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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > patterned layerに関連した英語例文

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patterned layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1139



例文

When the mask comprising a resist layer is formed on the film to be patterned, a layered resist pattern containing a lower layer resist pattern 111 and an upper layer resist pattern 112 is formed on the film 102 to be patterned.例文帳に追加

被パターニング膜上にレジスト層でなるマスクを形成するにあたり、被パターニング膜102上に、下層レジストパターン111と、上層レジストパターン112とを含む積層レジストパターンを形成する。 - 特許庁

A heat accumulating layer 302 and an inter-layer film 303 are laminated on a substrate 301, with a resistor layer 304 and a wiring 305 patterned.例文帳に追加

基板301に蓄熱層302と層間膜303が積層され、抵抗層304と配線305とがパターニングされている。 - 特許庁

The gate insulating layer pattern is patterned at the same time with any one of the polycrystalline silicon layer pattern or the first conductive layer pattern.例文帳に追加

ゲート絶縁膜パターンは、多結晶シリコン層パターンおよび第1導電膜パターンのうちのいずれか1つと共にパターニングされる。 - 特許庁

By the double pattern formed on the photoresist layer, the carbonaceous mask layer and another optional non-photosensitive intermediate layer are patterned (250).例文帳に追加

フォトレジスト層に形成された二重パターンによって、炭素質マスク層ならびに任意の他の非感光性中間層がパターニングされる(250)。 - 特許庁

例文

The polysilicon layer is patterned according to a plasma etching process using the resist layer 18A as a mask to obtain a polysilicon layer 16A for an electrode.例文帳に追加

レジスト層18Aをマスクとするプラズマエッチング処理によりポリシリコン層をパターニングしてゲート電極用ポリシリコン層16Aを得る。 - 特許庁


例文

A copper foil 1 (main conductor layer) has a nickel plating layer 3 on the whole surface of one side and a patterned nickel plating layer 2 on the surface of the opposite side, and has a copper plating layer 5 (base layer conductor layer) on the surface of the nickel plating layer 3.例文帳に追加

銅箔1(主導体層)の片面全面にニッケルめっき3を施すとともにその反対面にパターン付きのニッケルめっき2を施し,ニッケルめっき3の表面に銅めっき5(基層導体層)を形成する。 - 特許庁

A copper foil 1 (main conductor layer) has a nickel plating layer 3 on the whole surface of one side and a thicker patterned tin plating layer 2 on the surface of the opposite side, and has a copper plating layer 5 (base layer conductor layer) on the surface of the nickel plating layer 3.例文帳に追加

銅箔1(主導体層)の片面全面にニッケルめっき3を施すとともにその反対面にパターン付きのスズめっき2を施し,ニッケルめっき3の表面に銅めっき5(基層導体層)を形成する。 - 特許庁

PRODUCTION METHOD FOR LAMINATE HAVING PATTERNED METAL FILMS, AND PLATING LAYER-FORMING COMPOSITION例文帳に追加

パターン状金属膜を有する積層体の製造方法、被めっき層形成用組成物 - 特許庁

A first Al layer 94 is laminated and patterned thereon to form the wiring in the circuit.例文帳に追加

その上に、第1Al層94を積層しパターニングして、回路部に配線を形成する。 - 特許庁

例文

MANUFACTURING METHOD OF LAMINATE HAVING PATTERNED METAL FILM AND COMPOSITION FOR FORMING PLATED LAYER例文帳に追加

パターン状金属膜を有する積層体の製造方法、被めっき層形成用組成物 - 特許庁

例文

The active layer is patterned so as to make it possible to access the first sacrificial material.例文帳に追加

活性層は、第1の犠牲材料にアクセスすることを可能にするようにパターニングされる。 - 特許庁

Then, each layer is precisely patterned with the position of the confirmation hole 14 as a reference.例文帳に追加

そして、確認孔14の位置を基準にして、各層のパターニングを精度良く行っている。 - 特許庁

NITRIDE-BASED LIGHT-EMITTING ELEMENT USING PATTERNED LATTICE BUFFER LAYER AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

パターン化された格子緩衝層を用いた窒化物系発光素子及びその製造方法 - 特許庁

To provide a method for producing a mechanically patterned layer of group III-nitride.例文帳に追加

