「patterned layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Afterwards, before filling the through hole with conductive materials, the conductive layer is patterned.例文帳に追加

その後、貫通孔を導電材料で充填するに先立って、前記導電層がパターニングを受ける。 - 特許庁

A patterned hard mask layer HM is formed on the upper surface of a Low-k film II2.例文帳に追加

Ｌｏｗ−ｋ膜ＩＩ２の上面に、パターニングされたハードマスク層ＨＭが形成される。 - 特許庁

The thin layer gives a hydrophobic surface including much carbon to the patterned low dielectric constant film 102.例文帳に追加

薄層は、パターン形成された低誘電率膜に炭素を多く含む疎水性表面を与える。 - 特許庁

Next, with the use of photolithography technique, the copper film 2 is patterned to form a wiring layer 2a.例文帳に追加

次に、フォトリソグラフィ技術を用いて、銅フィルム２をパターニング処理して配線層２ａを形成する。 - 特許庁

A first mirror is patterned on the thin silicon layer of a first SOI wafer.例文帳に追加

本発明による方法では、第１のミラーが、第１のＳＯＩウェハの薄いシリコン層にパターン化される。 - 特許庁

To provide a fabrication method for producing a mechanically patterned layer of group III-nitrides.例文帳に追加

機械的にパターン形成されたＩＩＩ族窒化物の層を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

PATTERNED MATERIAL LAYER, METHOD OF FORMING THIS, MICRODEVICE AND METHOD OF FORMING THIS例文帳に追加

パターン化された材料層及びこれの形成方法、並びにマイクロデバイス及びこれの製造方法。 - 特許庁

A third electrode layer is settled and patterned in the flattened structure and on the exposed surface.例文帳に追加

第三電極層は、第三層の平面化構造と露出表面に沈着されてパターン化される。 - 特許庁

GUEST-HOST LIQUID CRYSTAL LAYER WITH PATTERNED ELECTRODE DISORDERING DISPLAY FOR PRIVACY PROTECTION例文帳に追加

プライバシーを保護するため表示を混乱させるパターン化された電極のあるゲストホスト液晶層 - 特許庁

The passive depolarizer includes a patterned half wave plate incorporating a monolithic layer of birefringent material.例文帳に追加

パッシブ・デポラライザは、複屈折材料のモノリシック層を組み込んだパターン化半波長板を含む。 - 特許庁

A polysilicon layer is formed on the gate oxide film 2 and patterned to form a gate electrode 3.例文帳に追加

ゲート酸化膜２上にポリシリコン層を形成し、これをパターニングしてゲート電極３とする。 - 特許庁

The patterned metal layer 102 is not limited to metal materials and includes any suitable inductive material.例文帳に追加

パターン化金属層１０２は、金属材料に限定されず、任意の好適な誘導材料を含む。 - 特許庁

Then the film to be patterned is etched by reactive ion etching using the magnetic layer 12a as a mask.例文帳に追加

次に、磁性層１２ａをマスクとして、反応性イオンエッチングによって、被パターニング膜をエッチングする。 - 特許庁

A sacrificial layer 21 is patterned so as to be laminated on a lower electrode 12 on a substrate 10.例文帳に追加

基板１０上の下部電極１２に積層させるように犠牲層２１をパターン形成する。 - 特許庁

A third conductive layer is formed and patterned to form a source/drain by using a third mask.例文帳に追加

第３のマスクを用いて第３の導電層を形成し、パターニングしてソース／ドレインを形成する。 - 特許庁

An alignment mark formed of the red layer 5 is read with the infrared ray to align the blue layer 7, the green layer 9, and the black matrix 14 when they are patterned.例文帳に追加

赤色層５により形成されたアライメントマークを赤外線で読み取り、青色層７、緑色層９、ブラックマトリクス１４のパターニング時のアライメントを行う。 - 特許庁

Due to the existence of the patterned gate layer 140c, new projecting parts are generated on the top face of the insulation layer 270 in the periphery of the chip 900 when the insulation layer 270 is formed.例文帳に追加

これにより、絶縁層２７０を形成した際に、チップ９００の外周部において、絶縁層２７０の上面に新たな凸部が発生する。 - 特許庁

In particular, coloring of the first positive resist layer is preferably performed in the state where a patterned second resist layer is formed on the first positive resist layer.例文帳に追加

特に、前記第一のポジ型レジスト層の着色は、その上にパターン形成した第二のレジスト層を形成した状態で行うことが好ましい。 - 特許庁

The metal-contained layer is patterned to form a constituent element of the semiconductor device, and a semiconductor layer is deposited in contact with the metal-contained layer.例文帳に追加

金属含有層をパターン付けして、半導体デバイスの構成要素を形成し、金属含有層と接触させるために半導体層を付着させる。 - 特許庁

Subsequently, the third patterned layer of the sacrificial substance has an opened portion due to the exposed area of the first electrode layer and formed in the second electrode layer.例文帳に追加

