「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(183ページ目) - Weblio英語例文検索

Consequently, the pattern forming system attains to properly form the pattern approximate to the grating form on the substrate 9 while discharging the pattern forming material from the plurality of the discharge openings.例文帳に追加

これにより、パターン形成材料を複数の吐出口から吐出しつつ基板９上に格子状に近いパターンを適切に形成することが実現される。 - 特許庁

The change gear ratio B or the change gear step pattern B, which is greater in a change gear step in comparison with the change gear ratio pattern A or the change gear step pattern A, is selected.例文帳に追加

そこで、変速比パターンＡあるいは変速段パターンＡに比較して変速比ステップが大きい変速比パターンＢあるいは変速段パターンＢを選択する。 - 特許庁

PATTERN DIMENSION MEASUREMENT DEVICE AND CONTOUR LINE FORMATION DEVICE例文帳に追加

パターン寸法測定装置及び輪郭線形成装置 - 特許庁

To eliminate fixed pattern display which is visually recognized and dynamic pattern display in which a stripe pattern is seen as flowing in a certain fixed direction in a display such as a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶ディスプレイなどのディスプレイにおいて、視覚的に認識される固定模様表示や、縞模様がある一定方向に流れるように見える動的模様表示を無くす。 - 特許庁

A conductive film pattern 310 is formed within the groove.例文帳に追加

このグルーブ内に導電膜パターン３１０を形成する。 - 特許庁

PATTERN DIMENSION MEASURING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加

パターン寸法測定方法、及び荷電粒子線装置 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN INSPECTION METHOD AND DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD FOR MASK例文帳に追加

パターン検査方法及びその装置、マスクの製造方法 - 特許庁

RESIST SURFACE TREATING AGENT COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト表面処理剤組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

A line object 01 having the prescribed thickness is moved to the periphery of a three-dimensionally displayed pattern 02(a) on a special pattern display device 6 in a special pattern game while hiding a part of the displaying pattern 02(a), and is renewed to a new pattern 02(b).例文帳に追加

特図ゲームにおける特別図柄表示装置６上の立体的に表示された図柄０２（ａ）の周囲に、所定の厚みを有するラインオブジェクト０１を、表示されている図柄０２（ａ）の一部を隠しつつ移動させることにより、新たな図柄０２（ｂ）への更新を行う。 - 特許庁

Further, a fourth insulating film 10 is deposited on the first insulating film pattern 9, a resist pattern is formed again, and spacer processing and anisotropic etching processing are performed to form a spacer part with the width F/2 on a line part of the first insulating film pattern 9 and form a line and spacer pattern with a pattern pitch F.例文帳に追加

更に、第１の絶縁膜パターン９上に第４の絶縁膜１０を堆積させ、再びレジストパターン形成、スペーサ加工、及び異方性エッチング処理を施すことで、第１の絶縁膜パターン９のライン部にＦ／２の幅のスペース部を形成してパターンピッチＦのラインアンドスペースパターンを形成する。 - 特許庁

The imprinting mold provides a large-opening recessed pattern to a substrate and provides a fine uneven pattern to the base of the large-opening recessed pattern.例文帳に追加

本発明のインプリントモールドは、基板に、大開口凹パターンが設けられ、前記大開口凹パターンの底面に微細な凹凸パターンが設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

A movable conductor pattern 7 is formed on the movable part 4.例文帳に追加

可動部４には可動導体パターン７を形成する。 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法及び表示装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DECIDING OXYGEN FEEDING FLOW RATE PATTERN IN CONVERTER DEPHOSPHORIZATION BLOWING例文帳に追加

転炉脱燐吹錬の送酸流量パターン決定方法 - 特許庁

A candidate detection section 12 detects a second abnormal tissue pattern candidate Clc, with which a first abnormal tissue pattern candidate Cmc overlaps, as a final abnormal tissue pattern candidate.例文帳に追加

候補検出部１２は、第１の異常陰影候補Ｃｍｃが重畳される第２の異常陰影候補Ｃｌｃを、最終的な異常陰影候補Ｃｉとして検出する。 - 特許庁

POLYMER, COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

When it is discriminated that the U key 20 is placed in the use position P2, the user set pattern F is read out in a step S36, and photographing is conducted by a function pattern of the user set pattern F in a step S38.例文帳に追加

判断が肯定された場合には、ステップＳ３６でユーザー設定パターンＦを読出し、ステップＳ３８で、ユーザー設定パターンＦの機能パターンで撮影を行う。 - 特許庁

In the user side sewing system 2, it is instructed for pattern editing (S10) and the server side computer 6 performs the editing processing of pattern data (pattern display data and pattern sewing data) concerning the embroidery pattern of the object to be sewed, which are read from the HD 78, based on the instruction (S29).例文帳に追加

ユーザ側縫製システム２で模様編集の指示を行うことができ（Ｓ１０）、サーバ側コンピュータ６では、その指示に基づいて、ＨＤ７８から読出された縫製対象の刺繍模様の模様データ（模様表示データと模様縫製データ）に編集処理（Ｓ２９）が施される。 - 特許庁

To provide a method and a pattern generating apparatus for writing a pattern on a surface of an object that is independent of any physical deformation that will occur upon writing a pattern.例文帳に追加

