上のパターンの上に投影されるパターンとの間の干渉から得られる回折模様の回折次数の振幅を測定することによって行われる。 - 特許庁

This misalignment measuring method is for measuring the misalignment by finding the misalignment measuring method optimum for a misalignment measuring machine when measuring the misalignment of a pattern formed on a body to be aligned, in a preprocess and the pattern to be transferred on the body to be aligned in a post process following the preprocess, by misalignment measuring marks provided on the respective patterns by using the misalignment measuring machine.例文帳に追加

本合わせずれ測定方法は、合わせずれ測定機を使って、前工程で被露光体上に形成されているパターンと、前工程に続く後工程で被露光体上に転写するパターンとの合わせずれをそれぞれのパターンに設けられた合わせずれ測定マークにより測定するに当たり、合わせずれ測定機に最適な合わせずれ測定手法を見い出して、合わせずれを測定する方法である。 - 特許庁

MEASURING METHOD OF CHARACTERISTICS DATA TO MULTILEVEL OPTICAL STORAGE-MEDIUM AND MULTILEVEL OPTICAL STORAGE- MEDIUM TO WHICH PATTERN FOR MEASURING THE CHARACTERISTICS DATA IS RECORDED例文帳に追加

マルチレベル光記録媒体に対する特性データの測定方法、並びに、特性データ測定用パターンが記録されたマルチレベル光記録媒体 - 特許庁

To reliably connect a lead pattern 2 at the side of a measuring machine of a contact probe sheet 10 for inspecting display panels to wiring at the side of the measuring machine.例文帳に追加

表示パネル検査用コンタクトプローブシート１０の測定機側におけるリードパターン２と測定機側の配線との確実な接続を実現する。 - 特許庁

This can eliminate the color measurement error at the measuring position in the color measuring pattern, with constant color reproduction on each device.例文帳に追加

これにより、測色パターンにおける測定位置の測色誤差を無くすことができるので、装置毎の色再現性を一定にすることができる。 - 特許庁

AUTOMATIC SHAPE MEASURING METHOD FOR PHOTOMASK PATTERN, ITS MEASURING INSTRUMENT AND PROGRAM, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD AS WELL AS MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトマスクパターン形状自動計測方法及びその装置及びそのプログラム及びフォトマスク製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