機械的にパターン形成されたIII族窒化物の層を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The dielectric layer 23 is patterned by being separated into the plurality of regions in the one pixel.例文帳に追加

誘電体層23は、一画素内で複数の領域に分かれてパターニングされている。 - 特許庁

PERPENDICULAR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, PERPENDICULAR DOUBLE LAYER PATTERNED MEDIUM AND MANUFACTURING METHOD OF THESE MEDIA例文帳に追加

垂直磁気記録媒体、垂直二層パターンド媒体、および、これら媒体の製造方法 - 特許庁

At least one patterned light transmission aperture is formed in a minimal reflecting layer.例文帳に追加

少なくとも一つのパターン化した透光開口を極小反射層に形成する。 - 特許庁

The low resistant layer B is etched by the RIE and patterned using a photoresist pattern as a mask.例文帳に追加

フォトレジストのパターンをマスクにし、低抵抗層Bをパターニングするため、エッチングをRIEで行う。 - 特許庁

A pixel electrode is patterned in the pixel region 1a above the insulation layer 24.例文帳に追加

絶縁膜24の上部における画素領域1aに、画素電極をパターン形成する。 - 特許庁

An inductor 100 includes a patterned metal layer 102 arranged on an insulating substrate 106.例文帳に追加

インダクタ100は絶縁基板106上に配置されたパターン化金属層102を含む。 - 特許庁

The seed layer is patterned, such as by etching, and the growth of at least one zinc-oxide nanostructure is induced substantially over the patterned seed layer by, for example, exposing the patterned seed layer to zinc vapor in the presence of a trace amount of oxygen.例文帳に追加

エッチングなどによりシード層をパターニングし、例えば微量の酸素存在下における亜鉛蒸気に、パターニングされたシード層をさらすことによって、実質的に、パターニングされたシード層の上において、少なくとも1つの酸化亜鉛のナノ構造の成長が引き起こされる。 - 特許庁

The organic thin film layer includes at least one or more of a hole injecting layer, a hole transport layer, an RGB light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injecting layer, and is patterned by utilizing a laser transfer method.例文帳に追加

有機薄膜層は正孔注入層、正孔輸送層、R、G、B発光層、電子輸送層、電子注入層中の一つ以上を含み、レーザー転写法を利用してパターニングされる。 - 特許庁

In this perpendicular double layer patterned medium, a patterned soft magnetic backing layer 2 is formed on a nonmagnetic base 1, and a substrate 3, an intermediate layer 4 and a magnetic recording layer 5 are successively laminated on a recessed part of the pattern.例文帳に追加

本発明に係る垂直二層パターンド媒体では、非磁性基体1上にパターニングされた軟磁性裏打ち層2が形成され、そのパターンの凹の部分に下地層3、中間層4、および磁気記録層5が順次積層される。 - 特許庁

Next, a non-patterned area is etched and the corresponding areas of the sacrifice layer in which hollows are left, the insulating layer 16, and the conductive layer 14 are removed.例文帳に追加

次に、非パターン領域をエッチングし、空所を残す犠牲層、絶縁層16及び導電層14の対応する領域を除去する。 - 特許庁

A dielectric layer 3A and an upper metal layer 4 that are patterned using the same mask are provided on the lower metal layer 2B.例文帳に追加

下層金属層2Bの上には、同一のマスクを用いてパターニングされた、誘電体層3Aと、上層金属層4とが設けられている。 - 特許庁

The bump conductive layer with at least one bump 314a patterned is formed on the first conductive layer 312.例文帳に追加

少なくとも一つのバンプ314aをパターン形成するバンプ導電層を第1導電層312の上に形成する。 - 特許庁

After a reflection layer 227 is formed, the silicon single crystal layer 260 is patterned, by which micromirrors 220 are formed.例文帳に追加

そして、反射層227形成後、シリコン単結晶層260をパターニングすることにより、微小ミラー220を形成する。 - 特許庁

This blanket insulating layer is patterned by one time etching step, and a spacer wall is formed on the side face of the gate layer.例文帳に追加

このブランケット絶縁層を1回のエッチングステップでパターン化して、前記導電ゲート層の側面にスペーサ壁を形成する。 - 特許庁

The sacrificial film is patterned using, as masks, the barrier layer and the polysilicon layer for a hard mask to form a storage electrode area.例文帳に追加