次いで、犠牲物質の第三のパターン化された層は、第一電極層の露出された領域による開口部を備えて、第二電極層に形成される。 - 特許庁

After patterning the silicon oxide layer in accordance with a gate electrode pattern, the polysilicon layer is patterned by dry-etching using a remaining resist layer as a mask.例文帳に追加

シリコンオキサイド層をゲート電極パターンに従ってパターニングした後、残存するレジスト層をマスクとするドライエッチングによりポリシリコン層をパターニングする。 - 特許庁

Then a resist layer 15 is applied onto the polysilicon layer 13 and patterned, and dry etching is carried out, by using the resist layer 15 as a mask to form a polysilicon gate electrode G.例文帳に追加

その後、ポリシリコン層１３上にレジスト層１５を塗布し、パターニングし、レジスト層１５をマスクにドライエッチングすることによりポリシリコンゲート電極Ｇを形成する。 - 特許庁

The laminated composite electrode (12) is provided with a porous carrier electrode layer (20), a thin patterned structure layer 22 (22), and a thin and highly dense electrolyte layer (24).例文帳に追加

積層複合電極（１２）は、多孔質担体電極層（２０）、薄いパターン化構造層２２（２２）、および薄く高密度な電解質層（２４）を備える。 - 特許庁

The photoresist layer patterned is used as an etching mask, and the passivation layer and the insulated layer are etched to expose a side wall of the drain terminal 208a.例文帳に追加

このパターン化したフォトレジスト層をエッチング・マスクとして、前記パシベーション層及び絶縁層をエッチングして、前記ドレイン端子２０８ａの側壁を露出させる。 - 特許庁

A copper foil 1 (main conductor layer) has a nickel plating layer 3 on the whole surface of one side and a thicker patterned nickel plating layer 2 on the surface of the opposite side, and has a gild plating layer 4 on a surface of the nickel plating layer 2 and a copper plating layer 5 (base layer conductor layer) on the surface of the nickel plating layer 3.例文帳に追加

銅箔１（主導体層）の片面全面にニッケルめっき３を施すとともにその反対面にパターン付きのニッケルめっき２をより厚く施し，ニッケルめっき２の表面上に金めっき４を施し，ニッケルめっき３の表面に銅めっき５（基層導体層）を形成する。 - 特許庁

In this step, the reflection layer 2 is etched through the transparent conductive layer 3 as a mask which is already patterned and has etching selectivity.例文帳に追加

このとき、反射層２は、既にパターニングされ、エッチング選択性を有する透明導電層３をマスクとしてエッチングされる。 - 特許庁

After a resist process is carried out, the hard mask 320 is patterned; the polymer layer 330 is etched, and then the etch stop layer 380 is removed.例文帳に追加

レジストプロセスをした後、ハードマスク３２０をパターニングし、ポリマー層３３０をエッチングした後、エッチング停止層３８０を除去する。 - 特許庁

After that, the mask is removed, and an SiGe-containing layer is grown on the patterned silicon layer (110) to produce a photodetector.例文帳に追加

その後、マスクを除去し、パターン形成されたシリコン（１１０）層上にＳｉＧｅ含有層を成長させ、光検知器を製造する。 - 特許庁

The protection film 12, the metal film 8, and an upper layer 6 are anisotropically etched along the patterned resist layer 14 so as to form trenches 15a and 15b.例文帳に追加

そのパターンに沿って保護膜１２と金属膜８と上層６を異方性エッチングし、トレンチ１５ａ、１５ｂを形成する。 - 特許庁

The patterned thin film 23 comprising the plated film is attached to the plated conductive substrate layer 230 through the frame adhesion reinforcement layer 200.例文帳に追加

メッキ膜からなるパターン化薄膜２３は、フレーム密着増強層２００の上からメッキ導通下地層２３０に付着している。 - 特許庁

Then the patterned hard mask is used as a mask to form a first groove corresponding to the outline of the main magnetic pole layer on the insulating layer.例文帳に追加

次にパターンニングされたハードマスクをマスクとして、絶縁層に主磁極層の外郭に対応した第1の溝を形成する。 - 特許庁

A glass board 1, including a patterned chromium layer 2 and a resist layer 3 on a surface, is immersed in an etchant 4 and wet-etched.例文帳に追加

パターニングされたクロム層２及びレジスト層３を表面に有するガラス基板１をエッチング液４に浸しウェットエッチングする。 - 特許庁

Furthermore, at least the layer 43 of the lower part of the layers to be patterned is etched selectively by using the amorphous carbon layer 46 as a mask.例文帳に追加

