patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
Because both surfaces of the substrate 20 are used, the density of the pattern implementation on the substrate 20 can be improved.例文帳に追加
基板20の両面を利用するため、基板20へのパターン実装密度を向上させることができる。 - 特許庁
To efficiently create a trouble message pattern with high trouble detection accuracy, in a short time.例文帳に追加
障害検知精度の高い障害メッセージパターンを短時間で効率的に生成することを課題とする。 - 特許庁
To provide a resist composition which enables a resist pattern having superior line edge roughness to be formed.例文帳に追加
優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an electroluminescent element having high quality and high fine pattern without possibility of remaining of a solvent or the like.例文帳に追加
溶媒などの残存の虞がなく、高品質で高微細パターンを有する電界発光素子を得る。 - 特許庁
At this point, the average number of data items to be read by antenna is calculated (S25) and the read pattern is normalized (S27).例文帳に追加
このとき、アンテナ毎の平均読取枚数を計算し(S25)、読取パターンの正規化を行う(S27)。 - 特許庁
Meanwhile, at a masking unit B a random mask pattern is used and masking is performed with respect to 5 pl dot data.例文帳に追加
一方、5plのドットデータについては、マスク処理Bでランダムマスクパターンを用いてマスク処理を行う。 - 特許庁
The control device 24 displays a display object corresponding to pattern of a ready-to-win state upon generation of the REACH state.例文帳に追加
制御装置24は、リーチ状態発生に際し、リーチパターンに対応した表示対象を表示する。 - 特許庁
To provide a case of an electronic device having an antenna pattern frame embedded therein, mold therefor and method of manufacturing the same.例文帳に追加
アンテナパターンフレームが埋め込まれる電子装置ケース、その製造金型及び製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image processor or the like capable of appropriately extracting a blood vessel pattern at a desired depth position.例文帳に追加
所望の深さ位置の血管パターンを適切に抽出可能な画像処理装置等を提供する。 - 特許庁
The rotational speed pattern ω1ref of the input shaft is calculated again based on the corrected slip ratio slip.例文帳に追加
この修正された滑り率slipに基づき入力軸の回転ン速度パターンω1refを再算出する。 - 特許庁
To provide a substrate drying method capable of preventing the occurrence of a watermark and pattern collapse.例文帳に追加
ウォータマークの発生およびパターンの倒壊を抑制することが可能な基板の乾燥方法を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle-containing structure in which nano-scale charged particles are arrayed in a specific pattern.例文帳に追加
ナノスケールの荷電粒子が特定のパターンに配列した荷電粒子含有構造体を提供する。 - 特許庁
To provide an inkjet head which permits resolution to be increased by forming a conductor pattern at a small pitch.例文帳に追加
狭いピッチで導体パターンを形成して高解像度化を図ることができるインクジェットヘッドを提供する。 - 特許庁
To provide a solid-state image pickup device for correcting vertical fixed pattern noise precisely without increasing the size.例文帳に追加
大型化を招くことなく、縦線固定パターンノイズを精度良く補正する固体撮像装置を提供する。 - 特許庁
An execution unit 314 executes the performance using the performance pattern selected by the selection unit 313.例文帳に追加
実行部314は、選択部313によって選択された演出パターンを用いて演出を実行する。 - 特許庁
A concentric pattern 52 with a rotational center BC as the center thereof is displayed on the upper side 16 of the spin base 6.例文帳に追加
スピンベース6の上面16に、回転中心BCを中心とする同心円パターン52が表れる。 - 特許庁
The CS signal generation section 8 provides the CS signal having the pattern determined by the CS signal determination section 7 to the auxiliary capacitance.例文帳に追加
CS信号生成部8はCS信号決定部7が決定したパターンのCS信号を与える。 - 特許庁
To provide a rotary atomization type coating device which can increase the diameter of a coating pattern compared with a conventional coating device.例文帳に追加
従来よりも塗装パターン径を大きくすることができる回転霧化式塗装装置を提供する。 - 特許庁
To provide a sample separation and suction instrument, providing a sample suction pattern of high resolving power.例文帳に追加
分解能の高いサンプル吸着パターンを得ることができるサンプル分離吸着器具を提供する。 - 特許庁
To provide a display plate configured to freely combine patterns, and freely change the pattern as a whole.例文帳に追加
絵柄を自由に組み合わせることができ、全体の絵柄を自由に変更し得る、表示板を提供する。 - 特許庁
Special performance is made to be executed during the variation in which the small winning special variation pattern is used.例文帳に追加
小当たり特殊変動パターンが用いられる変動中に、特殊演出を実行可能にする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a metal copper film, wherein there is little deposition of copper on an unnecessary part, and to provide a metal copper pattern.例文帳に追加
銅フリの発生が少ない、金属銅膜の製造方法及び金属銅パターンを提供する。 - 特許庁
REFERENCE PATTERN DETERMINATION METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR, POSITION DETECTION METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR, AND EXPOSURE METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR例文帳に追加
基準パターン決定方法とその装置、位置検出方法とその装置、及び、露光方法とその装置 - 特許庁
CREATION METHOD OF REFERENCE PATTERN INFORMATION, POSITION MEASURING METHOD, POSITION MEASURING DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