バリア層とハードマスク用ポリシリコン層をマスクにして犠牲酸化膜をパターニングして格納電極領域を形成する。 - 特許庁

The light absorbing layer 2 is patterned by water treatment, using the photoresist layer 3 with the formed diffraction grating pattern as a mask.例文帳に追加

回折格子パターンが形成されたフォトレジスト層3をマスクにして、水処理にて光吸収層2をパターニングする。 - 特許庁

A fluorine-silicate glass(FSG) layer covers a patterned conductive layer and fills the gaps between the conductive wires.例文帳に追加

フッ素−ケイ酸塩ガラス(FSG)層がパターン付けされた伝導層を覆い、導電性の線のあいだのギャップを満たす。 - 特許庁

Typically, a patterned non-insulation gate layer is provided on the insulation layer to form a gate control type device.例文帳に追加

典型的には、パターニングされた非絶縁性ゲート層が絶縁性層の上に設けられて、ゲート制御式デバイスを形成する。 - 特許庁

The first region is exposed to form a patterned photoresist layer for covering the second region on the polysilicon layer.例文帳に追加

前記第1領域を露出し、前記第2領域を覆うパターン化フォトレジスト層を前記ポリシリコン層上に形成する。 - 特許庁

A sacrificial layer 12 of MgO etc., is formed on a first substrate 11 and patterned, and a support layer 13 of SiO_2 etc., is formed.例文帳に追加

第1基板11にMgOなどの犠牲層12を形成してパターニングし、SiO_2 などの支持層13を形成する。 - 特許庁

The circuit board comprises a first metal layer 14 patterned on a ceramic substrate 11, and a second metal layer 16 patterned with a thickness not less than 0.5 μm.例文帳に追加

セラミック基板11にパターン形成された第一のメタル層14と、厚さ0.5μm以上のパターン形成された第二のメタル層16を有することを特徴とする回路基板である。 - 特許庁

A patterned insulating layer is formed on the SiGe base region and moreover, an emitter is formed on the patterned insulating layer and comes into contact with the SiGe base region through an emitter window aperture.例文帳に追加

SiGeベース領域上にパターン化絶縁層が形成され、更にエミッタがパターン化絶縁層上に形成されて、エミッタ・ウィンドウ開口を通じて、SiGeベース領域と接触する。 - 特許庁

If the patterned photoresist layer has defects, such as gaps etc, the patterned photoresist layer is subjected to for instance an ink jet printing method for filling up the gaps.例文帳に追加

パターン化されたフォトレジスト層が間隙などのような欠陥を有する場合には、間隙を充填するためにパターン化されたフォトレジスト層に例えばインクジェット印刷方法が実行される。 - 特許庁

In the obtained transparent conductive base material, a lower layer of a transparent double layer film comprises the patterned transparent conductive layer 3 having the consecutive pattern, and the water repellent transparent layer 2.例文帳に追加

得られる透明導電性基材では、透明2層膜の下層が、連続したパターンを有するパターン化透明導電層3と、撥水性透明層2とからなる - 特許庁

A conductive layer is formed on the insulating layer 21 and the hole for a via-hole 16, and the conductive layer is patterned to form the second wiring layer and a via-hole 17.例文帳に追加

さらに、この絶縁層21上及びバイアホール用孔16に導体層を形成し、パターニング処理して第2配線層18及びバイアホール17を形成する。 - 特許庁

The patterned resist layer 110 has a first resist layer 102A and a second resist layer 105A which are laminated and the separate layer 104 arranged between them.例文帳に追加

パターン化レジスト層110は、積層された第1のレジスト層102Aおよび第2のレジスト層105Aと、これらの間に配置された分離層104とを有する。 - 特許庁

The circuit board member is constituted of a reinforcement board, an organic layer that is peelable, and a flexible film having a patterned metal layer which are successively laminated, and therein, the patterned metal layer has a maximum width of ≤2 mm.例文帳に追加

補強板、剥離可能な有機物層、金属層からなるパターンを備えた可撓性フィルムがこの順に積層された回路基板用部材であって、該金属層からなるパターンの最大幅を2mm以下とする。 - 特許庁