さらに、アモルファスカーボン膜４６をマスクとして、パターニングすべき膜の少なくとも下層部分４３を選択的にエッチングする。 - 特許庁

The hard mask 320 is patterned after resist processing and the etching stop layer 380 is removed after the polymer layer 330 is etched.例文帳に追加

レジストプロセスをした後、ハードマスク３２０をパターニングし、ポリマー層３３０をエッチングした後、エッチング停止層３８０を除去する。 - 特許庁

The patterned photoresist layer has first recesses and a first through hole that exposes a portion of the dielectric layer.例文帳に追加

パターンニングしたフォトレジスト層は第一凹部と第一貫通孔を備え、前記第一貫通孔は誘電体層の一部を露出させる。 - 特許庁

This crystalline semiconductor film 107 is patterned to obtain an island-shaped semiconductor layer 108 acting as an active layer of a TFT(thin film transistor).例文帳に追加

この結晶質半導体膜１０７をパターニングして、ＴＦＴの活性層となる島状半導体層１０８を得る。 - 特許庁

Thereafter the mask layer 13 is subjected to patterning (etching) by using the patterned photoresist 14 as the mask and then the photoresist layer 14 is removed.例文帳に追加

その後パターニングされたフォトレジスト（１４）をマスクとしてマスク層１３をパターニング（エッチング）し、その後フォトレジスト層１４を除去する。 - 特許庁

The inductor is formed in a first metallization layer and includes a lower layer of aluminum patterned in a desired form and etched.例文帳に追加

そのインダクタは、第１のメタライゼーション層に形成され、所望の形状にパターン化されてエッチングされたアルミニウムの下層を含む。 - 特許庁

After a metal layer is vapor-deposited on a semiconductor substrate 100, the metal layer is patterned to form the metal wiring 101A.例文帳に追加

半導体基板１００上に金属層を蒸着後、その金属層をパターニングして金属配線１０１Ａを形成する。 - 特許庁

A first layer conductor 15 and a conductor adhesive layer 16 are laminated and pressed on the first layer insulating base material Li, and the first layer conductor 15 is patterned to form a first layer conductor pattern 15p.例文帳に追加

第１層絶縁基材Ｌｉに第１層導体１５および導体接着剤層１６を積層プレスし、第１層導体１５をパターニングして、第１層導体パターン１５ｐを形成する。 - 特許庁

A 2nd insulating layer 5 is arranged, which has a semiconductor- layer-top insulating layer 5a of a specified width about at the central part of a semiconductor layer 4 and is also formed to be patterned on a gate insulating layer 3.例文帳に追加

本発明は、半導体層４のほぼ中央部に所定幅の半導体層上絶縁層５ａを有すると共にゲート絶縁層３上にパターン化して形成される第２の絶縁層５を設ける。 - 特許庁

This method produces an integrated circuit structure including the organic insulating layer having a patterned structure, a liner covering the rear side of the patterned structure, and a conductor filling the patterned structure.例文帳に追加

本方法では、パターン化された構造体を有する有機絶縁層と、パターン化された構造体の裏側を覆うライナと、パターン化された構造体を充填する導体とを有する集積回路構造を形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the shielding type MR element provided with a magnetoresistive film comprising a free layer/a non-magnetic layer (barrier layer)/a fixed layer, after a vertical layer is formed on a lower electrode to be patterned and the magnetoresistive film is layered thereon to be patterned, an insulating layer is formed in the periphery of the magnetoresistive film pattern.例文帳に追加

フリー層／非磁性層（バリア層）／固定層を含む磁気抵抗効果膜を備えたシールド型ＭＲ素子の製造方法において、下電極上に縦バイアス層を形成してパターン化すると共に、磁気抵抗効果膜を積層してパターン化した後、磁気抵抗効果膜パターンの周囲に絶縁層を形成する。 - 特許庁

The housing includes: a substrate 10; a primer coating layer 11 formed on a surface of the substrate 10; a patterned layer 13 which is a vacuum coating layer formed on the surface of the primer coating layer 11; and a transparent or semi-transparent coating layer 15 formed on a surface of the patterned layer 13.例文帳に追加

基材１０と、前記基材１０の表面に形成されているプライマー塗料層１１と、前記プライマー塗料層１１の表面に形成されている真空コーティング層であるパターン層１３と、前記パターン層１３の表面に形成されている透明又は半透明な塗料層１５と、を備える。 - 特許庁

The manufacturing method of the patterned medium is characterized in that a seed layer on a substrate is patterned using a bit pattern stamper formed by utilizing self-organization of a self-organized material in track patterns and the magnetic layer is provided on the seed layer.例文帳に追加

トラックパターン内での自己組織化材料の自己組織化を利用して作製したビットパターンスタンパを用いて、基板上のシード層をパターン化し、該シード層上に磁性層を設けることを特徴とするパターンドメディアの製造方法。 - 特許庁