パターンを書き込む際に生じるあらゆる物理的変形に無関係に、オブジェクトの表面にパターンを書き込むための方法及びパターン生成装置を提供すること。 - 特許庁

This device is provided with a compression means for forming only the change portion from the previous pattern, while paying attention to a test pattern file used for a semiconductor test every pattern vector, to compress the test pattern file, and a memory means for storing the test pattern file compressed by the compression means.例文帳に追加

また、半導体の試験に使用するテストパターンファイルをパターンベクタ毎に着目し、前のパターンベクタからの変更分のみをファイル化して上記テストパターンファイルの圧縮を行う圧縮手段と、該圧縮手段で圧縮されたテストパターンファイルを記憶する記憶手段とを備える。 - 特許庁

Based on the pattern-matched measured pattern and the DIW pattern, correction factors of the first medical liquid, corresponding respectively to a plurality of measurement values, are calculated (step T14).例文帳に追加

パターンマッチングされた後の計測パターンと、ＤＩＷパターンとに基づいて、複数の計測値にそれぞれ対応する第１薬液の補正係数が演算される（ステップＴ１４）。 - 特許庁

Data indicating a mask pattern and a motion pattern are encoded and are multiplexed into one data, whereby a specific effect pattern followed by the deformation of an image is processed into a library.例文帳に追加

マスクパターンと動きパターンを表すデータを符号化し、一本のデータに多重化することにより、画像の変形を伴う特殊効果パターンのライブラリ化を行う。 - 特許庁

To obtain an ideal light distribution pattern by one lamp unit.例文帳に追加

１個のランプユニットで理想の配光パターンを得ること。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 - 特許庁

COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER例文帳に追加

パターンの形成方法およびカラーフィルタの製造方法 - 特許庁

To obtain a hole pattern having a round form by dry-etching a film to be etched using a hole pattern formed of a chemical amplification type resist as a mask in order to form the hole pattern.例文帳に追加

化学増幅型レジストによるホールパターンをマスクとしてドライエッチングを行って被エッチング膜によるホールパターンを形成し、丸型のホールパターン形状を得るようにする。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

パタン形成方法及び集積回路の製造方法 - 特許庁

The geometrical feature quantities of a temporary character pattern, which temporarily integrates those adjacent partial character patterns is obtained (S5) and an evaluation value of the temporary character pattern is calculated from the geometrical feature quantities of the temporary character pattern and statistical feature quantities of the partial character pattern included in the temporary character pattern (S6).例文帳に追加

それらの隣接する部分文字パターンを仮に統合した仮文字パターンの幾何学的特徴量を求め（Ｓ５）、仮文字パターンの幾何学的特徴量とその仮文字パターンに含まれる部分文字パターンの統計的特徴量から、仮文字パターンの評価値を算出する（Ｓ６）。 - 特許庁

A stripe pattern of the projector 10 is read out from a frame memory 110 to be written in a reference stripe pattern memory 111, and the written stripe pattern is corrected by recoding.例文帳に追加

投影装置１０のストライプパターンをフレームメモリ１１０から読み出して基準ストライプパターンメモリ１１１に書き込み、書き込んだストライプパターンを再コード化により補正する。 - 特許庁

A camera 200 photographs a calibration board 100 on which a standard position 101, a surrounding pattern 102, a center pattern 103 and an angle pattern 104 are formed from a specified position.例文帳に追加

カメラ２００は、基準位置１０１、包囲パターン１０２、中央パターン１０３および角パターン１０４が形成された校正用ボード１００を所定の位置から撮像する。 - 特許庁

To provide a servo pattern having a unique track identification.例文帳に追加

固有のトラック識別を有するサーボパターンを提供する。 - 特許庁

In the first processing, when the function of the base pattern is damaged by performing the resolution conversion of the judged base pattern data, the judged base pattern data is not subjected to resolution conversion.例文帳に追加

第１の処理は、判別した地紋データを解像度変換することによって地紋の機能が損なわれる場合には、判別した地紋データを解像度変換しない。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, LAYERED PRODUCT, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト組成物、積層体、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMATION DEVICE FOR CONDUCTIVE SUBSTRATE AND ITS METHOD例文帳に追加

導電基板へのパターン形成装置及びその方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND GLASS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びガラスパターンの形成方法 - 特許庁

A light-shielding pattern 15 is provided in a pattern formation inhibition region 19 and its circumference, the region where formation of an opening pattern is inhibited to prevent exposure light from intruding.例文帳に追加

遮光パターン１５は、露光光の回り込みを防止するために開口パターンの形成が禁止されたパターン形成禁止領域１９、及びその周囲に設けられている。 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

The resist is then completely developed to obtain a resist pattern 8.例文帳に追加

その後、レジストを完全に現像し、レジストパターン８を得る。 - 特許庁

COPPER FOIL FOR FINE PATTERN PRINTED CIRCUIT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

ファインパターンプリント配線用銅箔とその製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FORMING DISTRIBUTION PATTERN OF EMISSION COLOR例文帳に追加

発光色分布パターン形成方法及びその装置 - 特許庁

PRINTER SYSTEM AND PATTERN FORMING METHOD USING THAT例文帳に追加

印刷装置システム及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The center device 4 converts the pattern code to a pattern code adapted to a receiver side portable terminal 2 and transmits the pattern code after the conversion to the portable terminal 2.例文帳に追加

センタ装置４は、パターン符号を受信側携帯端末装置２に適合するパターン符号に変換し、変換後のパターン符号を携帯端末装置２へ送信する。 - 特許庁