This process is achieved by printing a conductive post 205 on a first patterned conductive layer, then depositing an unpatterned dielectric layer 207, and then depositing a second patterned conductive layer.例文帳に追加

このプロセスは、第1のパターン化された導電層上に導電ポスト205を印刷し、次にパターン化されていない誘電層207を堆積させ、次に第2のパターン化された導電層を堆積させることによりなし得る。 - 特許庁

A patterned metallic wiring 4 is formed by etching the metallic wiring layer 16 using the patterned photoresist layer 18 and the insulating film 2 as masks, and the photoresist layer 18 is removed and a process is completed.例文帳に追加

そして、パターンニングしたフォトレジスト層18および絶縁膜2をマスクとして金属配線層16をエッチングして、パターンニングした金属配線4を形成し、フォトレジスト層18を除去して工程を完了する。 - 特許庁

The improved photomask has a transparent plate having the layer of a phase shift material(PSM) patterned based on a first configuration and a chromium layer patterned based on a second configuration formed on the patterned PSM layer.例文帳に追加

この改良型のフォトマスクは、自体の上に形成された、第1のコンフィギュレーションに基づいてパターニングされた位相シフト材料(PSM)の層と、パターニングされたPSM層の上に形成された、第2のコンフィギュレーションに基づいてパターニングされたクロム層とを有する透明なプレートを備える。 - 特許庁

Another circuit board member is also constituted of a reinforcement board, an organic layer that is peelable, and a flexible film having a patterned metal layer which are successively laminated, and therein, the patterned metal layer has a section having a maximum width of >2 mm and the distance between the patterned metal layer and a bonding pad is ≥5 mm.例文帳に追加

また、補強板、剥離可能な有機物層、金属層からなるパターンを備えた可撓性フィルムがこの順に積層された回路基板用部材であって、金属層からなるパターンの最大幅が2mmを越える部分と金属層からなるパターンの接合パッド部との距離を5mm以上とする。 - 特許庁

A light emitting device 200 includes: a plurality of light emitting chips 28; a substrate 20 supporting the light emitting chips 28; a first patterned conductive layer 23 facilitating radiation and reflection of light from the light emitting chips 28 and covering the substrate 20; and a second patterned conductive layer 24 on the first patterned conductive layer 23, the second patterned conductive layer locating the light emitting chips 28 thereon.例文帳に追加

発光デバイス200は、複数の発光チップ28と、発光チップ28を支持する基板20と、発光チップ28からの光の放射および反射を容易にする、基板20を覆う第1のパターン化導電層23と、第1のパターン化導電層23上の第2のパターン化導電層24であって、発光チップ28が層上に位置する第2のパターン化導電層24と、を含む。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SURFACE METAL FILM MATERIAL, SURFACE METAL FILM MATERIAL, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED METAL MATERIAL, PATTERNED METAL MATERIAL, AND POLYMER LAYER-FORMING COMPOSITION例文帳に追加

表面金属膜材料の作製方法、表面金属膜材料、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料、及びポリマー層形成用組成物 - 特許庁

The patterned part and the final coating are covered by a transparent layer to protect the patterned part and the final coating, and a key cap structure is obtained from the colored plastic body.例文帳に追加

パターン部分および最終コーティングを透明層で被覆して、パターン部分および最終コーティングを保護し、有色プラスチック本体からキーキャップ構造を得る。 - 特許庁

An oxide layer is patterned on bulk spacer materials 12 and 13, having a thickness equal to the gap between an X-ray mask 1 and the oxide which is to be patterned.例文帳に追加

X線マスクとパターン形成される酸化物との間の間隙の厚みを有するバルク・スペーサ材料の上に、酸化物層がパターン形成される。 - 特許庁

例文

When a patterned part 10 is formed on a substrate having an insulation layer 21 coated with a resist layer 23, an EB reduction projection aligner performs exposure such that an exposed patterned part 10' has a width W' wider than a target width W of the patterned part 10.例文帳に追加

絶縁層21上にレジスト層23が塗布された基板にパターン部10を形成する際、露光後のパターン部10´の幅W´が、目標とするパターン部10の幅Wより広くなるようにEB縮小投影露光機で露光する。 - 特許庁




  
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