基準パターン情報の作成方法、位置計測方法、位置計測装置、露光方法、及び露光装置 - 特許庁
The receiving device can then form the repeating pattern of data words in response to receipt of the representation.例文帳に追加
次いで、受信デバイスは、表示の受信に応じて、データワードの繰り返しパターンを構成することができる。 - 特許庁
To provide a web joining device capable of easily conducting web joining work containing pattern fitting.例文帳に追加
絵柄合わせを含むウェブつなぎ作業を容易に行うことを可能とするウェブつなぎ装置を提供する。 - 特許庁
On the surface, on which the unevenness pattern is formed, of the prototype 11, a carbon layer 2 consisting of graphite and the like is formed.例文帳に追加
当該原型11の凹凸パターン形成面にグラファイトなどからなるカーボン層2を形成する。 - 特許庁
To form an isolated pattern such as a contact hole in high resolution with an enough depth of focus.例文帳に追加
コンタクトホールのような孤立的なパターンを、良好な解像度で且つ十分な焦点深度で形成する。 - 特許庁
The rear of a semiconductor wafer W is coated with a resist, and a pattern is formed by carrying out an exposure/a developing.例文帳に追加
半導体ウェーハWの裏面にレジストを塗布し、露光・現像を施してパターンを形成する。 - 特許庁
An FIB induction deposition material is deposited along the pattern edge on the CAD adjacent to the black defect part.例文帳に追加
黒欠陥部に隣接するCAD上のパターンエッジに沿ってFIB誘導成膜物を成膜する。 - 特許庁
To provide technology by which a printing result is enhanced when a density pattern method is used.例文帳に追加
濃度パターン法を利用する場合の印刷結果を向上させることのできる技術を提供する。 - 特許庁
A check land 15 is formed in a part of the conductor pattern 14 extended onto the upper surface of the substrate 10.例文帳に追加
基板10の上面に延設した導体パターン14の一部にチェックランド15が形成されている。 - 特許庁
A camera 23 acquires an image of a detection pattern 21 provided on a mask 2 and outputs an image signal.例文帳に追加
カメラ23は、マスク2に設けた検出用パターン21の画像を取得して、画像信号を出力する。 - 特許庁
The development is further carried out to completely remove the auxiliary line patterns 4 to thereby form the line pattern 3.例文帳に追加
現像をさらに進めることにより、補助ラインパターン4を完全に除去してラインパターン3を形成する。 - 特許庁
To provide a new positive resist composition suitable for use in lithography and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加
リソグラフィー用途に好適で新規なポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
The reception part 301 of a performance control part 202a receives special pattern variation information from a main control part.例文帳に追加
演出統括部202aの受信部301は、主制御部から特図変動情報を受信する。 - 特許庁
The mark layer 13 is preferably a laminated layer in a shape selected from a character, a sign, and a pattern.例文帳に追加
標識層13を文字、記号、模様から選ばれる形状に積層したものであることが好ましい。 - 特許庁
A flattened insulating film 19 is formed on the underlayer insulating film 5 including the wiring pattern 11.例文帳に追加
配線パターン11上を含む下地絶縁膜5上に平坦化された絶縁膜19を形成する。 - 特許庁
A pattern display processing unit 213 divides a captured image into a plurality of areas and creates a histogram for each area.例文帳に追加
パターン表示処理部213は、撮像画像を複数のエリアに分割し、エリア毎にヒストグラムを作成する。 - 特許庁
To provide a resist composition which provides a pattern having an excellent line width roughness (LWR).例文帳に追加
優れたラインウィズスラフネス(LWR)を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
The stylus pen 1 includes a projection and a pattern structure is arranged on the inner face of the storage device 10.例文帳に追加
スタイラスペン1は1つの突起を有し、収納装置10の内面にはパターン構造が設けられる。 - 特許庁
A matrix section 20 is arranged with a plurality of movable units in the row direction and the column direction in a matrix pattern.例文帳に追加
マトリクス部20には、可動単位が、マトリクス状に行方向および列方向に複数配列される。 - 特許庁
The specifying section 22c specifies an appearance pattern of the phenomenon accompanying violation operation in the specified managing point.例文帳に追加
特定部22cは、特定管理点における違反操作に伴う事象の出現パターンを特定する。 - 特許庁
To provide a resist composition capable of preparing a resist pattern excellent in sensitivity.例文帳に追加
感度が良好なレジストパターンを作製することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a high-speed metrology tool for measuring a parameter of a substrate, where a pattern is provided in a lithographic apparatus.例文帳に追加
リソグラフィ装置内でパターン付けされた基板のパラメータを測定する高速メトロロジーツールを提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a phase shift mask, capable of contributing to fineness and high accuracy of a circuit pattern.例文帳に追加
回路パターンの微細化や高精度化に貢献し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
The pretreatment section and the post-treatment section are disposed on a lower layer relative to a position wherein the droplet ejection head draws a pattern.例文帳に追加
前処理部及び後処理部は、液滴吐出ヘッドの描画位置より下層に配置される。 - 特許庁
The three or more line segments included in the captured test pattern image have an inclination relative to a predetermined line.例文帳に追加
撮像テストパターン画像に含まれる3つ以上の線分は、所定ラインに対して傾きを有する。 - 特許庁
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